本發(fā)明涉及一種打磨裝置，尤其涉及一種馬賽克瓷磚均勻型邊角打磨裝置。

背景技術(shù)：

打磨，是表面修改技術(shù)的一種，一般指借助粗糙物體比如含有較高硬度顆粒的砂紙等來通過摩擦改變材料表面物理性能的一種加工方法，主要目的是為了獲取特定表面粗糙度。把玉器打磨拋光，用粗號打磨，細(xì)號拋光后的玉器很亮。拋光的玻璃，寶石，玉器，不銹鋼，石材，可以達(dá)到鏡面效果。

打磨機(jī)磨頭，解決的是現(xiàn)有的打磨機(jī)磨頭在作業(yè)表面的作業(yè)范圍受到限制，且會在被打磨的表面上留下圈痕的問題。作為改進(jìn)，新型打磨機(jī)磨頭在磨頭罩內(nèi)還設(shè)置有副圓盤和副磨板，副圓盤在主圓盤的帶動下相對于磨頭罩轉(zhuǎn)動；副圓盤通過另一連桿機(jī)構(gòu)與副磨板相接；轉(zhuǎn)動的副圓盤通過另一連桿機(jī)構(gòu)帶動副磨板相對于磨頭罩作直線往復(fù)運動。新型打磨機(jī)磨頭改變了打磨機(jī)磨頭在作業(yè)表面的作業(yè)范圍受到限制的不足，提供了一種無作業(yè)限制的磨板平動的磨頭；由于磨板平動，該新型打磨機(jī)磨頭不會在被打磨的表面留下圈痕。

現(xiàn)有的馬賽克瓷磚邊角打磨裝置存在打磨不均勻的缺點，因此亟需研發(fā)一種打磨均勻的馬賽克瓷磚均勻型邊角打磨裝置。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

(1)要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明為了克服現(xiàn)有的馬賽克瓷磚邊角打磨裝置打磨不均勻的缺點，本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種打磨均勻的馬賽克瓷磚均勻型邊角打磨裝置。

(2)技術(shù)方案

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了這樣一種馬賽克瓷磚均勻型邊角打磨裝置，包括有打磨箱、上擺動座、橢球凸輪、連接塊、活塞、缸體、第一彈簧、移動桿、拇指氣缸、固定板、第二彈簧、第二滑塊、第二滑軌、連桿、第一滑軌、第二打磨板、第一滑塊、接觸輪、楔形塊、第一打磨板、電動推桿、第一氣缸、下擺動座和支桿；打磨箱內(nèi)左側(cè)上方設(shè)有上擺動座，上擺動座前側(cè)鉸接連接有橢球凸輪，打磨箱內(nèi)底部設(shè)有下擺動座和支桿，下擺動座位于支桿左方，下擺動座上鉸接連接有第一氣缸，第一氣缸頂部連接有連接塊，連接塊與橢球凸輪前側(cè)下方鉸接連接，支桿上端設(shè)有缸體，缸體內(nèi)設(shè)有活塞，活塞左側(cè)與橢球凸輪右側(cè)接觸，活塞右側(cè)上下兩方與缸體內(nèi)右側(cè)之間均連接有第一彈簧，活塞右側(cè)中部設(shè)有移動桿，移動桿右側(cè)的頂部和底部對稱式設(shè)有電動推桿，電動推桿均連接有第一打磨板，下方的第一打磨板下端設(shè)有楔形塊，打磨箱內(nèi)后壁上下兩方均連接有拇指氣缸，打磨箱內(nèi)右側(cè)設(shè)有第一滑軌，第一滑軌上設(shè)有第一滑塊，第一滑塊左側(cè)設(shè)有第二打磨板，第二打磨板下端設(shè)有接觸輪，接觸輪位于楔形塊右方，第一滑軌左側(cè)上端設(shè)有第二滑軌，第二滑軌上設(shè)有第二滑塊，下方的第二滑塊與上方的第一滑塊之間連接有連桿，第二滑塊左側(cè)設(shè)有第二打磨板，第二滑軌上端設(shè)有固定板，固定板底部與第二打磨板上端之間連接有第二彈簧。

