本實(shí)用新型涉及材料熱處理領(lǐng)域,屬于材料熱處理設(shè)備,具體為一種材料熱處理系統(tǒng)。
背景技術(shù):
熱處理是指材料在固態(tài)下,通過加熱、保溫和冷卻的手段,以獲得預(yù)期組織和性能的一種金屬熱加工工藝。
二十世紀(jì)以來,金屬物理的發(fā)展和其他新技術(shù)的移植應(yīng)用,使金屬熱處理工藝得到更大發(fā)展。一個(gè)顯著的進(jìn)展是1901~1925年,在工業(yè)生產(chǎn)中應(yīng)用轉(zhuǎn)筒爐進(jìn)行氣體滲碳;30年代出現(xiàn)露點(diǎn)電位差計(jì),使?fàn)t內(nèi)氣氛的碳勢(shì)達(dá)到可控,以后又研究出用二氧化碳紅外儀、氧探頭等進(jìn)一步控制爐內(nèi)氣氛碳勢(shì)的方法;60年代,熱處理技術(shù)運(yùn)用了等離子場(chǎng)的作用,發(fā)展了離子滲氮、滲碳工藝 ;激光、電子束技術(shù)的應(yīng)用,又使金屬獲得了新的表面熱處理和化學(xué)熱處理方法。
國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局于2012年10月17日,公開了一件公開號(hào)為CN202492544U,名稱為“一種熱處理設(shè)備”的實(shí)用新型專利,該專利公開了種熱處理設(shè)備,它涉及材料力學(xué)技術(shù)領(lǐng)域,它包含熱處理設(shè)備本體(1),所述的熱處理設(shè)備本體(1)內(nèi)部設(shè)置有加熱系統(tǒng)(2)、冷卻系統(tǒng)(3)和淬火槽(4);熱處理設(shè)備本體(1)的前室頂部設(shè)置有防爆裝置(5)。
現(xiàn)有技術(shù)中的熱處理工藝污染非常大,環(huán)保的激光電子束技術(shù)又非常耗能。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足,本實(shí)用新型提供了一種材料熱處理系統(tǒng)。
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)、加熱區(qū)、淬火區(qū)、回火區(qū)、保溫區(qū)、過渡區(qū)和裝卸區(qū),所述預(yù)處理區(qū)、加熱區(qū)、淬火區(qū)、回火區(qū)、保溫區(qū)、過渡區(qū)和裝卸區(qū)相連接,所述預(yù)處理區(qū)與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)相連,所述回火區(qū)與保溫區(qū)相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
所述加熱區(qū)、淬火區(qū)和回火區(qū)的內(nèi)部加熱系統(tǒng)均為層流等離子加熱器。
所述預(yù)處理區(qū)包括:預(yù)熱區(qū)、干燥區(qū)和除雜區(qū),所述預(yù)熱區(qū)、干燥區(qū)和除雜區(qū)依次連接。
所述回火區(qū)包括:第一回火區(qū)、第二回火區(qū)和第三回火區(qū),所述第一回火區(qū)、第二回火區(qū)和第三回火區(qū)同時(shí)連接在回火區(qū)上。
所述第一回火區(qū)的工作溫度為250-300攝氏度。
所述第二回火區(qū)的工作溫度為350-400攝氏度。
所述第三回火區(qū)的工作溫度為500-800攝氏度。
當(dāng)熱處理后的材料到達(dá)回火區(qū)的時(shí)候,根據(jù)材料相對(duì)應(yīng)的回火溫度選擇回火區(qū)。
本實(shí)用新型的有益效果:
本實(shí)用新型由于采用了層流等離子加熱器避免了在材料熱處理的過程中造成的污染,同時(shí)層流等離子加熱器非常節(jié)能,比起現(xiàn)有技術(shù)中的激光等加熱裝置能耗減少在百分之50以上,同時(shí)由于采用了層流等離子加熱器,使得加熱的溫度區(qū)間控制更加容易,材料熱處理的效率更高。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的工作流程圖;
附圖標(biāo)記
1.預(yù)處理區(qū)、101.預(yù)熱區(qū)、102.干燥區(qū)、103.除雜區(qū)、2.加熱區(qū)、3.淬火區(qū)、4.回火區(qū)、401.第一回火區(qū)、402.第二回火區(qū)、403.第三回火區(qū)、5.保溫區(qū)、6.過渡區(qū)、7.裝卸區(qū)。
具體的實(shí)施方式:
實(shí)施例1:
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7,所述預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7相連接,所述預(yù)處理區(qū)1與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)3相連,所述回火區(qū)4與保溫區(qū)5相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)6相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
實(shí)施例2:
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7,所述預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7相連接,所述預(yù)處理區(qū)1與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)3相連,所述回火區(qū)4與保溫區(qū)5相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)6相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
所述加熱區(qū)2、淬火區(qū)3和回火區(qū)4的內(nèi)部加熱系統(tǒng)均為層流等離子加熱器。
所述預(yù)處理區(qū)1包括:預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103,所述預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103依次連接。
