掩模板清洗設(shè)備的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種掩模板清洗設(shè)備，包括電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置，電解清洗裝置內(nèi)盛裝有清洗液，清洗液為經(jīng)過電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，高速氣體帶動清洗液對掩模板進行清洗；漂洗裝置鄰接于電解清洗裝置設(shè)置，對掩模板進行漂洗；干燥裝置鄰接于漂洗裝置，對漂洗后的掩模板進行干燥處理。本實用新型可有效清洗掩模板表面和網(wǎng)格中的顆粒雜質(zhì)，并且不會地掩模板造成任何傷害，也不會對掩模板的精度產(chǎn)生不利影響，從而在用于制造OLED顯示屏產(chǎn)品時，顯著提高產(chǎn)品的良品率。
【專利說明】 掩模板清洗設(shè)備
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及清洗設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種掩模板清洗設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]有機電致發(fā)光器件，具有自發(fā)光、反應(yīng)時間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項優(yōu)點，被認(rèn)為是下一代的平面顯示器新興應(yīng)用技術(shù)。在OLED(Organic Light-Emitting Diode,有機電致發(fā)光二極管)技術(shù)中，用于真空蒸鍍的掩模板是一項非常重要和關(guān)鍵的部件，該部件的質(zhì)量直接影響OLED產(chǎn)品的質(zhì)量和制造成本。
[0003]掩模板(Mask)，特別是細小網(wǎng)格的掩模板(Fine Mask)，在初加工成型后，會在網(wǎng)格內(nèi)或表面殘留金屬邊角料等顆粒物質(zhì)，影響掩模板的正常使用。在循環(huán)使用的過程中，掩模板上也會沾上一層灰塵等雜質(zhì)，這些雜質(zhì)在將掩模板再次投入使用前必須清除。
[0004]由于掩模板特別是Fine Mask對精度要求非常苛刻，例如，一般要求掩模板的網(wǎng)格大小誤差在3 μ m內(nèi)，因此，目前傳統(tǒng)的清洗設(shè)備無法用于對FineMask或掩模板進行有效清洗，導(dǎo)致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而嚴(yán)重影響所生產(chǎn)出的OLED顯示屏的質(zhì)量，甚至?xí)a(chǎn)生大量不良品，直接或間接地提高了 OLED顯示屏的生產(chǎn)成本。
實用新型內(nèi)容
[0005]本實用新型的主要目的在于，針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種掩模板清洗設(shè)備，可有效清洗掩模板表面和網(wǎng)格中的顆粒雜質(zhì)，并且不會對掩模板造成任何傷害，也不會對掩模板的精度產(chǎn)生不利影響，從而在用于制造OLED顯示屏產(chǎn)品時，顯著提高產(chǎn)品的良品率。
[0006]為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本實用新型采用以下技術(shù)方案。
[0007]本實用新型提供的掩模板清洗設(shè)備，用于清洗掩模板上的雜質(zhì)，包括電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置，所述電解清洗裝置內(nèi)盛裝有清洗液，所述清洗液為經(jīng)過電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，所述高速氣體帶動所述清洗液對所述掩模板進行沖洗；所述漂洗裝置鄰接于所述電解清洗裝置設(shè)置，對所述掩模板進行漂洗；所述干燥裝置鄰接于所述漂洗裝置，對漂洗后的所述掩模板進行干燥處理。
[0008]優(yōu)選地，所述電解清洗裝置包括清洗池，所述清洗池內(nèi)盛裝有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池設(shè)置有兩個側(cè)壁，所述掩模板位于所述兩個側(cè)壁之間，所述兩個側(cè)壁與第一電極連接，所述掩模板與第二電極連接，所述第一電極與第二電極的極性相反。
[0009]優(yōu)選地，所述掩模板固定于一支架，所述支架掛置于所述側(cè)壁上。
[0010]優(yōu)選地，還包括電控裝置，所述電控裝置與所述電解清洗裝置連接，向所述電解清洗裝置輸出電流，并對所述電流的大小和通電時間進行設(shè)定。
[0011]優(yōu)選地，所述電控裝置根據(jù)所述掩模板不同將電流的大小設(shè)定為5A?2000A。[0012]優(yōu)選地，所述電控裝置設(shè)置有定時模塊，用于當(dāng)所述通電時間到達預(yù)定值時，自動斷開所述電流。
