專利名稱：成膜裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種成膜裝置，特別是一種連續(xù)式進(jìn)行真空蒸鍍的成膜裝置。
背景技術(shù)：
真空蒸鍍作為無(wú)機(jī)膜及有機(jī)膜的制作方法被廣泛使用，通過(guò)真空蒸鍍的方式在光學(xué)零部件等的表面形成具有防污性能的有機(jī)膜的方法而被認(rèn)知。例如通過(guò)構(gòu)成真空蒸鍍裝置的釜中安裝的加熱器使制作有機(jī)膜的蒸鍍材料加熱汽化、向成膜對(duì)象的表面噴出蒸鍍材料的蒸汽并沉積，從而形成有機(jī)膜。作為形成有機(jī)膜的蒸鍍裝置有很多種類。例如，專利文獻(xiàn)I中記載的一種成膜裝 置，使用固體或粉末狀的有機(jī)膜形成用蒸鍍材料，通過(guò)真空蒸鍍法形成有機(jī)膜。另外，在專利文獻(xiàn)2的圖4以及對(duì)應(yīng)說(shuō)明書的記載公開(kāi)了一種成膜裝置，把含有液體狀防污劑的多孔片材或是液體狀的防污劑等物直接用容器加熱蒸發(fā)進(jìn)行蒸鍍。專利文獻(xiàn)3公開(kāi)了將帶有全氟烷基的硅烷化合物等有機(jī)硅烷化合物浸于多孔性無(wú)機(jī)氧化物中的蒸鍍材料，在高真空度下進(jìn)行真空蒸鍍獲得防水性膜的方法。為了防止蒸鍍材料劣化和保證其均勻性，需要將上述真空蒸鍍中使用的有機(jī)膜形成用蒸鍍材料在溶劑中溶解成溶液狀態(tài)后使用。但是，例如以連續(xù)式進(jìn)行真空蒸鍍的成膜裝置中，使用液態(tài)的有機(jī)膜形成用蒸鍍材料進(jìn)行蒸鍍時(shí)，在蒸鍍材料中容易混入溶劑，形成的有機(jī)膜在耐久性以及耐磨性等性能方面有膜質(zhì)變劣的傾向等不利之處?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I專利公開(kāi)2009- 263751號(hào)專利文獻(xiàn)2專利公開(kāi)2002- 155353號(hào)專利文獻(xiàn)3專利公開(kāi)平成9一 137122號(hào)。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型要解決的問(wèn)題是，以連續(xù)式使用液態(tài)蒸鍍材料進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜時(shí)，難以防止所形成的膜的質(zhì)量劣化。為了解決上述問(wèn)題，本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案本實(shí)用新型的成膜裝置包括蒸鍍釜、通過(guò)擋板與所述蒸鍍釜隔開(kāi)的副釜、貫通擋板從所述蒸鍍釜內(nèi)朝向所述副釜內(nèi)而設(shè)置并且可以從所述副釜向所述蒸鍍釜移動(dòng)的蒸鍍材料供給傳輸帶、將置于副釜中的已在溶劑中溶解形成蒸鍍?nèi)芤旱恼翦儾牧咸峁┙o所述蒸鍍材料供給傳輸帶的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部、設(shè)置在所述蒸鍍釜內(nèi)部并使所述蒸鍍釜內(nèi)所定各個(gè)位置上的所述蒸鍍材料供給傳輸帶上的蒸鍍材料氣化進(jìn)行加熱的加熱部，以及設(shè)置在所述蒸鍍釜內(nèi)并保持及搬送所述基板的基板夾具。所述副釜中的所述蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的所述蒸鍍?nèi)芤簝?nèi)的所述蒸鍍材料留在所述蒸鍍材料供給傳輸帶上，使所述溶劑揮發(fā)而分離，所述蒸鍍釜內(nèi)通過(guò)所述加熱部加熱使所述蒸鍍材料汽化得到所述蒸鍍材料的蒸汽，使蒸汽噴在所述基板上并沉積，從而形成所述蒸鍍材料的膜。上述本實(shí)用新型的成膜裝置具有蒸鍍釜、副釜、蒸鍍材料供給傳輸帶、蒸鍍?nèi)芤汗┙o部、加熱部和基板夾具。副釜通過(guò)擋板與所述蒸鍍釜隔開(kāi)。蒸鍍材料供給傳輸帶貫通擋板從所述蒸鍍釜內(nèi)朝向所述副釜內(nèi)而設(shè)置，并可以從所述副釜向所述蒸鍍釜移動(dòng)。蒸鍍?nèi)芤汗┙o部將已在溶劑中溶解形成蒸鍍?nèi)芤旱恼翦儾牧咸峁┙o位于副釜的蒸鍍材料供給傳輸帶。加熱部設(shè)置在蒸鍍釜內(nèi)部，將蒸鍍釜內(nèi)所定各個(gè)位置上的蒸鍍材料供給傳輸帶上的蒸鍍材料進(jìn)行加熱汽化。基板夾具設(shè)置在所述蒸鍍釜內(nèi)，并保持及搬送所述基板。在這里，由副釜中蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上，使溶劑揮發(fā)而分離，蒸鍍釜內(nèi)通過(guò)加熱部加熱使蒸鍍材料汽化得到蒸鍍材料的蒸汽，使蒸汽噴在基板上并沉積，從而形成蒸鍍材料的膜。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，所述蒸鍍材料供給傳輸帶呈環(huán)狀，即具有從所述副釜向所述蒸鍍釜移動(dòng)后再回到所述副釜的結(jié)構(gòu)?！ど鲜霰緦?shí)用新型的成膜裝置，較好地，把來(lái)自所述副釜中的所述蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的所述蒸鍍?nèi)芤褐械乃稣翦儾牧狭粼谒稣翦儾牧瞎┙o傳輸帶上，使所述溶劑連續(xù)地?fù)]發(fā)而分尚。