專利名稱：連續(xù)真空鍍膜裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種真空鍍膜技術，尤指一種連續(xù)真空鍍膜裝置。
背景技術：
一般的真空鍍膜，是在一個固定的鍍膜空間進行，鍍件每鍍一層膜，需要從鍍膜腔體取出，再進行第二次鍍膜，工作效率低，成本高，污染環(huán)境嚴重。

發(fā)明內容
為解決前述存在的問題，本發(fā)明提供一種連續(xù)真空鍍膜裝置，該裝置由若干個鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構成，每個鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個裝載/卸載室和一個真空過渡室，裝載/卸載室后面分別有鍍制工件轉動架平臺，鍍制工件轉動架平臺上放置鍍制工件轉動架，鍍制工件轉動架上懸掛有鍍制工件，鍍制工件轉動架通過傳動滾軸傳送到各個鍍膜腔體，依次、連續(xù)實施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載室取出。所述多個鍍膜腔體，每個腔體是框架箱體結構，腔體兩頭是矩形開口，分別與矩形插板閥連接密封，以使不同腔體有不同真空度，或者兩腔體對接密封，以使對接的腔體有相同的真空度，旁邊設有分子真空泵，腔休下方有傳動滾軸，腔體底部與旋轉加偏壓裝置連接，腔體一側有過濾陰極真空鍍膜膜源接口。鍍膜腔體采用標準設計。所述兩頭的裝載/卸載室和真空過渡室，其大小與鍍膜腔體匹配，并與鍍膜腔體串接貫通，由插板閥連接密封，每個真空過渡室有分子真空泵。所述旋轉加偏壓裝置，設有氣缸和電動機，電動機轉軸連接一縱向轉軸，轉軸頂端有機械咬合裝置，通過氣缸使旋轉加偏壓裝置升降，上升時，機械咬合裝置嵌進鍍膜腔體內放置的鍍制工件轉動架的槽內嵌合，電機帶動鍍制工件轉動架在鍍膜腔體內旋轉，實施鍍膜。所述的過濾陰極真空鍍膜膜源在每個鍍膜腔體內設置有不同高度的過濾陰極真空鍍膜膜源，膜源粒子的方向角度，能夠調整。本發(fā)明的優(yōu)點在于，本發(fā)明的真空鍍膜可以連續(xù)生產，可長時間連續(xù)鍍膜，延長了設備維護周期，從串接節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體一頭送進被鍍件，從串接節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體另一頭便出來一件完好的鍍制品，一次能夠鍍多個鍍件，生產效率提高許多倍。


附圖1是本發(fā)明的主視圖；附圖2是圖1的俯視附圖3是單個鍍膜腔體的立體圖。
具體實施例方式請參閱附圖所示，本發(fā)明由由若干個鍍膜腔體6串接節(jié)聯(lián)構成，每個鍍膜腔體6配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源8、和/或磁控濺射源和分子真空泵7，鍍膜腔體6之間用插板閥3關閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體6，兩頭各有一個裝載/卸載室4和一個真空過渡室5，裝載/卸載室4后面分別有鍍制工件轉動架平臺2，鍍制工件轉動架平臺2上放置鍍制工件轉動架1，鍍制工件轉動架1上懸掛有鍍制工件(圖中未示出)，鍍制工件轉動架1通過傳動滾軸10傳送到各個鍍膜腔體6，依次、連續(xù)實施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載4室取出。所述多個鍍膜腔體6，每個腔體是框架箱體結構，腔體兩頭是矩形開口 11，分別與矩形插板閥3連接密封，以使不同腔體6有不同真空度，或者兩腔體6對接密封，以使對接的腔體6有相同的真空度，旁邊設有分子真空泵7，腔休6下方有傳動滾軸10，腔體6底部與旋轉加偏壓裝置9連接，腔體6 —側有過濾陰極真空鍍膜膜源8接口 12。