[0013]優(yōu)選地，還包括過濾裝置，所述過濾裝置與所述電解清洗裝置連接，濾除所述清洗液中的顆粒雜質(zhì)。
[0014]優(yōu)選地，所述電極由耐強堿導(dǎo)電材料制成，所述耐強堿導(dǎo)電材料包括鈦合金、鉛合
金或石墨。
[0015]優(yōu)選地，還包括用于轉(zhuǎn)運所述掩模板的機械手。
[0016]優(yōu)選地，還包括防塵外罩，所述電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置密封設(shè)置于所述防塵外罩內(nèi)。
[0017]本實用新型具有以下優(yōu)點:
[0018]1、本實用新型的掩模板清洗設(shè)備利用大電流末端放電原理，可對掩模板網(wǎng)格內(nèi)的金屬顆粒進行有效剝離。由于采用的是物理方法來去除雜質(zhì)，而非直接采用工人或機械接觸的方法，因此，可以避免因操作不當(dāng)而對掩模板產(chǎn)生傷害，從而保證掩模板的精度，提高OLED顯示屏的良品率。
[0019]2、清洗劑電解產(chǎn)生高速氣體，利用氣體帶動清洗液對掩模板進行沖刷，可以有效提升清洗效果，并避免人為接觸。
[0020]3、利用強堿作為清洗液，可以有效去除掩模板上的灰塵顆粒，從而可以一次性完成對金屬顆粒和灰塵顆粒的清洗，節(jié)省清洗工藝，節(jié)約清洗成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1是本實用新型實施例中掩模板清洗設(shè)備的整體結(jié)構(gòu)示意圖。
[0022]圖2是本實用新型實施例中電解清洗裝置的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]本實用新型目的的實現(xiàn)、功能特點及優(yōu)點將結(jié)合實施例，參照附圖做進一步說明。
【具體實施方式】
[0024]以下將結(jié)合附圖及具體實施例詳細說明本實用新型的技術(shù)方案，以便更清楚、直觀地理解本實用新型的發(fā)明實質(zhì)。
[0025]參照圖1和圖2所示，本實施例提供一種掩模板清洗設(shè)備100，用于清洗掩模板200 (Mask)，特別是具有細小網(wǎng)絡(luò)的大尺寸掩模板Fine Mask上的雜質(zhì)，如金屬顆粒和灰塵。該掩模板清洗設(shè)備100包括電解清洗裝置1、漂洗裝置2和干燥裝置3。其中，電解清洗裝置I內(nèi)盛裝有清洗液，該清洗液為堿性電解液，在電解時，可產(chǎn)生高速氣體，利用該高速氣體帶動清洗液對掩模板200進行沖刷，從而將掩模板200清洗干凈。漂洗裝置2鄰接于上述電解清洗裝置設(shè)置1，包括漂洗池，用于對掩模板200進行漂洗，以去除上述清洗液。干燥裝置3鄰接于上述漂洗裝置2，用于對漂洗后的掩模板200進行干燥處理，使掩模板200干燥，干燥后的掩模板200即可用于下一道工序。
[0026]具體地，電解清洗裝置I包括清洗池11，在清洗池11內(nèi)盛裝有清洗液，掩模板200浸泡在清洗液中，由清洗液對掩模板200表面的灰塵顆粒進行清洗。清洗池11至少設(shè)置有兩個側(cè)壁111，這兩個側(cè)壁111上分別與第一電極連接，或者，將側(cè)壁111作為第一電極(未圖示)。掩模板200位于這兩個側(cè)壁111之間，并與第二電極(未圖示)相連，該第一電極和第二電極的極性相反。這樣，在電極放電時，掩模板200上通有大電流。根據(jù)大電流末端放電原理，掩模板200上的細小網(wǎng)格線會產(chǎn)生放電現(xiàn)象，凸出于網(wǎng)絡(luò)線表面的金屬顆?；蚧覊m顆粒上會產(chǎn)生大量的熱量，從而將金屬顆粒或灰塵顆粒等雜質(zhì)燒融或剝離。
[0027]同時，清洗液在大電流的作用下電解，產(chǎn)生高速氣體，這些高速氣體帶動清洗液運動，使清洗液產(chǎn)生“沸騰”的效果，從而對掩模板200進行沖刷，將燒融或剝離后的顆粒雜質(zhì)帶走，實現(xiàn)清洗效果。
[0028]本實施例中，掩模板200被固定于一支架12上，并通過該支架12掛置于上述清洗池11的側(cè)壁111上，以便于利用抓取機構(gòu)對掩模板200進行轉(zhuǎn)運，實現(xiàn)清洗、漂洗和干燥的連續(xù)化、自動化操作。
[0029]此外，本實施例還包括一電控裝置4，該電控裝置4與電解清洗裝置I連接，向電解清洗裝置I輸出強電流，該強電流經(jīng)上述電極通入到清洗液中。該電控裝置4還可以對該強電流的大小和通電時間進行設(shè)定，以便于根據(jù)需要進行調(diào)節(jié)。例如，本實施側(cè)的電流大小可以根據(jù)掩模板200的不同而設(shè)定為IOA?2000A，以便于達到預(yù)定的清洗效果。
[0030]上述電控裝置4還設(shè)置有定時模塊(未圖示)，用于當(dāng)通電時間到達預(yù)定值時，自動斷開電流。
[0031]本實施例還包括一過濾裝置5，該過濾裝置5與上述電解清洗裝置I連接，用于濾除清洗液中的顆粒雜質(zhì)，使清洗液能循環(huán)利用。
