本實(shí)用新型涉及稀土冶金領(lǐng)域，特別涉及一種用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

釹鐵硼作為稀土永磁材料的一種具有極高的磁能積和矯頑力，同時(shí)高能量密度的優(yōu)點(diǎn)使釹鐵硼永磁材料在現(xiàn)代工業(yè)和電子技術(shù)中獲得了廣泛應(yīng)用，從而使儀器儀表、電聲電機(jī)、磁選磁化等設(shè)備的小型化、輕量化、薄型化成為可能。釹鐵硼輻射環(huán)即由釹鐵硼制作的圓環(huán)狀永磁材料，它從成本上改變了以往輻射環(huán)型燒結(jié)釹鐵硼產(chǎn)品只能靠磁瓦拼裝的局面，大大提高了該產(chǎn)品的性能，目前釹鐵硼輻射環(huán)的生產(chǎn)工藝主要包括熔煉、制粉、成型和燒結(jié)，在制粉過(guò)程中需要經(jīng)過(guò)氫碎爐及氣磨機(jī)等設(shè)備加工，以減小粉末顆粒大小，其中氫碎爐在每次工作過(guò)后需要快速降溫，以便再次使用。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于克服了上述缺陷，提供一種使用方便，降溫迅速的用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)。

為了解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案為：

一種用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)，包括底座、集水槽、支撐桿和支架，所述底座包括底板、頂板、第一活動(dòng)板、第二活動(dòng)板和氣缸，所述底板頂面設(shè)有第一滑軌，所述頂板底面設(shè)有與第一滑軌平行的第二滑軌，所述第一活動(dòng)板和第二活動(dòng)板于中部相互交叉樞接，所述第一活動(dòng)板兩端分別與底板和頂板樞接，所述第二活動(dòng)板兩端分別滑動(dòng)安裝在第一滑軌和第二滑軌上，所述氣缸安裝在底板上并驅(qū)動(dòng)第二活動(dòng)板底端水平運(yùn)動(dòng)，所述底板下方設(shè)有一個(gè)以上的滾輪，所述集水槽為中空的半圓柱體，所述集水槽開(kāi)口朝上安裝在頂板上，所述集水槽底部設(shè)有出水口，支撐桿數(shù)量為兩個(gè)，所述支撐桿方向朝向豎直安裝在集水槽長(zhǎng)邊的兩端，所述支架固定在支撐桿上，所述支架形狀為向上凸起的圓弧面形，所述支架底部設(shè)有一個(gè)以上的噴頭。

進(jìn)一步的，所述噴頭通過(guò)定型軟管固定在支架上。

進(jìn)一步的，所述滾輪的數(shù)量為四個(gè)，所述四個(gè)滾輪分別設(shè)置在底座底面的四個(gè)頂角處。

進(jìn)一步的，所述出水口上設(shè)有過(guò)濾網(wǎng)。

本實(shí)用新型的有益效果在于：氫碎爐氫碎完畢后將外殼打開(kāi)，可將冷卻裝置移動(dòng)至爐芯下方，通過(guò)噴頭噴水對(duì)爐芯進(jìn)行冷卻，噴頭在支架底面呈圓弧形排布，可對(duì)爐芯全方位噴水，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源，集水槽的高度可通過(guò)底座升降調(diào)節(jié)，以達(dá)到最好的噴水效果。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)的立體圖；

圖2是本實(shí)用新型實(shí)施例用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)的主視圖。

標(biāo)號(hào)說(shuō)明：

1、底座；2、集水槽；3、支撐桿；4、支架；11、底板；12、頂板；

13、第一活動(dòng)板；14、第二活動(dòng)板；15、氣缸；41、噴頭。

具體實(shí)施方式

為詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說(shuō)明。

本實(shí)用新型最關(guān)鍵的構(gòu)思在于：通過(guò)噴頭噴水對(duì)爐芯進(jìn)行冷卻，噴頭在支架底面呈圓弧形排布，可對(duì)爐芯全方位噴水，冷卻效果好。

請(qǐng)參閱圖1至圖2所示，本實(shí)施例的用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)，包括底座1、集水槽2、支撐桿3和支架4，所述底座1包括底板11、頂板12、第一活動(dòng)板13、第二活動(dòng)板14和氣缸15，所述底板11頂面設(shè)有第一滑軌，所述頂板12底面設(shè)有與第一滑軌平行的第二滑軌，所述第一活動(dòng)板13和第二活動(dòng)板14于中部相互交叉樞接，所述第一活動(dòng)板13兩端分別與底板11和頂板12樞接，所述第二活動(dòng)板14兩端分別滑動(dòng)安裝在第一滑軌和第二滑軌上，所述氣缸15安裝在底板11上并驅(qū)動(dòng)第二活動(dòng)板14底端水平運(yùn)動(dòng)，所述底板11下方設(shè)有一個(gè)以上的滾輪，所述集水槽2為中空的半圓柱體，所述集水槽2開(kāi)口朝上安裝在頂板12上，所述集水槽2底部設(shè)有出水口，支撐桿3數(shù)量為兩個(gè)，所述支撐桿3方向朝向豎直安裝在集水槽2長(zhǎng)邊的兩端，所述支架4固定在支撐桿3上，所述支架4形狀為向上凸起的圓弧面形，所述支架4底部設(shè)有一個(gè)以上的噴頭41。