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，所述蒸鍍?nèi)芤汗┙o部連續(xù)地將所述蒸鍍?nèi)芤禾峁┑剿稣翦儾牧瞎┙o傳輸帶上。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，所述基板夾具以連續(xù)式在成膜過(guò)程中連續(xù)地搬送所述基板。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，所述基板夾具在每個(gè)成膜過(guò)程中以步進(jìn)式重復(fù)操作所述基板的搬送及保持靜止。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，具有使所述蒸鍍材料供給傳輸帶從所述副釜移動(dòng)到所述蒸鍍釜的蒸鍍材料供給傳輸帶驅(qū)動(dòng)部，使所述蒸鍍材料供給傳輸帶從所述副爸移動(dòng)到所述蒸鍍爸。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，把所述副釜、所述蒸鍍材料供給傳輸帶、所述蒸鍍?nèi)芤汗┙o部以及所述加熱部集成為一個(gè)整體。上述本實(shí)用新型的成膜裝置，較好地，所述副釜由被擋板隔成的多個(gè)腔室構(gòu)成，每個(gè)腔室各有一個(gè)抽真空的真空泵，以保持多個(gè)串連的腔室的背壓依次降低。更好地，所述副釜由被擋板隔成的3個(gè)以上腔室構(gòu)成。實(shí)用新型的效果本實(shí)用新型的成膜裝置，以連續(xù)式使用溶液狀態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍，把來(lái)自于副釜中蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上，使溶劑揮發(fā)而分離后，通過(guò)置于蒸鍍釜內(nèi)的加熱部加熱而汽化得到的蒸鍍材料的蒸汽噴向基板并沉積，形成蒸鍍材料的膜.本實(shí)用新型可以防止所形成的膜的膜質(zhì)劣化。

圖I是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例I的結(jié)構(gòu)示意圖。[0031]圖2是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)示意圖。圖3是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例3的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例4的結(jié)構(gòu)示意圖。圖5是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例5的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。圖7是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。圖8是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。圖9是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。圖10是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。圖11是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例7的結(jié)構(gòu)示意圖。圖12是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例7的結(jié)構(gòu)示意圖。圖13是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例7的結(jié)構(gòu)示意圖。圖14是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例7的結(jié)構(gòu)示意圖。圖15是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例7的結(jié)構(gòu)示意圖。圖16是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例8的結(jié)構(gòu)示意圖。符號(hào)說(shuō)明I…基板2…搬送方向10…蒸鍍釜1L···真空泵20…副釜20S…第一腔室21…真空泵22…第二腔室23…真空泵24…第二腔室25…真空泵26…第三腔室27…真空泵30…蒸鍍材料供給傳輸帶31…第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32…第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部33…加熱部33S…分配器34…供給管40…檔板41…第一檔板42…第二檔板43…第一檔板[0070]44…第二檔板45…第三檔板20A，20B，20C …副釜21A，21B，210.真空泵30A, 30B, 30C···蒸鍍材料供給傳輸帶33A，33B，330.加熱部34A，34B，340.供給管40A，40B，40C …檔板 A…第一單元B…第二單元C…第三單元