[0032]為了使電極能長時間使用，電極由耐強堿導(dǎo)電材料制成，該耐強堿導(dǎo)電材料包括但不限于鈦合金、鉛合金或石墨。
[0033]本實施例還包括用于轉(zhuǎn)運掩模板200的機械手6，該機械手6可將掩模板200放入清洗池11中，清洗完成后，取出再放入漂洗池中漂洗，漂洗完成后，取出再放入干燥裝置3中進行干燥處理。這樣便可使本實施例的掩模板清洗設(shè)備100實現(xiàn)自動化，連續(xù)性操作。
[0034]此外，本實施例還包括防塵外罩7，上述電解清洗裝置1、漂洗裝置2、干燥裝置3、電控裝置4、過濾裝置5和機械手6密封設(shè)置于該防塵外罩7內(nèi)，使電解清洗裝置1、漂洗裝置2、干燥裝置3、電控裝置4和過濾裝置5處于一無塵空間內(nèi)，有利于掩模板200的清洗，且清洗后不會再次沾染灰塵。
[0035]綜上所述，本實用新型的掩模板清洗設(shè)備利用強電流末端放電原理，可對掩模板網(wǎng)格內(nèi)的金屬顆粒進行有效剝離，可有效清洗掩模板表面和網(wǎng)格中的顆粒雜質(zhì)，并且不會地掩模板造成任何傷害，也不會對掩模板的精度產(chǎn)生不利影響，從而在用于制造OLED顯示屏產(chǎn)品時，顯著提高產(chǎn)品的良品率。
[0036]以上所述僅為本實用新型的優(yōu)選實施例，并非因此限制其專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)變換，直接或間接運用在其他相關(guān)的【技術(shù)領(lǐng)域】，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種掩模板清洗設(shè)備，用于清洗掩模板上的雜質(zhì)，其特征在于:包括電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置，所述電解清洗裝置內(nèi)盛裝有清洗液，所述清洗液為經(jīng)過電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，所述高速氣體帶動所述清洗液對所述掩模板進行沖洗；所述漂洗裝置鄰接于所述電解清洗裝置設(shè)置，對所述掩模板進行漂洗；所述干燥裝置鄰接于所述漂洗裝置，對漂洗后的所述掩模板進行干燥處理。
2.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:所述電解清洗裝置包括清洗池，所述清洗池內(nèi)盛裝有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池設(shè)置有兩個側(cè)壁，所述掩模板位于所述兩個側(cè)壁之間，所述兩個側(cè)壁與第一電極連接，所述掩模板與第二電極連接，所述第一電極與第二電極的極性相反。
3.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:所述掩模板固定于一支架，所述支架掛置于所述側(cè)壁上。
4.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:還包括電控裝置，所述電控裝置與所述電解清洗裝置連接，向所述電解清洗裝置輸出電流，并對所述電流的大小和通電時間進行設(shè)定。
5.如權(quán)利要求4所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:所述電控裝置根據(jù)所述掩模板不同將電流的大小設(shè)定為5A?2000A。
6.如權(quán)利要求4所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:所述電控裝置設(shè)置有定時模塊，用于當(dāng)所述通電時間到達預(yù)定值時，自動斷開所述電流。
7.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:還包括過濾裝置，所述過濾裝置與所述電解清洗裝置連接，濾除所述清洗液中的顆粒雜質(zhì)。
8.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:所述電極由耐強堿導(dǎo)電材料制成，所述耐強堿導(dǎo)電材料包括鈦合金、鉛合金或石墨。
9.如權(quán)利要求1?8任一項中所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:還包括用于轉(zhuǎn)運所述掩模板的機械手。
10.如權(quán)利要求9所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于:還包括防塵外罩，所述電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置密封設(shè)置于所述防塵外罩內(nèi)。
【文檔編號】C23C14/04GK203420006SQ201320507550
【公開日】2014年2月5日 申請日期:2013年8月11日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月11日
【發(fā)明者】唐軍 申請人:唐軍