優(yōu)選地，還包括有鋸齒，第一打磨板內(nèi)右側(cè)均勻設(shè)有鋸齒，鋸齒的形狀為三棱錐，鋸齒的底面積總和與第一打磨板的內(nèi)右側(cè)表面積相等，鋸齒的底面邊長為5mm。

優(yōu)選地，還包括有凸起，第二打磨板左側(cè)均勻設(shè)有凸起，凸起的形狀為半球形，凸起的底面積總和占第二打磨板左側(cè)表面積的三分之二，凸起的直徑為10mm。

優(yōu)選地，還包括有橡膠墊，拇指氣缸內(nèi)左右兩側(cè)均設(shè)有橡膠墊，橡膠墊的長度為5cm，橡膠墊的形狀為長方體，橡膠墊的厚度為1cm，橡膠墊的材質(zhì)為軟質(zhì)布料。

優(yōu)選地，還包括有收集框，打磨箱內(nèi)底部右方設(shè)有收集框，收集框位于第一打磨板下方，收集框位于瓷磚的左側(cè)下方，收集框的形狀為空心無頂長方體形，收集框的長度占打磨箱內(nèi)底部長度的十分之一。

優(yōu)選地，還包括有斜桿，打磨箱內(nèi)底部設(shè)有斜桿，斜桿上端與打磨箱內(nèi)右側(cè)連接，斜桿位于收集框右方，斜桿位于第一滑軌下方，斜桿的形狀為傾斜狀，斜桿的長度為40cm。

優(yōu)選地，還包括有保護(hù)罩，固定板左端設(shè)有保護(hù)罩，保護(hù)罩右端為傾斜狀，保護(hù)罩右端與固定板左端契合，保護(hù)罩位于第二打磨板和瓷磚的上方，保護(hù)罩的長度為50cm。

優(yōu)選地，還包括有定時器，保護(hù)罩頂部左方設(shè)有定時器，定時器的底部與保護(hù)罩頂部契合，定時器的底面積占保護(hù)罩頂部表面積的五分之一，定時器的形狀為長方體形。

優(yōu)選地，還包括有保護(hù)框，保護(hù)罩頂部左端設(shè)有保護(hù)框，保護(hù)框左側(cè)與保護(hù)罩左端對齊，定時器位于保護(hù)框內(nèi)，保護(hù)框的長度大于定時器的長度，保護(hù)框的高度大于定時器的高度。

工作原理：當(dāng)需要對馬賽克瓷磚的邊角進(jìn)行打磨時，將瓷磚放在拇指氣缸上，啟動拇指氣缸工作，夾緊瓷磚后，啟動第一氣缸伸長，帶動連接塊向上運動，帶動橢球凸輪逆時針轉(zhuǎn)動，帶動活塞向右運動，第一彈簧縮短，帶動移動桿向右運動，帶動電動推桿和第一打磨板向右運動，當(dāng)?shù)谝淮蚰グ褰佑|到瓷磚的邊角時，第一氣缸停止伸長。啟動電動推桿伸縮運動，帶動上方的第一打磨板向上或向下交替運動，從而反復(fù)打磨瓷磚的左上角，帶動下方的第一打磨板向下或向上交替運動，從而反復(fù)打磨瓷磚的左下角。下方的第一打磨板帶動楔形塊向下或向上交替運動，帶動接觸輪向上運動時，帶動下方的第二打磨板和第一滑塊向上運動，帶動連桿向上運動，帶動上方的第二打磨板和第二滑塊向上運動，第二彈簧縮短，或在第二彈簧彈力的作用下，第二彈簧伸長，帶動上方的第二打磨板和第二滑塊向下運動，帶動連桿向下運動，帶動下方的第二打磨板和第一滑塊向下運動，因而第二打磨板均向上或向上交替轉(zhuǎn)動，從而將瓷磚的右上角和右下角反復(fù)打磨。當(dāng)瓷磚的邊角打磨到一定程度時，啟動第一氣缸縮短，帶動連接塊向下運動，帶動橢球凸輪順時針轉(zhuǎn)動復(fù)位后，第一氣缸停止縮短。在第一彈簧彈力的作用下，第一彈簧伸長，帶動活塞向左運動復(fù)位，帶動移動桿、電動推桿和第一打磨板向左運動復(fù)位。啟動電動推桿伸長或縮短，帶動第一打磨板向上或向下運動復(fù)位后，電動推桿停止工作。在第二彈簧彈力的作用下，第二彈簧帶動第二打磨板運動復(fù)位。