具體實(shí)施方式
下面，參照附圖說(shuō)明本實(shí)用新型的成膜裝置以及使用本實(shí)用新型的成膜裝置形成有機(jī)膜方法的實(shí)施方式。實(shí)施例I「成膜裝置的結(jié)構(gòu)」圖I是本實(shí)用新型中的實(shí)施例I的成膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。例如，成膜裝置具有蒸鍍釜10、副釜20、蒸鍍材料供給傳輸帶30、蒸鍍?nèi)芤汗┙o部(未在圖中示出)、加熱部33和基板夾具(未在圖中示出)。蒸鍍釜10通過(guò)排氣管與真空泵11連接，其內(nèi)部的氣體壓力可以降低到設(shè)定的壓力。按照真空蒸鍍法成膜時(shí)，例如蒸鍍釜內(nèi)的背壓大約是10_2 10_5Pa。副釜20是用檔板40從蒸鍍釜10中隔出所構(gòu)成的。副釜20通過(guò)排氣管與真空泵21連接，其內(nèi)部的氣體壓力可以降低到設(shè)定的壓力。真空蒸鍍成膜時(shí)，例如副釜20內(nèi)的背壓大約是10 一2 10_5Pa。副釜20的背壓與蒸鍍釜10相比真空度可以做到更低。蒸鍍材料供給傳輸帶30設(shè)置成貫通檔板40、從蒸鍍釜10內(nèi)到副釜20內(nèi)，并且可以從蒸鍍釜10移動(dòng)到副釜20。例如，蒸鍍材料供給傳輸帶為環(huán)狀，具有從蒸鍍釜10移動(dòng)到副釜20后，可以再回到蒸鍍釜10這樣的結(jié)構(gòu)。例如，蒸鍍材料供給傳輸帶30由具有耐熱性和耐腐蝕性的不銹鋼等材料做成，可以做成板狀、線狀、網(wǎng)狀等。在本實(shí)施例中，蒸鍍材料供給傳輸帶雖然是帶狀的，但并不僅限于此。例如可以設(shè)計(jì)成復(fù)數(shù)個(gè)臺(tái)子從蒸鍍釜10移動(dòng)到副釜20，只要是可以將蒸鍍材料從蒸鍍釜10移動(dòng)到副釜20的結(jié)構(gòu)，在本實(shí)施例中，便可以替代蒸鍍材料供給傳輸帶來(lái)使用。蒸鍍材料供給傳輸帶的長(zhǎng)度對(duì)應(yīng)成膜裝置的大小等可以進(jìn)行調(diào)節(jié)，例如可以是500 2000mm的長(zhǎng)度范圍，可以是IOOOmm的長(zhǎng)度。還有，蒸鍍材料供給傳輸帶的寬度也是對(duì)應(yīng)成膜裝置的大小、基板的大小等等可以進(jìn)行調(diào)節(jié)。例如30 200mm的寬度范圍。例如具有使蒸鍍材料供給傳輸帶30從副釜20移動(dòng)到蒸鍍釜10的蒸鍍材料供給傳輸帶驅(qū)動(dòng)部，其使蒸鍍材料傳輸帶30從副釜20移動(dòng)到蒸鍍釜10。在本實(shí)施例中，蒸鍍材料供給傳輸帶的驅(qū)動(dòng)部是由位于副釜20內(nèi)的第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和位于蒸鍍釜10內(nèi)的第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32組成。第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32是使蒸鍍材料供給傳輸帶30移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)部件，分別是由使軸承和軸承轉(zhuǎn)動(dòng)起來(lái)的部分以及連接軸承的圓筒形狀部件等所構(gòu)成。如上面所描述的那樣，蒸鍍材料供給傳輸帶30為環(huán)狀，其構(gòu)造是憑借著第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32使蒸鍍材料供給傳輸帶30傳動(dòng)，從副釜20移動(dòng)到蒸鍍釜10，然后再回到副釜20。 在本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32被設(shè)置為沿垂直方向分開(kāi)，蒸鍍材料供給傳輸帶30沿垂直方向進(jìn)行移動(dòng)。雖然檔板40被蒸鍍材料供給傳輸帶30貫通，為了保持副釜20和蒸鍍釜10之間的壓力差，被貫通部位和蒸鍍材料供給傳輸帶30之間的縫隙要盡可能地小。蒸鍍材料溶液供給部(未圖示)連接在供給管34上，蒸鍍材料在溶劑中溶解后的蒸鍍?nèi)芤罕还┙o到位于副釜20中的蒸鍍材料供給傳輸帶30上。在本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)中，向蒸鍍材料供給傳輸帶30與第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31接觸的部位上供給蒸鍍?nèi)芤?。例如蒸鍍?nèi)芤汗┙o部可以由針眼閥、噴出調(diào)解器、螺桿泵等方式構(gòu)成，可以向蒸鍍材料供給傳輸帶30上連續(xù)地供給蒸鍍材料溶液。加熱部33設(shè)置在蒸鍍釜10內(nèi)，使在蒸鍍材料供給傳輸帶30上所定各個(gè)位置上的蒸鍍材料汽化而進(jìn)行加熱。在本實(shí)施例中，雖然表示的是電阻加熱方式的盒子型的加熱部33，但是不僅限于此，還可以采用電子光束照射等各種方式，進(jìn)行加熱的位置也可以適當(dāng)?shù)剡x擇。另外，采用蒸鍍材料供給傳輸帶30本身可以被加熱的結(jié)構(gòu)，也可以對(duì)蒸鍍材料供給傳輸帶30直接進(jìn)行加熱。