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半導(dǎo)體裝置的制造方法、基板處理方法、基板處理裝置、氣化系統(tǒng)和噴霧過濾器與流程

文檔序號:12039753閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種半導(dǎo)體裝置的制造方法、基板處理方法、基板處理裝置、氣化系統(tǒng)和噴霧過濾器,本發(fā)明的目的在于,抑制在使用液體原料時所產(chǎn)生的微粒的量。本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:將基板(200)搬入處理室(201),使液體原料依次流過氣化器(271a)、組合多個在不同的位置具有孔(322、332)的至少2種板(320、330)而構(gòu)成的噴霧過濾器(300),使其氣化,供給至處理室中對基板進行處理,之后從處理室搬出基板。

技術(shù)研發(fā)人員:高木康祐;竹林雄二
受保護的技術(shù)使用者:株式會社日立國際電氣
文檔號碼:201310109472
技術(shù)研發(fā)日:2013.03.27
技術(shù)公布日:2016.12.28

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