鍍膜腔體6采用標準設計。所述兩頭的裝載/卸載室4和真空過渡室5，其大小與鍍膜腔6體匹配，并與鍍膜腔6體串接貫通，由插板閥3連接密封，每個真空過渡室5有分子真空泵7。所述旋轉加偏壓裝置9，設有氣缸和電動機，電動機轉軸連接一縱向轉軸，轉軸頂端有機械咬合裝置，通過氣缸使旋轉加偏壓裝置升降，上升時，機械咬合裝置嵌進鍍膜腔體6內放置的鍍制工件轉動架1的槽內嵌合，電機帶動鍍制工件轉動架1在鍍膜腔體內旋轉，實施鍍膜。所述的過濾陰極真空鍍膜膜源8在每個鍍膜腔體6內設置有不同高度的過濾陰極真空鍍膜膜源，膜源粒子的方向角度，能夠調整。本發(fā)明的鍍膜腔體采用不銹鋼制成，設置有專用電氣控制柜。本發(fā)明的過濾陰極真空鍍膜膜源是申請人的專利技術。
權利要求
1.一種連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于該裝置由若干個鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構成，每個鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個裝載/卸載室和一個真空過渡室，裝載/卸載室后面分別有鍍制工件轉動架平臺，鍍制工件轉動架平臺上放置鍍制工件轉動架，鍍制工件轉動架上懸掛有鍍制工件，鍍制工件轉動架通過傳動滾軸傳送到各個鍍膜腔體，依次、連續(xù)實施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載室取出。
2.根據(jù)權利要求1所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述多個鍍膜腔體，每個腔體是框架箱體結構，腔體兩頭是矩形開口，分別與矩形插板閥連接密封，或者兩腔體對接密封，旁邊設有分子真空泵，腔休下方有傳動滾軸，腔體底部與旋轉加偏壓裝置連接，腔體一側有過濾陰極真空鍍膜膜源接口。
3.根據(jù)權利要求1所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述兩頭的裝載/卸載室和真空過渡室，其大小與鍍膜腔體匹配，并與鍍膜腔體串接貫通，由插板閥連接密封，每個真空過渡室有分子真空泵。
4.根據(jù)權利要求2所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述旋轉加偏壓裝置，設有氣缸和電動機，電動機轉軸連接一縱向轉軸，轉軸頂端有機械咬合裝置，通過氣缸使旋轉加偏壓裝置升降，上升時，機械咬合裝置嵌進鍍膜腔體內放置的鍍制工件轉動架的槽內嵌合，電機帶動鍍制工件轉動架在鍍膜腔體內旋轉，實施鍍膜。
5.根據(jù)權利要求1所述的連續(xù)真空鍍膜裝置，其特征在于所述的過濾陰極真空鍍膜膜源在每個鍍膜腔體內設置有不同高度的過濾陰極真空鍍膜膜源，膜源粒子的方向角度，能夠調整。
全文摘要
本發(fā)明公開一種連續(xù)真空鍍膜裝置，該裝置由若干個鍍膜腔體串接節(jié)聯(lián)構成，每個鍍膜腔體配置有離子束清洗源、和/或過濾陰極真空鍍膜膜源、和/或磁控濺射源和分子真空泵，鍍膜腔體之間用插板閥關閉密封或開啟，節(jié)聯(lián)的鍍膜腔體，兩頭各有一個裝載/卸載室和一個真空過渡室，裝載/卸載室后面分別有鍍制工件轉動架平臺，鍍制工件轉動架平臺上放置鍍制工件轉動架，鍍制工件轉動架上懸掛有鍍制工件，鍍制工件轉動架通過傳動滾軸傳送到各個鍍膜腔體，依次、連續(xù)實施不同需求的連續(xù)鍍膜后，分別從一端的裝載/卸載室取出。優(yōu)點在于，可長時間連續(xù)鍍膜，延長了設備維護周期，一次能夠鍍多個鍍件，生產效率提高許多倍。
文檔編號C23C14/56GK102560408SQ20121001820
公開日2012年7月11日 申請日期2012年1月20日 優(yōu)先權日2012年1月20日
發(fā)明者史旭 申請人:納峰真空鍍膜(上海)有限公司