1.一種處理氧化球團的系統(tǒng)，其特征在于，包括：
氣基豎爐，所述氣基豎爐具有氧化球團入口、還原氣噴嘴、金屬化球團出口和爐頂氣出口；
靜電除塵裝置，所述靜電除塵裝置與所述爐頂氣出口相連；
換熱裝置，所述換熱裝置具有氮氣入口、第一高溫氮氣出口、高溫爐頂氣入口和低溫爐頂氣出口，所述氮氣入口與氮氣供給裝置相連，所述高溫爐頂氣入口與所述靜電除塵裝置相連；
第一洗滌除塵裝置，所述第一洗滌除塵裝置與所述低溫爐頂氣出口相連；
脫硫脫碳裝置，所述脫硫脫碳裝置與所述第一洗滌除塵裝置相連；
加熱裝置，所述加熱裝置具有混合還原氣入口和高溫混合還原氣出口，所述混合還原氣入口分別與所述脫硫脫碳裝置和還原氣供給裝置相連，所述高溫混合還原氣出口與所述還原氣噴嘴相連；以及
球團預(yù)熱裝置，所述球團預(yù)熱裝置具有低溫氧化球團入口、高溫氧化球團出口、高溫氮氣入口和低溫氮氣出口，所述高溫氮氣入口與所述第一高溫氮氣出口相連，所述高溫氧化球團出口與所述氧化球團入口相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理氧化球團的系統(tǒng)，其特征在于，進一步包括：
還原氣分配裝置，所述還原氣分配裝置與所述高溫混合還原氣出口相連；
多個環(huán)管，所述多個環(huán)管套設(shè)在所述氣基豎爐的外周壁上并沿所述氣基豎爐的高度方向間隔設(shè)置，每個所述環(huán)管上具有一個還原氣入口和多個還原氣出口，所述還原氣入口與所述還原氣分配裝置相連，所述多個還原氣出口分別與多個設(shè)置在所述氣基豎爐外周壁上的所述還原氣噴嘴相連。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的處理氧化球團的系統(tǒng)，其特征在于，所述加熱裝置還具有低溫氮氣入口和第二高溫氮氣出口，所述系統(tǒng)進一步包括：
第二洗滌除塵裝置，所述第二洗滌除塵裝置的入口與所述球團預(yù)熱裝置的低溫氮氣出口相連；所述第二洗滌除塵裝置的出口與所述加熱裝置的低溫氮氣入口相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的處理氧化球團的系統(tǒng)，其特征在于，所述環(huán)管進一步包括由內(nèi)至外依次套設(shè)的第一環(huán)管、第二環(huán)管和第三環(huán)管，所述第一環(huán)管和所述第三環(huán)管的入口分別與所述第二高溫氮氣出口相連，所述第二環(huán)管的入口與所述還原氣分配裝置相連，所述第二環(huán)管的出口與所述還原氣噴嘴相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理氧化球團的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一環(huán)管和所述第三環(huán)管的出口分別與所述換熱裝置的氮氣入口相連。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的處理氧化球團的系統(tǒng)，其特征在于，所述第一環(huán)管的外壁與所述第二環(huán)管的內(nèi)壁之間和所述第二環(huán)管的外壁與所述第三環(huán)管的內(nèi)壁之間分別通過多孔金屬襯板相連。