本發(fā)明涉及一種立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性的方法，屬超硬材料應用領域。

背景技術：

金剛石和立方氮化硼是已知的自然界最硬的兩種材料，人們將它們歸類為超硬材料。立方氮化硼是硬度僅次于金剛石的材料，其減磨耐磨性，熱穩(wěn)定性，對黑色金屬的化學惰性等都優(yōu)于金剛石，因而工業(yè)應用越來越廣泛。

近年來現(xiàn)代加工制造業(yè)的發(fā)展對切削刀具提出了更高的要求，尤其是一些難加工材料(如鎳基合金、鈦合金、淬硬鋼，高硅鋁合金等)的高效高精度加工已經(jīng)超出了一般加工刀具的能力范圍，所以超硬、高耐磨、耐沖擊、抗崩刃、能適應高速高溫加工的切削刀具受到使用者的歡迎；將高溫高壓條件下獲得的聚晶立方氮化硼切割、研磨加工、釬焊而成的超硬切削刀具迎合了市場的這一需求，成為高效高精度加工難加工材料的首選工具；聚晶立方氮化硼超硬切削刀具的出現(xiàn)也將高速切削刀具提高到一個更高的標準。然而昂貴的價格和簡單的刀具形狀使得聚晶立方氮化硼超硬切削刀具難以大量應用，故將超硬立方氮化硼材料作為顆粒添加劑或涂層與傳統(tǒng)硬質合金刀具相結合是現(xiàn)代硬質合金的重要發(fā)展方向之一。

然而立方氮化硼作為超硬顆粒添加劑與傳統(tǒng)硬質合金刀具相結合面臨著極大的挑戰(zhàn)：陶瓷性的立方氮化硼超硬顆粒不被硬質合金中的Co基金屬粘結相潤濕，反而易被液態(tài)Co金屬粘結相熔蝕，破壞其結構和性能；在常規(guī)硬質合金的液相燒結溫度(≥1400℃)下，立方氮化硼會向低硬度的六方氮化硼發(fā)生相轉變；直接將立方氮化硼顆粒與硬質合金相結合難以實現(xiàn)硬質合金的改性。因此要想通過添加超硬立方氮化硼顆粒材料使硬質合金的性能得到提高，應先對立方氮化硼顆粒進行表面金屬化改性，將立方氮化硼顆粒熱穩(wěn)定溫度提高到1400℃。

超硬粉體的表面金屬化改性在國內(nèi)外已有一些研究，然而都是針對較粗粒度的超硬粉體：現(xiàn)有表面金屬化改性的立方氮化硼顆粒的粒度一般在10μm以上，主要用于石材加工工具、石油和天然氣勘探開采鉆具、礦用和建筑工程工具和聚晶立方氮化硼切削刀具等領域，改性方法也僅限于用化學方法進行表面金屬化改性；而用于制備立方氮化硼與硬質合金復合切削刀具的立方氮化硼微粉的粒度小于3.0μm，通過物理氣相沉積方法(磁控濺射或射頻濺射)進行立方氮化硼微粉顆粒表面金屬 化改性的研究開發(fā)與應用未見報道。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術中存在的不足，提出一種使立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性的物理氣相沉積方法，利用物理氣相沉積方法解決超硬立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性這一難題。

本發(fā)明的具體實施方法是通過以下方式實現(xiàn)的：立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性的原料如下：立方氮化硼微粉顆粒，粒度小于或等于3.0μm；碳化鎢粉，粒度0.2～0.5μm；鈷粉，粒度0.2～3.0μm。

本發(fā)明的立方氮化硼(cBN)微粉顆粒表面金屬化改性方法，包括：1)物理氣相沉積鍍膜：采用物理氣相沉積(磁控濺射或射頻濺射)法在立方氮化硼微粉顆粒表面鍍金屬膜，鍍膜過程主要包括：設定物理氣相沉積過程參數(shù)，將立方氮化硼微粉裝入滾筒式沉積臺，然后進行物理氣相沉積鍍膜，時間依具體情況而定；2)真空熱處理：鍍膜后將微粉顆粒真空熱處理；3)滾動球磨混合：與硬質合金粉體混合球磨。

