本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板清洗設(shè)備。

背景技術(shù)：

在顯示技術(shù)領(lǐng)域，液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)與有機發(fā)光二極管顯示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板顯示器已經(jīng)逐步取代陰極射線管(Cathode Ray Tube，CRT)顯示器，廣泛的應用于液晶電視、手機、個人數(shù)字助理、數(shù)字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

顯示面板是LCD、OLED的重要組成部分。不論是LCD的顯示面板，還是OLED的顯示面板，通常都具有一薄膜晶體管(Thin Film Transistor，TFT)陣列基板。以LCD的顯示面板為例，其主要是由一TFT陣列基板、一彩色濾光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構(gòu)成，其工作原理是通過在TFT陣列基板與CF基板上施加驅(qū)動電壓來控制液晶層中液晶分子的旋轉(zhuǎn)，將背光模組的光線折射出來產(chǎn)生畫面。

在TFT陣列基板的制作過程中，基板都需要經(jīng)過涂布光刻膠、曝光、顯影這樣一個光刻工序。顯影的目的是去除在曝光過程中發(fā)生了光學反應的光刻膠，從而在基板上形成與曝光掩模板對應的光刻膠圖形，顯影后基板上覆蓋有光刻膠的位置，在下一個工序刻蝕的過程中由于光刻膠的保護，相應位置的金屬或非金屬膜不會受到損害，從而最后達到在基板上形成TFT電路的目的。顯影后還需要對玻璃基板上被顯影的光刻膠和殘留的顯影液進行清洗，如果清洗不徹底，基板上會殘留藥液以及光刻膠顆粒，最終會引起基板不良。

目前的基板顯影后的清洗過程參照圖1所示，圖中A為基板顯影區(qū)，H表示顯影后基板走向，基板顯影區(qū)緊挨著顯影后基板清洗區(qū)，顯影后基板清洗區(qū)通常包括三級清洗單元，對顯影后的基板進行三個階段的清洗，三級清洗單元具體設(shè)置為依次鄰接的初級清洗區(qū)B、中級清洗區(qū)C和終極清洗(Final-Rinse，F(xiàn)R)區(qū)D，初級清洗區(qū)B上設(shè)置有初級清洗設(shè)備100，由初級清洗設(shè)備100對顯影后基板進行一級清洗；中級清洗區(qū)C上設(shè)置有中級清洗設(shè)備200，由中級清洗設(shè)備200對一級清洗后基板進行中級清洗；終極清洗區(qū)D上設(shè)置有終極清洗設(shè)備300，由終極清洗設(shè)備300供純水以對中級清洗后基板進行終極清洗。

顯影后基板清洗的目的是除去其上的光刻膠和顯影液，初級清洗去除了基板上大部分的光刻膠和顯影液，中級清洗去除了剩余的一部分，最后通過終極清洗將光刻膠和顯影液完全清除，終極清洗為了保證基板的清潔度，必須使用純水，初級清洗和中級清洗對清洗用水的要求不局限于純水，所以為了節(jié)約用水，通常會在中級清洗區(qū)C和終極清洗區(qū)D之間設(shè)置一集水池，與終極清洗設(shè)備相連通，收集終極清洗區(qū)D排出的含有極少光刻膠和顯影液的廢水，該廢水作為循環(huán)水，通過水泵(pump)將該循環(huán)水供給與第一集水池相連通的初級清洗設(shè)備100和/或中級清洗設(shè)備200以對基板進行清洗。