因為還包括有鋸齒，第一打磨板內(nèi)右側(cè)均勻設(shè)有鋸齒，鋸齒的形狀為三棱錐，鋸齒的底面積總和與第一打磨板的內(nèi)右側(cè)表面積相等，鋸齒的底面邊長為5mm，所以可以更好地打磨瓷磚的左上角和左下角，使打磨得更均勻。

因為還包括有凸起，第二打磨板左側(cè)均勻設(shè)有凸起，凸起的形狀為半球形，凸起的底面積總和占第二打磨板左側(cè)表面積的三分之二，凸起的直徑為10mm，所以可以更好地打磨瓷磚的右上角和右下角，可以快速地將瓷磚打磨得更均勻。

因為還包括有橡膠墊，拇指氣缸內(nèi)左右兩側(cè)均設(shè)有橡膠墊，橡膠墊的長度為5cm，橡膠墊的形狀為長方體，橡膠墊的厚度為1cm，橡膠墊的材質(zhì)為軟質(zhì)布料，所以可以避免拇指氣缸磨損瓷磚頂部和底部。

優(yōu)選地，還包括有收集框，打磨箱內(nèi)底部右方設(shè)有收集框，收集框位于第一打磨板下方，收集框位于瓷磚的左側(cè)下方，收集框的形狀為空心無頂長方體形，收集框的長度占打磨箱內(nèi)底部長度的十分之一，所以可以將瓷磚打磨時產(chǎn)生的碎屑收集起來，避免瓷磚打磨時弄臟打磨箱。

優(yōu)選地，還包括有斜桿，打磨箱內(nèi)底部設(shè)有斜桿，斜桿上端與打磨箱內(nèi)右側(cè)連接，斜桿位于收集框右方，斜桿位于第一滑軌下方，斜桿的形狀為傾斜狀，斜桿的長度為40cm，可以起到固定平衡打磨箱的作用。

優(yōu)選地，還包括有保護(hù)罩，固定板左端設(shè)有保護(hù)罩，保護(hù)罩右端為傾斜狀，保護(hù)罩右端與固定板左端契合，保護(hù)罩位于第一打磨板和瓷磚的上方，保護(hù)罩的長度為50cm，可以保護(hù)第一打磨板和瓷磚不被外力損壞。

優(yōu)選地，還包括有定時器，保護(hù)罩頂部左方設(shè)有定時器，定時器的底部與保護(hù)罩頂部契合，定時器的底面積占保護(hù)罩頂部表面積的五分之一，定時器的形狀為長方體形，可以定時打磨瓷磚，避免打磨不到位或打磨過度，可以更好地打磨瓷磚。

優(yōu)選地，還包括有保護(hù)框，保護(hù)罩頂部左端設(shè)有保護(hù)框，保護(hù)框左側(cè)與保護(hù)罩左端對齊，定時器位于保護(hù)框內(nèi)，保護(hù)框的長度大于定時器的長度，保護(hù)框的高度大于定時器的高度，可以保護(hù)定時器不被損壞。