本實(shí)用新型的工作過(guò)程為：先將噴頭41和出水口分別與水泵的進(jìn)出水管連接，在集水槽2內(nèi)裝水，氫碎爐打開(kāi)后將裝置移動(dòng)到氫碎爐下方，打開(kāi)水泵對(duì)爐芯噴水降溫，可通過(guò)控制氣缸15伸縮控制集水槽2及噴水管升降，以調(diào)整噴水高度。

從上述描述可知，本實(shí)用新型的有益效果在于：氫碎爐氫碎完畢后將外殼打開(kāi)，可將冷卻裝置移動(dòng)至爐芯下方，通過(guò)噴頭41噴水對(duì)爐芯進(jìn)行冷卻，噴頭41在支架4底面呈圓弧形排布，可對(duì)爐芯全方位噴水，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽2中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源，集水槽2的高度可通過(guò)底座1升降調(diào)節(jié)，以達(dá)到最好的噴水效果。

進(jìn)一步的，所述噴頭41通過(guò)定型軟管固定在支架4上。

由上述描述可知，噴頭41通過(guò)定型軟管與噴淋管連接，使得噴頭41可任意轉(zhuǎn)動(dòng)并定位，通過(guò)調(diào)整可使每個(gè)噴頭41都朝向爐芯方向，提高冷卻效率。

進(jìn)一步的，所述滾輪的數(shù)量為四個(gè)，所述四個(gè)滾輪分別設(shè)置在底座1底面的四個(gè)頂角處。

進(jìn)一步的，所述支撐桿3為伸縮桿。

由上述描述可知，所述支撐桿3為伸縮桿，可單獨(dú)調(diào)整支架4高度位置，便于爐芯冷卻。

請(qǐng)參照?qǐng)D1至圖2所示，本實(shí)用新型的實(shí)施例一為：

一種用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)，包括底座1、集水槽2、支撐桿3和支架4，所述底座1包括底板11、頂板12、第一活動(dòng)板13、第二活動(dòng)板14和氣缸15，所述底板11頂面設(shè)有第一滑軌，所述頂板12底面設(shè)有與第一滑軌平行的第二滑軌，所述第一活動(dòng)板13和第二活動(dòng)板14于中部相互交叉樞接，所述第一活動(dòng)板13兩端分別與底板11和頂板12樞接，所述第二活動(dòng)板14兩端分別滑動(dòng)安裝在第一滑軌和第二滑軌上，所述氣缸15安裝在底板11上并驅(qū)動(dòng)第二活動(dòng)板14底端水平運(yùn)動(dòng)，所述底板11下方設(shè)有一個(gè)以上的滾輪，所述集水槽2為中空的半圓柱體，所述集水槽2開(kāi)口朝上安裝在頂板12上，所述集水槽2底部設(shè)有出水口，支撐桿3數(shù)量為兩個(gè)，所述支撐桿3方向朝向豎直安裝在集水槽2長(zhǎng)邊的兩端，所述支架4固定在支撐桿3上，所述支架4形狀為向上凸起的圓弧面形，所述支架4底部設(shè)有一個(gè)以上的噴頭41，所述噴頭41通過(guò)定型軟管固定在支架4上，所述滾輪的數(shù)量為四個(gè)，所述四個(gè)滾輪分別設(shè)置在底座1底面的四個(gè)頂角處，所述出水口上設(shè)有過(guò)濾網(wǎng)。

綜上所述，本實(shí)用新型提供的用于旋轉(zhuǎn)式氫碎爐的快速降溫系統(tǒng)，氫碎爐氫碎完畢后將外殼打開(kāi)，可將冷卻裝置移動(dòng)至爐芯下方，通過(guò)噴頭噴水對(duì)爐芯進(jìn)行冷卻，噴頭在支架底面呈圓弧形排布，可對(duì)爐芯全方位噴水，冷卻效果好，并且落下的水留在集水槽中，可再次循環(huán)使用，節(jié)省水資源，集水槽的高度可通過(guò)底座升降調(diào)節(jié)，以達(dá)到最好的噴水效果，噴頭通過(guò)定型軟管與噴淋管連接，使得噴頭可任意轉(zhuǎn)動(dòng)并定位，通過(guò)調(diào)整可使每個(gè)噴頭都朝向爐芯方向，提高冷卻效率，所述支撐桿為伸縮桿，可單獨(dú)調(diào)整支架高度位置，便于爐芯冷卻。

以上所述僅為本實(shí)用新型的實(shí)施例，并非因此限制本實(shí)用新型的專(zhuān)利范圍，凡是利用本實(shí)用新型說(shuō)明書(shū)及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實(shí)用新型的專(zhuān)利保護(hù)范圍內(nèi)。