在使用盒子型加熱部的情況下，在本實(shí)施例中雖然以覆蓋第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32的方式配置了加熱部33，但是并不僅限于此，第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32被設(shè)置在加熱部33的外部也可以?；鍔A具(未圖示)設(shè)置在蒸鍍釜10內(nèi)，放置基板I并且將基板I搬送到搬送方向2。所述的基板在蒸鍍釜10內(nèi)的運(yùn)動(dòng)采用連續(xù)行進(jìn)式或步進(jìn)式移動(dòng)例如基板夾具通過(guò)連續(xù)行進(jìn)式在成膜過(guò)程中把基板I朝搬送方向2連續(xù)地搬送。或者例如基板夾具通過(guò)步進(jìn)式在每個(gè)成膜過(guò)程中把基板I朝搬送方向2進(jìn)行有停頓地移動(dòng)。在本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)中，基板I配置在加熱部33的垂直下方。對(duì)于本實(shí)施例的成膜裝置，例如把來(lái)自于副釜20中蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶30上，使溶劑連續(xù)地?fù)]發(fā)而分離。如上所述，即使蒸鍍?nèi)芤汗┙o部將蒸鍍?nèi)芤哼B續(xù)地提供給蒸鍍材料供給傳輸帶30，副釜20內(nèi)的溶劑連續(xù)地?fù)]發(fā)、分離，蒸鍍材料供給傳輸帶30上僅殘留蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧?。[0112]蒸鍍材料供給傳輸帶30上殘留的蒸鍍材料，隨著蒸鍍材料供給傳輸帶30的移動(dòng)被輸送到蒸鍍爸10。蒸鍍材料被加熱部33加熱汽化，汽化所形成的蒸鍍材料的蒸汽噴向基板I并在基板I上沉積，形成蒸鍍材料的膜。這就是所謂快速蒸鍍成膜法，即蒸鍍材料每一次觸到加熱部便汽化，噴到基板I上并沉積，形成蒸鍍材料的膜。通過(guò)進(jìn)行調(diào)節(jié)蒸鍍材料供給傳輸帶30的移動(dòng)速度和蒸鍍?nèi)芤旱墓┙o速度，使副釜20內(nèi)的溶劑完全分離，在蒸鍍材料供給傳輸帶30上只留下蒸鍍材料。對(duì)應(yīng)蒸鍍?nèi)芤旱娜軇┓N類、黏度或者是蒸鍍?nèi)芤旱墓┙o量等等，蒸鍍材料供給傳輸帶30的移動(dòng)速度可以調(diào)節(jié)到合適的速度值，例如在O. 2 3. 5mm/s左右的范圍。還有，蒸鍍材料供給傳輸帶30在從蒸鍍釜10返回到副釜20時(shí)，為了避免蒸鍍材·料在副釜中汽化，可以把它設(shè)計(jì)成水冷結(jié)構(gòu)。還有，也可以把在副釜20中的第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31設(shè)計(jì)成水冷結(jié)構(gòu)?！笜?gòu)成蒸鍍?nèi)芤旱恼翦儾牧稀篂檫_(dá)到防污膜的特性，可以合適地選擇蒸鍍材料。例如作為形成防污膜的蒸鍍材料可以使用氟碳化合物和硅橡膠樹脂等等，例如更好地，可以使用全氟硅烷類。還有，也可以使用防污膜用途之外的蒸鍍材料。還有，專利文獻(xiàn)3公開(kāi)的有機(jī)硅烷化合物得到廣泛地應(yīng)用。例如下面分子式(I)表示的是帶有全氟烷基的硅烷化合物。分子式ICnF2n+1 — (CH2)m- Si (R1R2R3) ... (I)分子式(I)中，R1是帶有I 3個(gè)碳原子的烷氧基，或者是CnF2n+1 — (CH2)m- Si(R2R3) — O —，R2、R3是帶有I 3個(gè)碳原子的烷基或烷氧基、η為I 12、m為I 6。作為分子式(I)的化合物，例如為三乙氧基(3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，7 — i^一烷氟庚基)硅烷；三乙氧基(3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，8 —十三烷氟辛基)硅烷；三乙氧基(3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，10，10，10 —十七烷氟癸基)硅烷；二乙氧基甲基(3，3，4，4，5，5，6，6，7，7，8，8，9，9，10，10，10 —十七烷氟癸基)硅烷；二 [乙氧(3，3，4，4，5，5，6，6，7，7,8,8,8 一十三烷氟辛基]硅基醚等化合物?！笜?gòu)成蒸鍍?nèi)芤旱娜軇棺鳛闃?gòu)成蒸鍍?nèi)芤旱娜軇?，是把前面描述的蒸鍍材料溶解的物質(zhì)，只要具有與蒸鍍材料相比在較低的溫度和較低的真空度至少其中之一的條件下?lián)]發(fā)的特性即可，沒(méi)有特別的限制。例如比全氟碳?xì)浠衔锏鹊恼翦儾牧显诘蜏睾偷驼婵罩辽倨渲兄坏臈l件下容易揮發(fā)的溶劑可以更好地使用。例如，更好地，使用含有20%碳氟化合物的蒸鍍?nèi)芤汉秃?0%全氟乙烷作為溶劑的「OptooI DSX(商品名，大金工業(yè)株式會(huì)社制)」。例如當(dāng)蒸鍍?nèi)芤旱墓┙o量為10 μ I / S，副釜20的背壓為I X KT1Pa,蒸鍍材料供給傳輸帶30的移動(dòng)速率為O. 2 3. 