(3)有益效果

本發(fā)明采用第一打磨板和第二打磨板，可以同時對瓷磚的左上角、左下角、右上角和右下角四個邊角進(jìn)行打磨，加快了瓷磚邊角打磨的速度，而且達(dá)到了打磨均勻的效果。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的第一種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本發(fā)明拇指氣缸的第一種右視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是本發(fā)明的第二種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是本發(fā)明的第三種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是本發(fā)明拇指氣缸的第二種右視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是本發(fā)明的第四種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7是本發(fā)明的第五種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖8是本發(fā)明的第六種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖9是本發(fā)明的第七種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

圖10是本發(fā)明的第八種主視結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖中的標(biāo)記為：1-打磨箱，2-上擺動座，3-橢球凸輪，4-連接塊，5-活塞，6-缸體，7-第一彈簧，8-移動桿，9-瓷磚，10-拇指氣缸，11-固定板，12-第二彈簧，13-第二滑塊，14-第二滑軌，15-連桿，16-第一滑軌，17-第二打磨板，18-第一滑塊，19-接觸輪，20-楔形塊，21-第一打磨板，22-電動推桿，23-第一氣缸，24-下擺動座，25-支桿，26-鋸齒，27-凸起，28-橡膠墊，29-收集框，30-斜桿，31-保護(hù)罩，32-定時器，33-保護(hù)框。

具體實施方式

下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的說明。

實施例1

一種馬賽克瓷磚均勻型邊角打磨裝置，如圖1-10所示，包括有打磨箱1、上擺動座2、橢球凸輪3、連接塊4、活塞5、缸體6、第一彈簧7、移動桿8、拇指氣缸10、固定板11、第二彈簧12、第二滑塊13、第二滑軌14、連桿15、第一滑軌16、第二打磨板17、第一滑塊18、接觸輪19、楔形塊20、第一打磨板21、電動推桿22、第一氣缸23、下擺動座24和支桿25；打磨箱1內(nèi)左側(cè)上方設(shè)有上擺動座2，上擺動座2前側(cè)鉸接連接有橢球凸輪3，打磨箱1內(nèi)底部設(shè)有下擺動座24和支桿25，下擺動座24位于支桿25左方，下擺動座24上鉸接連接有第一氣缸23，第一氣缸23頂部連接有連接塊4，連接塊4與橢球凸輪3前側(cè)下方鉸接連接，支桿25上端設(shè)有缸體6，缸體6內(nèi)設(shè)有活塞5，活塞5左側(cè)與橢球凸輪3右側(cè)接觸，活塞5右側(cè)上下兩方與缸體6內(nèi)右側(cè)之間均連接有第一彈簧7，活塞5右側(cè)中部設(shè)有移動桿8，移動桿8右側(cè)的頂部和底部對稱式設(shè)有電動推桿22，電動推桿22均連接有第一打磨板21，下方的第一打磨板21下端設(shè)有楔形塊20，打磨箱1內(nèi)后壁上下兩方均連接有拇指氣缸10，打磨箱1內(nèi)右側(cè)設(shè)有第一滑軌16，第一滑軌16上設(shè)有第一滑塊18，第一滑塊18左側(cè)設(shè)有第二打磨板17，第二打磨板17下端設(shè)有接觸輪19，接觸輪19位于楔形塊20右方，第一滑軌16左側(cè)上端設(shè)有第二滑軌14，第二滑軌14上設(shè)有第二滑塊13，下方的第二滑塊13與上方的第一滑塊18之間連接有連桿15，第二滑塊13左側(cè)設(shè)有第二打磨板17，第二滑軌14上端設(shè)有固定板11，固定板11底部與第二打磨板17上端之間連接有第二彈簧12。

還包括有鋸齒26，第一打磨板21內(nèi)右側(cè)均勻設(shè)有鋸齒26，鋸齒26的形狀為三棱錐，鋸齒26的底面積總和與第一打磨板21的內(nèi)右側(cè)表面積相等，鋸齒26的底面邊長為5mm。