如圖2所示，現(xiàn)有的終極清洗設(shè)備包括機架310、固定于機架上310的護罩320、位于護罩320內(nèi)的數(shù)道并列設(shè)置的傳送輥330、及設(shè)于護罩320內(nèi)并分布于所述數(shù)道傳送輥(Roller)330上下兩側(cè)的數(shù)道噴水管340；如圖3所示，在清洗過程中，基板400放置于傳送輥330上，使得基板400的背面與傳送輥330接觸，利用基板400本身的重力使基板400與傳送輥330產(chǎn)生摩擦力，并在傳送輥330轉(zhuǎn)動時推動基板400往固定方向行進，同時，噴水管340上設(shè)于數(shù)個噴嘴341，這些噴嘴341向基板400的表面噴射純水，用以清洗玻璃基板400。然而在基板顯影后的實際清洗過程中，經(jīng)歷過終極清洗后的基板400，其上仍會存在光刻膠殘留，在基板400表面形成滾痕(Roller Mark)，造成清洗不良的情況產(chǎn)生。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種基板清洗設(shè)備，能夠提高清洗效果，避免清洗后的基板上留有臟污及滾痕。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種基板清洗設(shè)備，包括機架、位于所述機架上方的護罩、傳送機構(gòu)、及噴淋機構(gòu)；所述護罩用于提供基板清洗空間，所述傳送機構(gòu)用于承載并運送基板，所述噴淋機構(gòu)用于向基板噴淋清洗液；

所述傳送機構(gòu)包括并列設(shè)置的數(shù)個導輥，且所述數(shù)個導輥中至少有一個為海綿刷導輥，其他的為傳送導輥；

每一海綿刷導輥的上方相對設(shè)有一個第一壓制輥。

所述數(shù)個導輥中，所有海綿刷導輥之間的傳送導輥、及兩側(cè)的部分傳送導輥構(gòu)成一海綿刷傳送區(qū)，所述海綿刷傳送區(qū)內(nèi)每一傳送導輥的上方相對設(shè)有一個第二壓制輥。

每一海綿刷導輥的兩端分別設(shè)有操作模塊、及驅(qū)動模塊；所述驅(qū)動模塊包括第一馬達，每一海綿刷導輥及每一第一壓制輥在相應的第一馬達驅(qū)動下進行轉(zhuǎn)動。

每一海綿刷導輥下方對應設(shè)有兩個平衡桿，所述平衡桿的兩端分別固定連接于相應的操作模塊、及驅(qū)動模塊上。

所述護罩包括頂板和從所述頂板向下延伸的左側(cè)壁、右側(cè)壁、前側(cè)壁、及后側(cè)壁；

所述護罩的前側(cè)壁與后側(cè)壁上設(shè)有數(shù)個過孔，每一海綿刷導輥的兩端分別穿過所述前側(cè)壁與后側(cè)壁上的過孔并通過軸承與所述操作模塊、及驅(qū)動模塊進行連接，每一第一壓制輥的兩端分別穿過所述前側(cè)壁與后側(cè)壁上的過孔并通過軸承與所述操作模塊、及驅(qū)動模塊進行連接；

所述護罩的左側(cè)壁、右側(cè)壁上均設(shè)有基板傳送孔；

所述機架在對應所述護罩的前后兩側(cè)分別具有一模塊固定座，所述操作模塊與驅(qū)動模塊分別在所述護罩的前后兩側(cè)固定于所述模塊固定座上。

所述傳送機構(gòu)還包括兩個相對設(shè)置的軸承座、第二馬達、及傳動組件，所述傳動組件在所述第二馬達驅(qū)動下帶動每個傳送導輥、及每個第二壓制輥進行轉(zhuǎn)動；

每一軸承座上對應每個海綿刷導輥設(shè)有一個第一凹陷部，對應每個傳送導輥設(shè)有一個第二凹陷部；每一傳送導輥的兩端分別樞接于所述兩個軸承座，每一第二壓制輥的兩端分別樞接于所述兩個軸承座；所述傳動組件為齒輪齒條傳動組件。

所述噴淋機構(gòu)包括分布于所述數(shù)個導輥上下兩側(cè)的數(shù)條噴淋管，每一噴淋管上設(shè)有數(shù)個噴嘴；每一噴淋管對應設(shè)于兩相鄰導輥之間間隙的上方、或下方。

所述海綿刷導輥包括第一旋轉(zhuǎn)桿、及貼附于所述第一旋轉(zhuǎn)桿上的海綿層，所述海綿層的材料為研磨型海綿；所述第一壓制輥與第二壓制輥均包括第二旋轉(zhuǎn)桿、及貼附于所述第二旋轉(zhuǎn)桿上的塑料層，所述塑料層的材料為聚乙烯醇。