一種立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性的方法，包括以下步驟：

(1)采用物理氣相沉積法在立方氮化硼微粉顆粒表面鍍膜，在物理氣相沉積設備的鍍膜室裝入金屬或合金陰極靶材，然后將立方氮化硼微粉放入滾筒式沉積臺；關閉鍍膜室門，設定氣相沉積參數(shù)，進行物理氣相沉積鍍膜；

(2)將鍍膜后的立方氮化硼微粉在真空熱處理爐中進行熱處理，即得到表面金屬化改性的立方氮化硼顆粒粉體。

本方法在采用物理氣相沉積法在立方氮化硼微粉顆粒表面鍍膜前，還可包括將立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理的步驟。

本發(fā)明方法中，采用的立方氮化硼微粉的費氏粒度≤3.0μm。放入立方氮化硼微粉的重量可為50～1500g。

所述的陰極靶材可為一種或多種金屬，優(yōu)選為金屬鎢(W)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、釩(V)、鉻(Cr)、鈷(Co)、鎳(Ni)、鋁(Al)單質或其合金。陰極靶材均采用圓形平面靶材，直徑尺寸為50～150mm。

物理氣相沉積法包括磁控濺射法和射頻濺射法。其中，陰極靶材為導電磁性金屬，如鎢、鉬、鈦等時，選擇采用直流電源磁控濺射法；陰極靶材為導電非磁性金屬，如鎳、鋁等時，采用交流電源射頻濺射法。

所述的物理氣相沉積設備包括真空系統(tǒng)、鍍膜室、濺射靶材陰極(數(shù)量可為2～4個)、兩端開口的滾筒式沉積臺、振動系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等。

物理氣相沉積過程的參數(shù)可優(yōu)選設定為：預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，鍍膜過程中濺射氣壓設定在0.1～10Pa；樣品加熱溫度為100～400℃；靶材功率密度范圍為5～30W/cm²；滾筒式沉積臺的轉速為12～50r/min；振動系統(tǒng)的振動頻率為10～50Hz；鍍膜時間為0.5～20h，時間可依具體情況而定。

所述的陰極靶材可為一種或多種靶材；當陰極靶材為一種金屬或合金靶材時，立方氮化硼微粉顆粒表面的金屬膜層為單層鍍膜；當陰極靶材為兩種以上不同的金屬或合金靶材時，兩種以上靶材交替沉積，得到的金屬膜層為多層，或者兩種以上靶材共沉積，得到的金屬膜層為合金層。

鍍膜后的立方氮化硼微粉熱處理是在真空下進行的，真空度可控制在1×10^-5～1×10^-3Pa的范圍內(nèi)。熱處理溫度依具體的粉體類型而定，一般設定在400～1400℃的范圍內(nèi)，熱處理保溫時間一般設定為20～120min，隨爐冷卻，熱處理后得到表面金屬化改性的立方氮化硼微粉。

上述方法在制備用于成形、燒結超硬合金的混合料中的應用。立方氮化硼微粉經(jīng)過物理氣相沉積鍍膜、真空熱處理后，得到表面金屬化改性的立方氮化硼顆粒粉體；然后將表面金屬化改性的立方氮化硼顆粒粉體與硬質合金粉體進行滾動球磨混合，得到用于成形、燒結的混合料。

在制備用于成形、燒結的混合料時，將表面金屬化改性的立方氮化硼微粉與WC粉和鈷粉進行滾動球磨混合，然后將球磨后的料漿真空干燥。優(yōu)選的，將表面金屬化改性的立方氮化硼微粉與0.2～0.5μm的WC粉、0.2～3.0μm的鈷粉以5～60vol％cBN、40～95vol％[WC-(6～14)wt％Co]的配比在酒精中進行滾動球磨混合，磨球為硬質合金球，球料比為2～4：1，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間為2～60h，然后將球磨后的料漿真空干燥，即得可用于成形、燒結的混合料。