5mm/s時(shí),在副爸20內(nèi)全氟乙燒完全被分離,在蒸鍍釜10內(nèi)就可實(shí)現(xiàn)只蒸鍍碳氟化合物。[0132]「真空蒸鍍方法」接下來(lái)，在本實(shí)施例中，對(duì)使用蒸鍍材料形成有機(jī)膜的真空蒸鍍方法進(jìn)行說(shuō)明。例如針對(duì)上述本實(shí)施例使用的真空蒸鍍裝置進(jìn)行說(shuō)明。首先，例如將蒸鍍釜10和副釜20抽真空達(dá)到設(shè)定的壓力。例如，將加熱部33加熱到設(shè)定的溫度，并驅(qū)動(dòng)第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32進(jìn)行轉(zhuǎn)動(dòng)，使蒸鍍材料供給傳輸帶30從蒸鍍釜10移到副釜20。例如通過(guò)基板夾具(未圖示)在蒸鍍釜10內(nèi)以連續(xù)式運(yùn)送基板。其次，例如通過(guò)蒸鍍?nèi)芤汗┙o部(未圖示)，向副釜20中的蒸鍍材料供給傳輸帶30上提供來(lái)自供給管34中的蒸鍍材料溶于溶劑形成的蒸鍍?nèi)芤??！ぴ诒緦?shí)施例中，把來(lái)自于副釜20中蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶30上，使溶劑連續(xù)地?fù)]發(fā)而分離。如上所述的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部即使連續(xù)地向蒸鍍材料供給傳輸帶30供給蒸鍍?nèi)芤?，也可以使副?0內(nèi)的溶劑連續(xù)地?fù)]發(fā)而分離，在蒸鍍材料供給傳輸帶30上僅留下蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧?。接下?lái)，在蒸鍍材料供給傳輸帶30上留下來(lái)的蒸鍍材料隨著蒸鍍材料供給傳輸帶30的移動(dòng)被輸送到蒸鍍釜10，蒸鍍材料被加熱部33加熱汽化。汽化得到的蒸鍍材料的蒸汽被噴在基板I上并在基板I上沉積，形成蒸鍍材料的膜。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。例如，形成防污膜的時(shí)候，可以實(shí)現(xiàn)高品質(zhì)的耐久性和耐摩擦性能的防污膜。通過(guò)采用傳輸帶進(jìn)行蒸鍍材料的供給，至少可以設(shè)定不同的兩個(gè)以上部位的壓力和溫度中的任意一項(xiàng)，通過(guò)這樣的手段，達(dá)到從蒸鍍?nèi)芤褐羞B續(xù)地分離溶劑的功能。關(guān)于在本實(shí)施例中的成膜裝置和成膜方法，為了有效地蒸發(fā)蒸鍍材料，要把蒸鍍材料均勻地分布放在蒸鍍材料供給傳輸帶上。例如在副釜中從蒸鍍?nèi)芤褐械娜軇┓蛛x到在蒸鍍釜中蒸鍍材料蒸發(fā)之間，因?yàn)樵谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶的表面設(shè)置了小縫隙，可以讓蒸鍍材料均勻。例如，蒸鍍材料供給傳輸帶的寬是30mm時(shí)，上面講的小縫隙的尺寸比如與蒸鍍材料傳輸帶的間隙做成O. 2mm、寬28mm0還有，在本實(shí)施例的成膜裝置和成膜方法中，當(dāng)成膜裝置長(zhǎng)期使用，未蒸發(fā)的蒸鍍材料會(huì)在蒸鍍材料供給傳輸帶、各個(gè)小縫隙等處堆積，妨礙正常地工作，影響到膜的質(zhì)量。例如，通過(guò)在蒸鍍材料供給傳輸帶的表面保持適當(dāng)?shù)拈g隙安裝刮板，可以除去上述的多余的蒸鍍材料。刮板被設(shè)置在從蒸發(fā)釜到蒸鍍材料供給管之間。具體地講，例如通過(guò)在蒸鍍釜內(nèi)沿蒸鍍材料供給傳輸帶的表面設(shè)置刮板，可以適當(dāng)?shù)爻ド鲜龅亩嘤嗟恼翦儾牧稀?lt;變形例>上述的本實(shí)施例的成膜裝置，副釜、蒸鍍材料供給傳輸帶、蒸鍍?nèi)芤汗┙o部以及加熱部集成為一個(gè)整體。因?yàn)榧蔀橐粋€(gè)整體，所以便于在成膜裝置上的安裝、調(diào)試或是更換等等的處理。實(shí)施例2圖2是本實(shí)用新型中實(shí)施例2的成膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實(shí)施例中，與第I實(shí)施例結(jié)構(gòu)相同，基板被設(shè)置在加熱部33的垂直下方。另外，在本實(shí)施例中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32被設(shè)置成沿水平方向分開(kāi)，蒸鍍材料供給傳輸帶30沿水平方向運(yùn)轉(zhuǎn)。還有，在蒸鍍材料供給傳輸帶30經(jīng)過(guò)第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31之后的位置上供給蒸鍍 溶液。除此之外，其他結(jié)構(gòu)與第I實(shí)施例的構(gòu)成相同。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。實(shí)施例3圖3是關(guān)于本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例3的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實(shí)施例中，與第I實(shí)施例不同的是，基板被設(shè)置在加熱部33的垂直上方。