實(shí)施例3:
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7,所述預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7相連接,所述預(yù)處理區(qū)1與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)3相連,所述回火區(qū)4與保溫區(qū)5相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)6相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
所述加熱區(qū)2、淬火區(qū)3和回火區(qū)4的內(nèi)部加熱系統(tǒng)均為層流等離子加熱器。
所述預(yù)處理區(qū)1包括:預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103,所述預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103依次連接。
所述回火區(qū)4包括:第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403,所述第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403同時(shí)連接在回火區(qū)4上。
實(shí)施例4:
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7,所述預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7相連接,所述預(yù)處理區(qū)1與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)3相連,所述回火區(qū)4與保溫區(qū)5相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)6相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
所述加熱區(qū)2、淬火區(qū)3和回火區(qū)4的內(nèi)部加熱系統(tǒng)均為層流等離子加熱器。
所述預(yù)處理區(qū)1包括:預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103,所述預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103依次連接。
所述回火區(qū)4包括:第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403,所述第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403同時(shí)連接在回火區(qū)4上。
所述第一回火區(qū)401的工作溫度為250-300攝氏度。
實(shí)施例5:
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7,所述預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7相連接,所述預(yù)處理區(qū)1與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)3相連,所述回火區(qū)4與保溫區(qū)5相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)6相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
所述加熱區(qū)2、淬火區(qū)3和回火區(qū)4的內(nèi)部加熱系統(tǒng)均為層流等離子加熱器。
所述預(yù)處理區(qū)1包括:預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103,所述預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103依次連接。
所述回火區(qū)4包括:第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403,所述第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403同時(shí)連接在回火區(qū)4上。
所述第一回火區(qū)401的工作溫度為250-300攝氏度。
所述第二回火區(qū)402的工作溫度為350-400攝氏度。
實(shí)施例6:
一種材料熱處理系統(tǒng),其特征在于包括:預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7,所述預(yù)處理區(qū)1、加熱區(qū)2、淬火區(qū)3、回火區(qū)4、保溫區(qū)5、過渡區(qū)6和裝卸區(qū)7相連接,所述預(yù)處理區(qū)1與加熱區(qū)相連,所述加熱區(qū)與淬火區(qū)3相連,所述回火區(qū)4與保溫區(qū)5相連,所述保溫區(qū)與過渡區(qū)6相連,所述過渡區(qū)與裝卸區(qū)相連。
所述加熱區(qū)2、淬火區(qū)3和回火區(qū)4的內(nèi)部加熱系統(tǒng)均為層流等離子加熱器。
所述預(yù)處理區(qū)1包括:預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103,所述預(yù)熱區(qū)101、干燥區(qū)102和除雜區(qū)103依次連接。
所述回火區(qū)4包括:第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403,所述第一回火區(qū)401、第二回火區(qū)402和第三回火區(qū)403同時(shí)連接在回火區(qū)4上。
所述第一回火區(qū)401的工作溫度為250-300攝氏度。
所述第二回火區(qū)402的工作溫度為350-400攝氏度。
所述第三回火區(qū)403的工作溫度為500-800攝氏度。
當(dāng)熱處理后的材料到達(dá)回火區(qū)的時(shí)候,根據(jù)材料相對(duì)應(yīng)的回火溫度選擇回火區(qū)。