所述的基板清洗設(shè)備在使用過程中，所述海綿刷導輥、傳送導輥、第一壓制輥、及第二壓制輥與基板接觸點的切線速度均相同；

所述海綿刷導輥的轉(zhuǎn)速為50rpm-500rpm；

所述海綿刷導輥與第一壓制輥之間的間隙距離允許基板通過，所述傳送導輥、與第二壓制輥之間的間隙距離允許基板通過。

所述的基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供的一種基板清洗設(shè)備，包括機架、位于所述機架上方的護罩、傳送機構(gòu)、及噴淋機構(gòu)，所述傳送機構(gòu)包括并列設(shè)置的數(shù)個導輥，且所述數(shù)個導輥中至少有一個為海綿刷導輥，且每一海綿刷導輥的上方相對設(shè)有一個第一壓制輥，相比于對現(xiàn)有技術(shù)，通過在傳送機構(gòu)中增設(shè)海綿刷導輥，能夠有效提高清洗效果，從而當該基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序時，能夠有效避免光刻膠殘留及滾痕的形成，提高產(chǎn)品的清洗良率。

為了能更進一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖說明

下面結(jié)合附圖，通過對本發(fā)明的具體實施方式詳細描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有基板顯影后的清洗方法的示意圖；

圖2為圖1中的終極清洗設(shè)備的立體示意圖；

圖3為圖2的終極清洗設(shè)備對基板進行清洗的示意圖；

圖4為本發(fā)明的基板清洗設(shè)備的立體示意圖；

圖5為本發(fā)明的基板清洗設(shè)備對基板進行清洗的示意圖；

圖6為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中海綿刷導輥與操作模塊、驅(qū)動模塊進行的連接示意圖；

圖7為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中護罩的立體示意圖；

圖8為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中軸承座的立體示意圖；

圖9為本發(fā)明中的基板清洗設(shè)備中傳動組件將第二馬達與傳送導輥及第二壓制輥進行連接的示意圖。

具體實施方式

為更進一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進行詳細描述。

請參閱圖4-圖5，本發(fā)明提供一種基板清洗設(shè)備，包括機架30、位于所述機架30上方的護罩40、傳送機構(gòu)10、及噴淋機構(gòu)20；所述護罩40用于提供基板清洗空間，所述傳送機構(gòu)10用于承載并運送基板50，所述噴淋機構(gòu)20用于向基板50噴淋清洗液；

所述傳送機構(gòu)10包括并列設(shè)置的數(shù)個導輥105，且所述數(shù)個導輥105中至少有一個為海綿刷導輥101，其他的為傳送導輥102；每一海綿刷導輥101的上方相對設(shè)有一個第一壓制輥103；優(yōu)選地，在本實施例中，所述數(shù)個導輥105中有兩個為海綿刷導輥101。

具體地，所述數(shù)個導輥105中，所有海綿刷導輥101之間的傳送導輥102、及兩側(cè)的部分傳送導輥102構(gòu)成一海綿刷傳送區(qū)，所述海綿刷傳送區(qū)內(nèi)每一傳送導輥102的上方相對設(shè)有一個第二壓制輥104。

具體地，每一海綿刷導輥101的兩端分別設(shè)有操作模塊111、及驅(qū)動模塊112；所述驅(qū)動模塊112包括第一馬達，每一海綿刷導輥101及每一第一壓制輥103在相應的第一馬達驅(qū)動下進行轉(zhuǎn)動。

具體地，如圖6所示，每一海綿刷導輥101下方對應設(shè)有兩個平衡桿113，所述平衡桿113的兩端分別固定連接于相應的操作模塊111、及驅(qū)動模塊112上。從而通過在操作模塊111、及驅(qū)動模塊112之間設(shè)置兩個固定的平衡桿113，減輕所述海綿刷導輥101在轉(zhuǎn)動過程中，對兩側(cè)的操作模塊111、及驅(qū)動模塊112所引起的震動。