還包括有凸起27，第二打磨板17左側(cè)均勻設(shè)有凸起27，凸起27的形狀為半球形，凸起27的底面積總和占第二打磨板17左側(cè)表面積的三分之二，凸起27的直徑為10mm。

還包括有橡膠墊28，拇指氣缸10內(nèi)左右兩側(cè)均設(shè)有橡膠墊28，橡膠墊28的長度為5cm，橡膠墊28的形狀為長方體，橡膠墊28的厚度為1cm，橡膠墊28的材質(zhì)為軟質(zhì)布料。

還包括有收集框29，打磨箱1內(nèi)底部右方設(shè)有收集框29，收集框29位于第一打磨板21下方，收集框29位于瓷磚9的左側(cè)下方，收集框29的形狀為空心無頂長方體形，收集框29的長度占打磨箱1內(nèi)底部長度的十分之一。

還包括有斜桿30，打磨箱1內(nèi)底部設(shè)有斜桿30，斜桿30上端與打磨箱1內(nèi)右側(cè)連接，斜桿30位于收集框29右方，斜桿30位于第一滑軌16下方，斜桿30的形狀為傾斜狀，斜桿30的長度為40cm。

還包括有保護(hù)罩31，固定板11左端設(shè)有保護(hù)罩31，保護(hù)罩31右端為傾斜狀，保護(hù)罩31右端與固定板11左端契合，保護(hù)罩31位于第二打磨板17和瓷磚9的上方，保護(hù)罩31的長度為50cm。

還包括有定時器32，保護(hù)罩31頂部左方設(shè)有定時器32，定時器32的底部與保護(hù)罩31頂部契合，定時器32的底面積占保護(hù)罩31頂部表面積的五分之一，定時器32的形狀為長方體形。

還包括有保護(hù)框33，保護(hù)罩31頂部左端設(shè)有保護(hù)框33，保護(hù)框33左側(cè)與保護(hù)罩31左端對齊，定時器32位于保護(hù)框33內(nèi)，保護(hù)框33的長度大于定時器32的長度，保護(hù)框33的高度大于定時器32的高度。

工作原理：當(dāng)需要對馬賽克瓷磚9的邊角進(jìn)行打磨時，將瓷磚9放在拇指氣缸10上，啟動拇指氣缸10工作，夾緊瓷磚9后，啟動第一氣缸23伸長，帶動連接塊4向上運動，帶動橢球凸輪3逆時針轉(zhuǎn)動，帶動活塞5向右運動，第一彈簧7縮短，帶動移動桿8向右運動，帶動電動推桿22和第一打磨板21向右運動，當(dāng)?shù)谝淮蚰グ?1接觸到瓷磚9的邊角時，第一氣缸23停止伸長。啟動電動推桿22伸縮運動，帶動上方的第一打磨板21向上或向下交替運動，從而反復(fù)打磨瓷磚9的左上角，帶動下方的第一打磨板21向下或向上交替運動，從而反復(fù)打磨瓷磚9的左下角。下方的第一打磨板21帶動楔形塊20向下或向上交替運動，帶動接觸輪19向上運動時，帶動下方的第二打磨板17和第一滑塊18向上運動，帶動連桿15向上運動，帶動上方的第二打磨板17和第二滑塊13向上運動，第二彈簧12縮短，或在第二彈簧12彈力的作用下，第二彈簧12伸長，帶動上方的第二打磨板17和第二滑塊13向下運動，帶動連桿15向下運動，帶動下方的第二打磨板17和第一滑塊18向下運動，因而第二打磨板17均向上或向上交替轉(zhuǎn)動，從而將瓷磚9的右上角和右下角反復(fù)打磨。當(dāng)瓷磚9的邊角打磨到一定程度時，啟動第一氣缸23縮短，帶動連接塊4向下運動，帶動橢球凸輪3順時針轉(zhuǎn)動復(fù)位后，第一氣缸23停止縮短。在第一彈簧7彈力的作用下，第一彈簧7伸長，帶動活塞5向左運動復(fù)位，帶動移動桿8、電動推桿22和第一打磨板21向左運動復(fù)位。啟動電動推桿22伸長或縮短，帶動第一打磨板21向上或向下運動復(fù)位后，電動推桿22停止工作。在第二彈簧12彈力的作用下，第二彈簧12帶動第二打磨板17運動復(fù)位。