本發(fā)明解決了立方氮化硼微粉顆粒表面物理氣相沉積法(磁控濺射或射頻濺射)鍍膜的難題，在粒度≤3.0μm的立方氮化硼微粉顆粒表面均勻包覆了單層或多層金屬或合金薄膜，提高了立方氮化硼微粉的熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性，有利于超硬立方氮化硼微粉的廣泛應用，也為立方氮化硼微粉顆粒強化硬質合金制備高硬度、超耐磨、耐沖擊、高效金屬切削刀具展現(xiàn)了美好的前景。該方法環(huán)境友好、節(jié)能、效率高、效果好。

附圖說明

圖1為未鍍膜立方氮化硼微粉顆粒的SEM形貌；

圖2為經(jīng)過真空熱處理，表面包覆Mo膜的立方氮化硼微粉顆粒的SEM形貌；

圖3為球磨60h球磨混合料中表面包覆Mo膜的立方氮化硼微粉顆粒的SEM形 貌。

具體實施方式

本發(fā)明的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性的方法，包括：

1、物理氣相沉積鍍膜：在靶材室裝入靶材，陰極靶材均采用圓形平面靶材，這里的靶材可為多種金屬或合金，本發(fā)明優(yōu)選的金屬或合金有鎢(W)、鉬(Mo)、鈦(Ti)、釩(V)、鉻(Cr)、鈷(Co)、鎳(Ni)、鋁(Al)中的至少一種；然后稱取費氏粒度小于等于3.0μm的立方氮化硼微粉50～1500g，將其放入物理氣相沉積設備的滾筒式沉積臺；關閉鍍膜室門，設定氣相沉積參數(shù)：預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，濺射氣壓維持在0.1～10Pa；樣品加熱溫度設定在100～400℃的范圍內(nèi)；靶材功率密度設定在5～30W/cm²的范圍內(nèi)；滾筒式沉積臺的轉速設定在12～50r/min的范圍內(nèi)；振動系統(tǒng)的振動頻率設定在10～50Hz的范圍；鍍膜時間為0.5～20h，具體時間根據(jù)實際需要調整。其中，對于導電磁性金屬(如鎢、鉬、鈦等)靶材，鍍膜選擇直流電源磁控濺射，對于導電非磁性金屬(如鎳、鋁等)靶材，鍍膜采用交流電源射頻濺射。

立方氮化硼微粉顆粒表面金屬膜層既可為單層，也可為兩種以上靶材交替沉積的多層，還可為兩種以上靶材共沉積的合金層。

2、真空熱處理：將上一步驟中鍍完膜的立方氮化硼微粉顆粒裝入舟皿、放入真空熱處理爐中進行熱處理。根據(jù)不同金屬化薄膜的熱處理要求，熱處理溫度設定在400～1400℃范圍內(nèi)，保溫時間設定20～120min，隨爐冷卻后取出舟皿，即可得到均勻、致密的表面金屬化薄膜與微粉顆粒之間實現(xiàn)冶金結合的立方氮化硼微粉。

3、滾動球磨混合：稱取適量上述表面金屬化改性的立方氮化硼微粉與超細碳化鎢粉和鈷粉混合并在滾動球磨機上球磨，得到球磨混合料。具體球磨參數(shù)設置為：表面金屬化改性立方氮化硼微粉的添加量為5～60vol％，Co的添加量為1～14wt％，余量為WC(0.2～0.5μm)；球磨介質為酒精，球料比為2～4：1，磨球為硬質合金球，球磨時間2～60h；將球磨好的料漿進行真空干燥，過篩，得到可用于成形、燒結的球磨混合料。