具體地，所述護罩40包括頂板41和從所述頂板41向下延伸的左側(cè)壁42、右側(cè)壁43、前側(cè)壁44、及后側(cè)壁45；

所述護罩40的前側(cè)壁44與后側(cè)壁45上設(shè)有數(shù)個過孔401，每一海綿刷導輥101的兩端分別穿過所述前側(cè)壁44與后側(cè)壁45上的過孔401并通過軸承與所述操作模塊111、及驅(qū)動模塊112進行連接，每一第一壓制輥103的兩端分別穿過所述前側(cè)壁44與后側(cè)壁45上的過孔401并通過軸承與所述操作模塊111、及驅(qū)動模塊112進行連接；

如圖7所示，所述護罩40的左側(cè)壁42、右側(cè)壁43上均設(shè)有基板傳送孔402；

所述機架30在對應所述護罩40的前后兩側(cè)分別具有一模塊固定座，所述操作模塊111與驅(qū)動模塊112分別在所述護罩40的前后兩側(cè)固定于所述模塊固定座上。

如圖9所示，具體地，所述傳送機構(gòu)10還包括兩個相對設(shè)置的軸承座121、第二馬達122、及傳動組件123，所述傳動組件123在所述第二馬達122驅(qū)動下帶動每個傳送導輥102、及每個第二壓制輥104進行轉(zhuǎn)動；

如圖8所示，每一軸承座121上對應每個海綿刷導輥101設(shè)有一個第一凹陷部124，對應每個傳送導輥102設(shè)有一個第二凹陷部125；每一傳送導輥102的兩端分別樞接于所述兩個軸承座121，每一第二壓制輥104的兩端分別樞接于所述兩個軸承座121；

所述傳動組件123為齒輪齒條傳動組件123。

具體地，所述噴淋機構(gòu)20包括分布于所述數(shù)個導輥105上下兩側(cè)的數(shù)條噴淋管21，每一噴淋管21上設(shè)有數(shù)個噴嘴；每一噴淋管21對應設(shè)于兩相鄰導輥105之間間隙的上方、或下方，從而避免噴淋管直接將清洗液噴在第一壓制輥103、及第二壓制輥104上，而減輕噴淋管對基板50的噴洗效果。

具體地，所述海綿刷導輥101包括第一旋轉(zhuǎn)桿141、及貼附于所述第一旋轉(zhuǎn)桿141上的海綿層142，所述海綿層142的材料為研磨型海綿；所述第一壓制輥103與第二壓制輥104均包括第二旋轉(zhuǎn)桿143、及貼附于所述第二旋轉(zhuǎn)桿143上的塑料層144，所述塑料層144的材料為聚乙烯醇(PVA)。

具體地，本發(fā)明的基板清洗設(shè)備在使用過程中，所述海綿刷導輥101、傳送導輥102、第一壓制輥103、及第二壓制輥104與基板50接觸點的切線速度均相同；所述海綿刷導輥101的轉(zhuǎn)速為50rpm-500rpm；所述海綿刷導輥101與第一壓制輥103之間的間隙距離約為基板50的厚度，從而允許基板50通過，所述傳送導輥102、與第二壓制輥104之間的間隙距離約為基板50的厚度，從而允許基板50通過。

具體地，本發(fā)明的基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序。

綜上所述，本發(fā)明提供的一種基板清洗設(shè)備，包括機架、位于所述機架上方的護罩、傳送機構(gòu)、及噴淋機構(gòu)，所述傳送機構(gòu)包括并列設(shè)置的數(shù)個導輥，且所述數(shù)個導輥中至少有一個為海綿刷導輥，且每一海綿刷導輥的上方相對設(shè)有一個第一壓制輥，相比于對現(xiàn)有技術(shù)，通過在傳送機構(gòu)中增設(shè)海綿刷導輥，能夠有效提高清洗效果，從而當該基板清洗設(shè)備用于基板顯影后的終極清洗工序時，能夠有效避免光刻膠殘留及滾痕的形成，提高產(chǎn)品的清洗良率。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應的改變和變形，而所有這些改變和變形都應屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護范圍。