一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，包括外殼、傳動(dòng)裝置、沿進(jìn)料方向設(shè)置的至少二個(gè)金屬電極組和與所述金屬電極組連接的電源，所述外殼下方開口，所述傳動(dòng)裝置設(shè)置于所述外殼內(nèi)，所述金屬電極組為一對(duì)豎直設(shè)置于所述外殼內(nèi)的平板電極并且所述金屬電極組設(shè)置于所述傳動(dòng)裝置之間，所述外殼壁體上開設(shè)有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口。本實(shí)用新型中反應(yīng)氣體從氣體入口進(jìn)入外殼內(nèi)，金屬電極組通電形成高頻電場將反應(yīng)氣體電離，連續(xù)材料通過傳動(dòng)裝置沿進(jìn)料方向穿過多個(gè)金屬電極組之間進(jìn)行表面處理，實(shí)現(xiàn)了連續(xù)材料無間斷的表面多級(jí)處理，結(jié)構(gòu)簡單，成本低。
【專利說明】一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及等離子體處理裝置，尤其涉及一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]低溫等離子體技術(shù)作為一種新的表面改性手段，能快速、高效、無污染地改善材料的表面性能，賦予新的特征，同時(shí)又不改變材料的本體特點(diǎn)，已經(jīng)越來越被世界各國的研究人員所重視，等離子體表面處理是利用氣體放電產(chǎn)生的等離子體對(duì)材料表面進(jìn)行物理和化學(xué)反應(yīng)。參與反應(yīng)的有激發(fā)態(tài)粒子、自由基和離子，也包括等離子體輻射紫外線的作用。通過表面反應(yīng)有可能在表面引入特定官能團(tuán)，產(chǎn)生表面活化和刻蝕，形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)或生成表面自由基。這些作用一般不是單一的，往往某種作用為主，幾種作用并存。正是這些作用決定了等離子體表面處理的有效性。
[0003]目前，絕大部分等離子體表面處理都是在低氣壓環(huán)境下進(jìn)行的。由于低氣壓的真空設(shè)備成本高，并且現(xiàn)有技術(shù)難以實(shí)現(xiàn)連續(xù)材料的表面處理。
[0004]因此，亟需一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0005]本實(shí)用新型的目的是克服現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置。
[0006]實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案是:一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，包括外殼、傳動(dòng)裝置、沿進(jìn)料方向設(shè)置的至少二個(gè)金屬電極組和與所述金屬電極組連接的電源，所述外殼下方開口，所述傳動(dòng)裝置設(shè)置于所述外殼內(nèi)，所述金屬電極組為一對(duì)豎直設(shè)置于所述外殼內(nèi)的平板電極并且所述金屬電極組設(shè)置于所述傳動(dòng)裝置之間，所述外殼壁體上開設(shè)有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口。
[0007]進(jìn)一步的，所述外殼為防水外殼。
[0008]進(jìn)一步的，所述傳動(dòng)裝置包括設(shè)置于所述金屬電極組上端的第一導(dǎo)輥和設(shè)置于所述金屬電極組下端的第二導(dǎo)輥，所述第一導(dǎo)輥與所述第二導(dǎo)輥沿進(jìn)料方向相交叉設(shè)置。
[0009]進(jìn)一步的，所述金屬電極組的平板電極外側(cè)設(shè)置有絕緣板。
[0010]本實(shí)用新型具有積極的效果:本實(shí)用新型中反應(yīng)氣體從氣體入口進(jìn)入外殼內(nèi)，金屬電極組通電形成高頻電場將反應(yīng)氣體電離，連續(xù)材料通過傳動(dòng)裝置沿進(jìn)料方向穿過多個(gè)金屬電極組之間進(jìn)行表面處理，實(shí)現(xiàn)了連續(xù)材料無間斷的表面多級(jí)處理，結(jié)構(gòu)簡單，成本低。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0011]為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中:[0012]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]其中:1、第二導(dǎo)棍,2、平板電極,3、氣體入口，4、第一導(dǎo)棍，5、夕卜殼。