原材料為：立方氮化硼微粉、超細WC粉、Co粉、上述所說的各種金屬靶材(規(guī)格)。下面結合具體實施例對本發(fā)明做進一步說明。

實施例1：

本發(fā)明實施例的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性方法和工藝流程如下：

1、磁控濺射法立方氮化硼微粉顆粒表面鍍Mo膜：將600克如圖1所示的粒度≤3.0μm的立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理，然后放入鍍膜機的滾筒式沉積 臺中，將Mo靶裝入陰極靶上，因為金屬Mo屬弱磁性導電體，故選擇直流電源。預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，設定鍍膜參數(shù)：濺射氣壓維持在0.3～0.8Pa，樣品加熱溫度100℃，靶材功率密度20W/cm²，滾筒式沉積臺的轉速設定在15～20r/min，振動系統(tǒng)的振動頻率35Hz，鍍膜時間為8h。

2、真空熱處理：將鍍完膜的立方氮化硼微粉裝入舟皿，放入真空熱處理爐中，升溫速度3℃/min，在1200℃保溫1h，斷電冷卻后取出舟皿，即得表面被Mo均勻包覆的改性立方氮化硼微粉，如圖2所示。

3、滾動球磨混合：將熱處理完的表面金屬化改性后的立方氮化硼微粉與超細WC粉、Co粉按35vol％cBN+65vol％(WC-14wt％Co)的配比進行滾動球磨。球磨介質為酒精，球料比4:1，磨球為硬質合金球，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間60h。

通過此方法得到的表面金屬化改性的立方氮化硼微粉顆粒熱穩(wěn)定性和化學溫度性良好，表面的Mo薄膜與超硬立方氮化硼微粉顆粒結合緊密，球磨60h后金屬薄膜依然包覆在立方氮化硼微粉顆粒表面，如圖3所示。

實施例2：

本發(fā)明實施例的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性方法和工藝流程如下：

1、磁控濺射法立方氮化硼微粉顆粒表面鍍W膜：將1500克粒度≤3.0μm的外購立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理，然后放入鍍膜機的滾筒式沉積臺中，將W靶裝入陰極靶上，因為金屬W為弱磁性導電體，故選擇直流電源。預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，設定鍍膜參數(shù)：濺射氣壓維持在0.1～0.5Pa，樣品加熱溫度400℃，靶材功率密度30W/cm²，滾筒式沉積臺的轉速設定在40～50r/min，振動系統(tǒng)的振動頻率50Hz，鍍膜時間為4h。

2、真空熱處理：將鍍完膜的立方氮化硼微粉裝入舟皿，放入真空熱處理爐中，升溫速度3℃/min，在1400℃保溫2h，冷卻取出即得表面被W均勻包覆的改性立方氮化硼微粉。

3、滾動球磨混合：將熱處理完的表面金屬化改性后的立方氮化硼微粉與超細WC粉、Co粉按25vol％cBN+75vol％(WC-10wt％Co)的配比進行滾動球磨。球磨介質為酒精，球料比2:1，磨球為硬質合金球，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間40h。

通過此方法得到的表面金屬化改性的立方氮化硼微粉熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性良好，表面的金屬W薄膜與超硬立方氮化硼顆粒結合附著力強，球磨后金屬W薄膜依然緊密包覆在cBN顆粒表面。

實施例3：

本發(fā)明實施例的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性方法和工藝流程如下：

1、磁控濺射法立方氮化硼微粉顆粒表面鍍Mo-Co合金膜：將1500克粒度≤3.0μm的外購立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理，然后放入鍍膜機的滾筒式沉積臺中，將Mo靶和Co靶分別裝入兩個相對的陰極靶上，因為Mo、Co均為磁性導電體，故選擇直流磁控濺射鍍膜。預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，設定磁控濺射鍍膜參數(shù)：氣壓維持在6～10Pa，樣品加熱溫度300℃，Mo靶功率密度22W/cm²，Co靶功率密度12W/cm²，滾筒式沉積臺的轉速設定在15～20r/min，振動系統(tǒng)的振動頻率36Hz，鍍膜時間為10h。