另外，在本實(shí)施例中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32被設(shè)置成沿垂直方向分開(kāi)，蒸鍍材料供給傳輸帶30沿垂直方向移動(dòng)。還有，在蒸鍍材料供給傳輸帶30經(jīng)過(guò)第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31之后的位置上供給蒸鍍?nèi)芤?。除此之外，其他結(jié)構(gòu)與第I實(shí)施例的構(gòu)成相同。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。實(shí)施例4圖4是關(guān)于本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例4的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實(shí)施例中，與實(shí)施例3相同的是，基板被設(shè)置在加熱部33的垂直上方。另外，在本實(shí)施例中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32被設(shè)置為沿水平方向分開(kāi)，蒸鍍材料供給傳輸帶30沿水平方向移動(dòng)。還有，在蒸鍍材料供給傳輸帶30經(jīng)過(guò)第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31之后的位置上供給蒸鍍?nèi)芤?。除此之外，其他結(jié)構(gòu)與實(shí)施例I的構(gòu)成相同。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。實(shí)施例5圖5是關(guān)于本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例5的結(jié)構(gòu)示意圖。在本實(shí)施例中，與實(shí)施例I不相同，基板I與加熱部33的側(cè)面相對(duì)而設(shè)。還有，其結(jié)構(gòu)是基板I從圖5的前端到里側(cè)(或是從里側(cè)到前端)被移動(dòng)。另外，在本實(shí)施例中，第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31和第二轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部32被設(shè)置為沿水平方 向分開(kāi)，蒸鍍材料供給傳輸帶30在水平方向移動(dòng)。還有，在蒸鍍材料供給傳輸帶30經(jīng)過(guò)第一轉(zhuǎn)動(dòng)驅(qū)動(dòng)部31之后的位置上供給蒸鍍?nèi)芤?。還有，在本實(shí)施例，使用了分配器33S作為加熱部。在分配器33S上多處預(yù)設(shè)置了開(kāi)口部，被分配器33S加熱的蒸鍍材料汽化后把得到的蒸鍍材料的汽體從多處的開(kāi)口部噴向基板，可以在基板上大范圍地形成蒸鍍材料的膜。除此之外，其它結(jié)構(gòu)與實(shí)施例I的構(gòu)成相同。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。在本實(shí)施例中，雖然使用了分配器33S作為加熱部，但是也可以使用和實(shí)施例I到實(shí)施例4相同的加熱部件。另外，在實(shí)施例I 實(shí)施例4中作為成膜裝置的加熱部件也可以使用本實(shí)施例中描述的分配器。實(shí)施例6圖6 圖10是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例6的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6 圖10中的每個(gè)成膜裝置，分別對(duì)應(yīng)實(shí)施例I到實(shí)施例5的成膜裝置，不同的是副釜由檔板分割出多個(gè)腔室的結(jié)構(gòu)。即，在本實(shí)施例中，用檔板分隔出第一腔室20S和第二腔室22。第一腔室20S和實(shí)施例I到實(shí)施例5中副釜20的結(jié)構(gòu)相同。第二腔室22通過(guò)排氣管與真空泵23連接，其內(nèi)部的壓力可以降到規(guī)定的壓力值。通過(guò)真空蒸鍍?cè)诔赡r(shí)第二腔室22內(nèi)的背壓是，例如介于大氣壓和蒸鍍釜20的背壓之間。第一腔室20S和第二腔室22用第一檔板41隔開(kāi)，第二腔室22和蒸鍍釜10用第二檔板42隔開(kāi)。例如真空度可以設(shè)定為按第一腔室20S、第二腔室22、蒸鍍釜10的順序逐漸升聞。除此之外，其它結(jié)構(gòu)與第I實(shí)施例的構(gòu)成相同。蒸鍍材料供給傳輸帶30貫通第一檔板41、第二檔板42，為了保持第一腔室20S、第2腔室22、及蒸鍍釜10之間的壓力差，貫通部分與蒸鍍材料供給傳輸帶之間的縫隙盡可能地保持越小越好。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。