因為還包括有鋸齒26，第一打磨板21內(nèi)右側(cè)均勻設(shè)有鋸齒26，鋸齒26的形狀為三棱錐，鋸齒26的底面積總和與第一打磨板21的內(nèi)右側(cè)表面積相等，鋸齒26的底面邊長為5mm，所以可以更好地打磨瓷磚9的左上角和左下角，使打磨得更均勻。

因為還包括有凸起27，第二打磨板17左側(cè)均勻設(shè)有凸起27，凸起27的形狀為半球形，凸起27的底面積總和占第二打磨板17左側(cè)表面積的三分之二，凸起27的直徑為10mm，所以可以更好地打磨瓷磚9的右上角和右下角，可以快速地將瓷磚9打磨得更均勻。

因為還包括有橡膠墊28，拇指氣缸10內(nèi)左右兩側(cè)均設(shè)有橡膠墊28，橡膠墊28的長度為5cm，橡膠墊28的形狀為長方體，橡膠墊28的厚度為1cm，橡膠墊28的材質(zhì)為軟質(zhì)布料，所以可以避免拇指氣缸10磨損瓷磚9頂部和底部。

還包括有收集框29，打磨箱1內(nèi)底部右方設(shè)有收集框29，收集框29位于第一打磨板21下方，收集框29位于瓷磚9的左側(cè)下方，收集框29的形狀為空心無頂長方體形，收集框29的長度占打磨箱1內(nèi)底部長度的十分之一，所以可以將瓷磚9打磨時產(chǎn)生的碎屑收集起來，避免瓷磚9打磨時弄臟打磨箱1。

還包括有斜桿30，打磨箱1內(nèi)底部設(shè)有斜桿30，斜桿30上端與打磨箱1內(nèi)右側(cè)連接，斜桿30位于收集框29右方，斜桿30位于第一滑軌16下方，斜桿30的形狀為傾斜狀，斜桿30的長度為40cm，可以起到固定平衡打磨箱1的作用。

還包括有保護(hù)罩31，固定板11左端設(shè)有保護(hù)罩31，保護(hù)罩31右端為傾斜狀，保護(hù)罩31右端與固定板11左端契合，保護(hù)罩31位于第一打磨板21和瓷磚9的上方，保護(hù)罩31的長度為50cm，可以保護(hù)第一打磨板21和瓷磚9不被外力損壞。

還包括有定時器32，保護(hù)罩31頂部左方設(shè)有定時器32，定時器32的底部與保護(hù)罩31頂部契合，定時器32的底面積占保護(hù)罩31頂部表面積的五分之一，定時器32的形狀為長方體形，可以定時打磨瓷磚9，避免打磨不到位或打磨過度，可以更好地打磨瓷磚9。

還包括有保護(hù)框33，保護(hù)罩31頂部左端設(shè)有保護(hù)框33，保護(hù)框33左側(cè)與保護(hù)罩31左端對齊，定時器32位于保護(hù)框33內(nèi)，保護(hù)框33的長度大于定時器32的長度，保護(hù)框33的高度大于定時器32的高度，可以保護(hù)定時器32不被損壞。

以上所述實施例僅表達(dá)了本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形、改進(jìn)及替代，這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。因此，本發(fā)明專利的保護(hù)范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。