2、真空熱處理：將鍍完膜的立方氮化硼微粉裝入舟皿，放入真空熱處理爐中，升溫速度3℃/min，在1000℃保溫2h，斷電冷卻后取出舟皿，即得表面被Mo、Co均勻包覆的改性立方氮化硼微粉。

3、滾動球磨混合：將熱處理完的表面金屬化改性后的立方氮化硼微粉與WC粉、Co粉按45vol％cBN+55vol％(WC-12wt％Co)的配比進行滾動球磨。球磨介質為酒精，球料比3:1，磨球為硬質合金球，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間20h。

通過此方法得到的表面金屬化改性的立方氮化硼微粉熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性良好，表面磁控濺射共沉積的金屬Mo和Co薄膜與超硬立方氮化硼顆粒結合力強，球磨20h后Mo-Co合金薄膜依然緊密包覆在cBN顆粒表面。

實施例4：

本發(fā)明實施例的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性方法和工藝流程如下：

1、射頻濺射法立方氮化硼微粉顆粒表面鍍Ni膜：將1000克如圖1所示的粒度≤3μm的外購立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理，然后放入鍍膜機的滾筒式沉積臺中，將Ni靶裝入陰極靶上，因為金屬Ni屬導電非磁性材料，故選擇交流電源射頻濺射鍍膜。預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，設定鍍膜參數(shù)：濺射氣壓維持在0.5～1.0Pa，樣品加熱溫度200℃，靶材射頻功率密度10W/cm²，滾筒式沉積臺的轉速設定在30～40r/min，振動系統(tǒng)的振動頻率28Hz，鍍膜時間為10h。

2、真空熱處理：將鍍完膜的立方氮化硼微粉裝入舟皿，放入真空熱處理爐中，升溫速度3℃/min，在800℃保溫40min，斷電冷卻后取出舟皿，即得表面被Ni均勻包覆的改性立方氮化硼微粉。

3、滾動球磨混合：將熱處理完的表面金屬化改性后的立方氮化硼微粉與超細 WC粉、Co粉按15vol％cBN+85vol％(WC-8wt％Co)的配比進行滾動球磨。球磨介質為酒精，球料比4:1，磨球為硬質合金球，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間30h。

通過此方法得到的表面金屬化改性的立方氮化硼微粉顆粒熱穩(wěn)定性和化學溫度性良好，表面的Ni薄膜與超硬立方氮化硼微粉顆粒結合緊密，球磨20h后金屬Ni薄膜依然包覆在cBN顆粒表面。

實施例5：

本發(fā)明實施例的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性方法和工藝流程如下：

1、射頻濺射法、磁控濺射法立方氮化硼微粉顆粒表面鍍Al、Ti復合膜：將400克如圖1所示的粒度≤3μm的外購立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理，然后放入鍍膜機的滾筒式沉積臺中，將Al靶、Ti靶分別裝入兩個相對的陰極靶上，先鍍Al，再鍍Ti，因為金屬Al屬非磁性導電體，故鍍Al時選擇交流電源射頻濺射鍍膜，Ti為磁性導電體，故鍍Ti時選擇直流磁控濺射鍍膜。預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作氣體Ar氣，設定鍍膜參數(shù)：濺射氣壓維持在2～6Pa，樣品加熱溫度100℃，Al靶材射頻功率密度10W/cm²，Ti靶功率密度15W/cm²，滾筒式沉積臺的轉速設定在20～25r/min，振動系統(tǒng)的振動頻率33Hz，鍍膜時間為10h。

2、真空熱處理：將鍍完膜的立方氮化硼微粉裝入舟皿，放入真空熱處理爐中，升溫速度3℃/min，在400℃保溫20min，斷電冷卻后取出舟皿，即得被Al、Ti薄膜均勻交替包覆的表面金屬化改性立方氮化硼微粉。

3、滾動球磨混合：將熱處理完的表面金屬化改性后的立方氮化硼微粉與超細WC粉、Co粉按5vol％cBN+95vol％(WC-6wt％Co)的配比進行滾動球磨。球磨介質為酒精，球料比3:1，磨球為硬質合金球，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間50h。