【具體實(shí)施方式】
[0014]實(shí)施例1
[0015]如圖1所示，本實(shí)用新型第一優(yōu)選實(shí)施例提供一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，包括外殼5、傳動(dòng)裝置、沿進(jìn)料方向設(shè)置的二個(gè)金屬電極組和與金屬電極組連接的電源(圖中未示出)，外殼5下方開口，傳動(dòng)裝置包括設(shè)置于金屬電極組上端的第一導(dǎo)輥4和設(shè)置于金屬電極組下端的第二導(dǎo)輥1，第一導(dǎo)輥4與第二導(dǎo)輥I沿進(jìn)料方向相交叉設(shè)置，金屬電極組為一對(duì)豎直設(shè)置于外殼5內(nèi)的平板電極2并且金屬電極組設(shè)置于第一導(dǎo)棍4和第二導(dǎo)棍I之間,外殼5壁體上開設(shè)有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼5內(nèi)的氣體入口 3。
[0016]本實(shí)施例反應(yīng)氣體從氣體入口 3進(jìn)入外殼5內(nèi)，金屬電極組通電形成高頻電場將反應(yīng)氣體電離，連續(xù)材料相交叉的纏繞第二導(dǎo)輥I和第一導(dǎo)輥4上并且沿進(jìn)料方向設(shè)置于金屬電極組之間，實(shí)現(xiàn)了連續(xù)材料無間斷的進(jìn)行表面處理；設(shè)置二個(gè)金屬電極組，可實(shí)現(xiàn)二級(jí)處理，處理效果更好，本實(shí)施例中連續(xù)材料可為薄膜、織物等，具體不作限定。
[0017]實(shí)施例2
[0018]作為第二優(yōu)選實(shí)施例，其余與實(shí)施例1相同，不同之處在于，本實(shí)施例包括沿進(jìn)料方向設(shè)置的四個(gè)金屬電極組，外殼5為防水外殼，金屬電極組的平板電極2外側(cè)設(shè)置有絕緣板。
[0019]本實(shí)施例中外殼5為防水外殼在工作過程中保證人身安全,金屬電極組的平板電極2外側(cè)設(shè)置絕緣板，在設(shè)置多個(gè)金屬電極組的裝置中避免電極間相互導(dǎo)通，保證裝置安全可靠的運(yùn)行。
[0020]所述的具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明，所應(yīng)理解的是，以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例而已，并不用于限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，其特征在于，包括外殼、傳動(dòng)裝置、沿進(jìn)料方向設(shè)置的至少二個(gè)金屬電極組和與所述金屬電極組連接的電源，所述外殼下方開口，所述傳動(dòng)裝置設(shè)置于所述外殼內(nèi)，所述金屬電極組為一對(duì)豎直設(shè)置于所述外殼內(nèi)的平板電極并且所述金屬電極組設(shè)置于所述傳動(dòng)裝置之間，所述外殼壁體上開設(shè)有用于反應(yīng)氣體進(jìn)入外殼內(nèi)的氣體入口。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，其特征在于，所述外殼為防水外殼。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，其特征在于，所述傳動(dòng)裝置包括設(shè)置于所述金屬電極組上端的第一導(dǎo)輥和設(shè)置于所述金屬電極組下端的第二導(dǎo)輥，所述第一導(dǎo)輥與所述第二導(dǎo)輥沿進(jìn)料方向相交叉設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的連續(xù)材料表面常壓等離子體多級(jí)處理裝置，其特征在于，所述金屬電極組的平板電極外側(cè)設(shè)置有絕緣板。
【文檔編號(hào)】C23C16/513GK203582972SQ201320756534
【公開日】2014年5月7日 申請(qǐng)日期:2013年11月27日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月27日
【發(fā)明者】沈文凱, 王紅衛(wèi) 申請(qǐng)人:蘇州市奧普斯等離子體科技有限公司