專利名稱：一種雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及PECVD設(shè)備的磁場(chǎng)，具體地說(shuō)是一種可以提高原料利用率和提高膜層沉積速度，進(jìn)而提高產(chǎn)能的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置。
背景技術(shù)：
隨著經(jīng)濟(jì)建設(shè)的快速發(fā)展，微電子技術(shù)得到了迅猛地發(fā)展，PECVD等離子體處理設(shè)備的開發(fā)和使用也日益廣泛。PECVD即為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法，在化學(xué)氣相沉積時(shí)，為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，可以利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，這種化學(xué)氣相沉積方法稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法，實(shí)施該種加工方法的設(shè)備為PECVD設(shè)備。用于太陽(yáng)能領(lǐng)域等薄膜沉積系統(tǒng)主要為大型平板式PECVD設(shè)備，一種典型的板式 PECVD系統(tǒng)將多個(gè)太陽(yáng)能電池片裝入載板中，將該載板傳輸至工藝腔內(nèi)，預(yù)熱到設(shè)定溫度后，通入工藝氣體，設(shè)定功率離化工藝氣體產(chǎn)生等離子體，進(jìn)而完成薄膜沉積。目前PECVD設(shè)備基本上都采用了內(nèi)置或外置磁場(chǎng)的方法來(lái)對(duì)等離子體進(jìn)行束流， 也就是約束等離體的運(yùn)動(dòng)軌跡。而束流的作用一般有兩個(gè)，其一增加等離子體中電子的運(yùn)動(dòng)軌跡，增加電子與反應(yīng)氣體分子碰撞機(jī)率進(jìn)而增加了等離子體密度；其二就是約束反應(yīng)氣體離子的運(yùn)動(dòng)軌跡，使等離子體在備沉積樣品表面復(fù)合，進(jìn)而提高沉積速率。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置。該雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置可以通過(guò)提高原料利用率和提高膜層沉積速度，進(jìn)而提高產(chǎn)能。本實(shí)用新型的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的本實(shí)用新型包括真空室及石英管，其中石英管安裝在真空室內(nèi)，在石英管的周圍分別設(shè)置有第一磁鋼、第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼。其中所述第一磁鋼與第三磁鋼相對(duì)設(shè)置、相互平行，分別位于石英管的上方和下方；所述第二磁鋼與第四磁鋼相對(duì)設(shè)置、相互平行，分別位于石英管的左側(cè)和右側(cè)；所述第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼的極性相同，第一磁鋼與第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼的極性相反；所述第一磁鋼、第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼可為圓柱體或長(zhǎng)方體；所述石英管為三根，其中一根與第一磁鋼及第二磁鋼平行，另外兩根與第一根傾斜設(shè)置。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)與積極效果為本實(shí)用新型在石英管四周設(shè)置了四個(gè)磁鋼，兩兩相對(duì)，提高了原料利用率和膜層沉積速度，進(jìn)而提高了設(shè)備產(chǎn)能。

圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；其中1為真空室，2為第一磁鋼，3為第二磁鋼，4為第三磁鋼，5為第四磁鋼，6為石英管。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳述。如圖1所示，本實(shí)用新型包括真空室1及石英管6，其中石英管6安裝在真空室1 內(nèi)，石英管6為三根，其中一根與第一磁鋼2及第二磁鋼3平行，另外兩根與第一根傾斜設(shè)置。在石英管6的周圍分別設(shè)置有第一磁鋼2、第二磁鋼3、第三磁鋼4及第四磁鋼5，第一磁鋼2與第三磁鋼4相對(duì)設(shè)置、相互平行，且平行于上述石英管6中的第一根，第一磁鋼2 與第三磁鋼4分別位于石英管6的上方和下方，距離為250毫米；第二磁鋼3與第四磁鋼5 相對(duì)設(shè)置、相互平行，且垂直于第一磁鋼2及第三磁鋼4，第二磁鋼3與第四磁鋼5分別位于石英管6的左側(cè)和右側(cè)，距離為120毫米。第二磁鋼3、第三磁鋼4及第四磁鋼5的極性相同，第一磁鋼2與第二磁鋼3、第三磁鋼4及第四磁鋼5的極性相反。本實(shí)用新型的第一磁鋼2、第二磁鋼3、第三磁鋼4及第四磁鋼5可以為釹鐵硼的永磁鐵、磁場(chǎng)強(qiáng)度50高斯，形狀可為圓柱體或長(zhǎng)方體，材料可以為合金永磁材料或鐵氧體永磁材料。本實(shí)用新型的工作原理為利用在石英管6的四周設(shè)置四個(gè)磁鋼，磁鋼可以提高氣體利用率，增加沉積速率， 進(jìn)一步提高磁場(chǎng)的約束力，提高原料利用率和膜層沉積速度，進(jìn)而提高設(shè)備的產(chǎn)能。本實(shí)用新型可提高原料利用率至少10%以上。
權(quán)利要求1.一種雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，其特征在于包括真空室(1)及石英管(6)，其中石英管(6)安裝在真空室⑴內(nèi)，在石英管(6)的周圍分別設(shè)置有第一磁鋼O)、第二磁鋼(3)、第三磁鋼⑷及第四磁鋼(5)。
2.按權(quán)利要求1所述的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，其特征在于所述第一磁鋼( 與第三磁鋼(4)相對(duì)設(shè)置、相互平行，分別位于石英管(6)的上方和下方。
3.按權(quán)利要求1所述的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，其特征在于所述第二磁鋼(3)與第四磁鋼( 相對(duì)設(shè)置、相互平行，分別位于石英管(6)的左側(cè)和右側(cè)。
4.按權(quán)利要求1所述的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，其特征在于所述第二磁鋼(3)、第三磁鋼(4)及第四磁鋼(5)的極性相同，第一磁鋼(2)與第二磁鋼(3)、第三磁鋼(4)及第四磁鋼(5)的極性相反。
5.按權(quán)利要求1所述的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，其特征在于所述第一磁鋼O)、第二磁鋼(3)、第三磁鋼(4)及第四磁鋼(5)可為圓柱體或長(zhǎng)方體。
6.按權(quán)利要求1所述的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，其特征在于所述石英管(6)為三根，其中一根與第一磁鋼( 及第二磁鋼( 平行，另外兩根與第一根傾斜設(shè)置。
專利摘要本實(shí)用新型涉及提高PECVD設(shè)備的磁場(chǎng)，具體地說(shuō)是一種可以提高原料利用率和提高膜層沉積速度，進(jìn)而提高產(chǎn)能的雙向磁場(chǎng)增強(qiáng)裝置，包括真空室及石英管，其中石英管安裝在真空室內(nèi)，在石英管的周圍分別設(shè)置有第一磁鋼、第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼；所述第一磁鋼與第三磁鋼相對(duì)設(shè)置、相互平行，分別位于石英管的上方和下方；第二磁鋼與第四磁鋼相對(duì)設(shè)置、相互平行，分別位于石英管的左側(cè)和右側(cè)；所述第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼的極性相同，第一磁鋼與第二磁鋼、第三磁鋼及第四磁鋼的極性相反。本實(shí)用新型在石英管四周設(shè)置了四個(gè)磁鋼，兩兩相對(duì)，提高了原料利用率和膜層沉積速度，進(jìn)而提高了設(shè)備產(chǎn)能。
文檔編號(hào)C23C16/44GK202323013SQ20112044660
公開日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2011年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月11日
發(fā)明者劉興, 張健, 張冬, 張振厚, 徐寶利, 李士軍, 李松, 洪克超, 王剛, 王學(xué)敏, 許新, 趙崇凌, 郭玉飛, 鐘福強(qiáng), 陸濤 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器研制中心有限公司