通過(guò)采用傳輸帶進(jìn)行蒸鍍材料的供給，至少可以有3個(gè)點(diǎn)以上在壓力和溫度的其中一項(xiàng)上進(jìn)行不同的設(shè)定，通過(guò)這樣的手段，達(dá)到從蒸鍍材料溶液中把溶劑連續(xù)地分離的功能。實(shí)施例7圖11 圖15是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例I的結(jié)構(gòu)示意圖?！0198]圖11 圖15中的每個(gè)成膜裝置，分別對(duì)應(yīng)實(shí)施例I到實(shí)施例5的成膜裝置，不同的是副釜是由檔板分割出3個(gè)以上腔室所構(gòu)成。即在本實(shí)施例中有用檔板分隔出第一腔室20S、第二腔室24及第三腔室26。在本實(shí)施例中副釜是由3個(gè)腔室所構(gòu)成，不過(guò)也可以由3個(gè)以上的腔室所構(gòu)成。第一腔室20S的結(jié)構(gòu)和實(shí)施例I到實(shí)施例5的副釜20的結(jié)構(gòu)相同。第二腔室24通過(guò)排氣管與真空泵25連接，其內(nèi)部的壓力可以降到規(guī)定的壓力值。通過(guò)真空蒸鍍?cè)诔赡r(shí)第二副釜24內(nèi)的背壓是，例如介于大氣壓和蒸鍍釜20的背壓之間。第三腔室26通過(guò)排氣管連接著真空泵27，其內(nèi)部的壓力可以降到規(guī)定的壓力值。通過(guò)真空蒸鍍?cè)诔赡r(shí)第三副釜26內(nèi)的背壓是例如介于大氣壓和蒸鍍釜20的背壓之間。第一腔室20S和第二腔室24用第一檔板43隔開(kāi)，第二腔室24和第三腔室26用第二檔板44隔開(kāi)，第三腔室26和和蒸鍍釜10用第三檔板45隔開(kāi)。例如，真空度可以設(shè)定為按第一腔室20S、第二腔室24、第三腔室26、蒸著釜10的順序逐漸升高。除此之外，其它結(jié)構(gòu)與實(shí)施例I的構(gòu)成相同。蒸鍍材料供給傳輸帶30貫通第一檔板43、第二檔板44及第3檔板35，為了保持第一腔室20S、第二腔室24、第三腔室26及蒸鍍釜10之間的壓力差，貫通部分與蒸鍍材料供給傳輸帶之間的縫隙盡可能地保持越小越好。根據(jù)本實(shí)施例的成膜裝置，即使是以連續(xù)式使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行真空蒸鍍的情況下，把來(lái)自副釜的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部供給的蒸鍍?nèi)芤褐械恼翦儾牧狭粼谡翦儾牧瞎┙o傳輸帶上、使溶劑揮發(fā)而分離后，被蒸鍍釜中的加熱部加熱汽化，使得到的蒸鍍材料的蒸汽噴在基板上并在基板上沉積，形成蒸鍍材料的膜。該成膜裝置可以防止由此形成的蒸鍍材料膜的膜質(zhì)劣化。通過(guò)采用蒸鍍材料供給傳輸帶供給蒸鍍材料，至少可以設(shè)定四個(gè)以上不同點(diǎn)的壓力或溫度值，通過(guò)這樣的手段，實(shí)現(xiàn)從蒸鍍材料溶液中連續(xù)地分離溶劑。必要時(shí)，也可以進(jìn)一步增加構(gòu)成腔室的個(gè)數(shù)。在上述的實(shí)施例6和實(shí)施例7中，副釜由多個(gè)腔室所構(gòu)成。在上述的結(jié)構(gòu)中，把第一腔室的背壓提高，第一腔室內(nèi)的溶劑不進(jìn)行分離，到第二腔室之后再慢慢地將溶劑分離，這樣的結(jié)構(gòu)也可以。還有，根據(jù)蒸鍍材料供給的速度和副釜內(nèi)腔室的個(gè)數(shù)以及規(guī)定的背壓，可以在到達(dá)蒸鍍釜之前的副釜內(nèi)實(shí)現(xiàn)壓力梯度。把材料導(dǎo)入副釜時(shí)，副釜的背壓如果沒(méi)有被適當(dāng)?shù)卦O(shè)定，溶劑一下子全部揮發(fā)，會(huì)使蒸鍍材料一同飛濺出來(lái)。如上述所述設(shè)定壓力梯度，在第一腔室內(nèi)溶劑不被分離，到第二腔室之后再慢慢地進(jìn)行溶劑分離，通過(guò)這樣的結(jié)構(gòu)可以控制飛濺現(xiàn)象的發(fā)生。例如在第一腔室導(dǎo)入Ar等氣體，通過(guò)結(jié)合材料供給口進(jìn)行設(shè)計(jì)可以得到適當(dāng)?shù)膲毫μ荻?。另外，也可以使用罩子、網(wǎng)、線等，來(lái)防止蒸鍍材料的飛濺。實(shí)施例8 圖16是本實(shí)用新型成膜裝置實(shí)施例8的結(jié)構(gòu)示意圖。蒸鍍材料的蒸汽出汽口為多個(gè)且呈并列結(jié)構(gòu)。即對(duì)于一個(gè)蒸鍍釜10，用檔板40A隔開(kāi)，由通過(guò)排氣管與真空泵21A連接的副釜20A、蒸鍍材料供給傳輸帶30A、被連接在蒸鍍?nèi)芤汗┙o部的供給管34A以及加熱部33A構(gòu)成第一單元A ;用檔板40B隔開(kāi)，由通過(guò)排氣管與真空泵21B連接的副釜20B、蒸鍍材料供給傳輸帶30B、被連接在蒸鍍?nèi)芤汗┙o部的供給管34B以及加熱部33B構(gòu)成第二單元B ;用檔板40C隔開(kāi)，由通過(guò)排氣管與真空泵21C連接的副釜20C、蒸鍍材料供給傳輸帶30C、被連接在蒸鍍?nèi)芤汗┙o部的供給管34C以及加熱部33C構(gòu)成的第三單元C，以上3個(gè)單元構(gòu)成并列結(jié)構(gòu)。因?yàn)檎翦儾牧系恼羝銎跒槎鄠€(gè)且呈并列結(jié)構(gòu)，所以即使對(duì)于寬度大的基板也可以進(jìn)行蒸鍍。即使是在本實(shí)施例中，每個(gè)副釜也可以用檔板隔成多個(gè)腔室的結(jié)構(gòu)。具體地講，每個(gè)副釜也可以用檔板隔成具有3個(gè)以上腔室的結(jié)構(gòu)。還有，作為加熱部，可以使用在第5實(shí)施例中描述的分配器。本實(shí)用新型不僅限于以上的說(shuō)明。例如，作為蒸鍍材料，在防污膜之外，也可以使用防污膜以外用途的蒸鍍材料。蒸鍍材料在溶劑中溶解或者被分散并被保存時(shí)，把溶劑或是分散劑除去之后，進(jìn)行蒸鍍也可以。另外，在不超出本實(shí)用新型要點(diǎn)的范圍內(nèi)，可以有各種變動(dòng)。