通過此方法得到的表面金屬化改性的立方氮化硼微粉顆粒熱穩(wěn)定性和化學溫度性良好，由內(nèi)到外的立方氮化硼基體、Al膜、Ti膜之間均能形成冶金結合，結合力強，球磨50h后Al、Ti層狀復合薄膜依然包覆在顆粒表面。

實施例6：

本發(fā)明實施例的立方氮化硼微粉顆粒表面金屬化改性方法和工藝流程如下：

1、磁控濺射法立方氮化硼微粉顆粒表面共沉積V-Cr合金膜：將1000克粒度≤3μm的外購立方氮化硼微粉先進行顆粒表面潔凈處理，然后放入鍍膜機的滾筒式沉積臺中，將V靶、Cr靶分別裝入兩個相對的陰極靶上，因為金屬V、Cr均屬磁性導電體，故選擇直流磁控濺射鍍膜。預抽本底真空至3.0×10^-3Pa以下，通入工作 氣體Ar氣，設定鍍膜參數(shù)：濺射氣壓維持在3～8Pa，樣品加熱溫度400℃，V靶材射頻功率密度25W/cm²，Cr靶功率密度22W/cm²，滾筒式沉積臺的轉速設定在12～18r/min，振動系統(tǒng)的振動頻率36Hz，鍍膜時間為7h。

2、按實施例4的步驟1，在表面被V-Cr合金膜包覆的立方氮化硼微粉顆粒表面再用射頻濺射法包覆一層金屬Ni薄膜，以保護具有較高活性的V-Cr合金膜。

3、真空熱處理：將鍍完膜的立方氮化硼微粉裝入舟皿，放入真空熱處理爐中，升溫速度3℃/min，在950℃保溫1h，斷電冷卻后取出舟皿，即得表面被V-Cr/Ni層狀復合膜均勻包覆的改性立方氮化硼微粉。

4、滾動球磨混合：以本實施例1～3步驟中形成的表面改性立方氮化硼微粉、超細WC粉和Co粉為原料，按55vol％cBN+45vol％(WC-11wt％Co)的配比進行滾動球磨。球磨介質為酒精，球料比3:1，磨球為硬質合金球，滾動球磨轉速34～36r/min，球磨時間30h。

通過此方法得到的表面金屬化改性的立方氮化硼微粉顆粒熱穩(wěn)定性和化學溫度性良好，立方氮化硼顆?；w與表面V-Cr/Ni層狀復合包覆膜之間形成冶金結合，結合力強，球磨30h后表面金屬薄膜依然包覆在立方氮化硼微粉顆粒的表面。

本發(fā)明的改性方法通過物理氣相沉積(PVD)方法(磁控濺射或射頻濺射技術)在cBN微粉顆粒(≤3.0μm)的表面均勻鍍覆金屬薄膜，金屬薄膜材料選自Al、Ni、Co、Cr、V、Ti、W、Mo等在內(nèi)的金屬中的一種或多種；通過改變金屬靶材數(shù)量和PVD沉積方法，cBN微粉顆粒表面包覆的金屬膜即可為單層膜，也可為多層復合膜或合金化膜；對鍍膜后的cBN微粉顆粒進行真空熱處理，使粉體和表面金屬化薄膜之間形成冶金結合。本發(fā)明cBN微粉顆粒表面金屬化改性的方法適用材料范圍廣、操作簡便、環(huán)境友好、能耗低，所鍍涂層均勻完整，不易脫落，可實現(xiàn)規(guī)?；a(chǎn)。表面金屬化改性后的cBN微粉顆粒熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性提高；將表面金屬化改性后的cBN微粉顆粒添加到硬質合金中，cBN可在硬質合金燒結過程中穩(wěn)定存在，不發(fā)生相轉變；還改善了液相燒結過程中液態(tài)金屬粘接相對cBN微粉顆粒的潤濕性；使在硬質合金生產(chǎn)條件下，添加cBN超硬顆粒強化硬質合金成為可能。