權(quán)利要求1.一種成膜裝置，其特征在于，具有 蒸鍍釜及設(shè)置在蒸鍍釜內(nèi)的加熱部，在所述的蒸鍍釜內(nèi)與所述的加熱部的蒸汽出汽口相對(duì)的是基板，及夾持和移動(dòng)所述的基板的基板夾具； 用檔板與所述蒸鍍釜分隔的副釜； 蒸鍍?nèi)芤汗┙o部，該蒸鍍?nèi)芤汗┙o部的供給管直通所述的副釜內(nèi)； 貫通所述擋板從所述副釜至所述蒸鍍釜內(nèi)的加熱部設(shè)置傳送蒸鍍材料的傳輸帶； 所述蒸鍍?nèi)芤汗┙o部通過(guò)供給管向所述的副釜內(nèi)將蒸鍍材料溶解在溶劑中的蒸鍍?nèi)芤哼B續(xù)不斷地提供給所述傳輸帶上，該蒸鍍?nèi)芤涸谒鰝鬏攷У膫魉瓦^(guò)程中，所述蒸鍍?nèi)芤旱娜軇┰诟备袚]發(fā)而分離，僅蒸鍍材料留在傳輸帶上進(jìn)入所述的加熱部，該加熱部對(duì)所述的蒸鍍材料加熱汽化后的蒸汽從所述的蒸汽出汽口噴射在所述的基板上沉積，形成所述蒸鍍材料的膜。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的成膜裝置，其特征在于，所述的蒸鍍釜具有抽真空的真空泵，所述的副釜具有抽真空的真空泵。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的成膜裝置，其特征在于，所述的傳輸帶呈環(huán)狀，該傳輸帶具有驅(qū)動(dòng)部，傳輸帶由驅(qū)動(dòng)部驅(qū)動(dòng)，使所述傳輸帶從所述副釜向所述蒸鍍釜再回到所述副釜的連續(xù)循環(huán)運(yùn)動(dòng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的成膜裝置，其特征在于，所述的蒸鍍?nèi)芤汗┙o部由針眼閥、噴出調(diào)解器或螺桿泵構(gòu)成。
5.根據(jù)權(quán)利要求I至4任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，所述基板夾具有驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，該驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)根據(jù)鍍膜需要在成膜過(guò)程中按連續(xù)行進(jìn)式連續(xù)地移動(dòng)所述基板或間歇式移動(dòng)所述基板。
6.根據(jù)權(quán)利要求I至5任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，所述副釜由多塊擋板隔成的多個(gè)串連的腔室構(gòu)成，每個(gè)腔室各有一個(gè)抽真空的真空泵，以保持多個(gè)串連的腔室的背壓依次降低。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成膜裝置，其特征在于，所述副釜由被擋板隔成的3個(gè)以上串連的腔室構(gòu)成。
8.根據(jù)權(quán)利要求I至4任一項(xiàng)所述的成膜裝置，其特征在于，所述副釜、傳輸帶、蒸鍍?nèi)芤汗┙o部和加熱部集成為一個(gè)單元。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的成膜裝置，其特征在于，包括多個(gè)所述的單元，該多個(gè)所述的單元的加熱部的蒸汽出汽口在所述的基板的寬度方向并列設(shè)置。
專利摘要一種成膜裝置，構(gòu)成包括蒸鍍釜及其內(nèi)的加熱部，在所述的蒸鍍釜內(nèi)與所述的加熱部的蒸汽出汽口相對(duì)的是基板及其移動(dòng)夾具；用檔板與所述蒸鍍釜分隔的副釜；蒸鍍?nèi)芤汗┙o部，該蒸鍍?nèi)芤汗┙o部的供給管直通所述的副釜內(nèi)；貫通所述擋板從所述副釜至所述蒸鍍釜內(nèi)的加熱部設(shè)置傳送蒸鍍材料的傳輸帶；所述蒸鍍?nèi)芤汗┙o部向所述的副釜內(nèi)將蒸鍍?nèi)芤哼B續(xù)不斷地提供給所述傳輸帶上，所述的加熱部對(duì)所述的蒸鍍材料加熱汽化后的蒸汽從所述的蒸汽出汽口噴射在所述的基板上沉積，形成所述蒸鍍材料的膜。本實(shí)用新型的成膜裝置的特點(diǎn)是連續(xù)地使用液態(tài)的蒸鍍材料進(jìn)行蒸發(fā)鍍膜，并能有效地防止所形成膜的膜質(zhì)劣化。
文檔編號(hào)C23C14/24GK202755046SQ201220325310
公開(kāi)日2013年2月27日 申請(qǐng)日期2012年7月6日 優(yōu)先權(quán)日2011年8月11日
發(fā)明者岡田浩和, 島田修一, 雀堂健洋, 范賓, 小林貴行 申請(qǐng)人:光馳科技(上海)有限公司