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一種電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿的制作方法

文檔序號:3386365閱讀:614來源:國知局
專利名稱:一種電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及ー種電弧離子鍍膜設(shè)備,特別是涉及ー種用于電弧離子鍍膜設(shè)備中連接固定引弧針的引弧桿。
背景技術(shù)
在電弧離子鍍膜設(shè)備中,引弧桿帶著其前端的引弧針穿過起密封作用的骨架封膠伸進真空室內(nèi),隨著引弧針的工作進行,引弧針的溫度升高,引弧桿的溫度也隨之升高,使得引弧桿在工作狀態(tài)時一直處于高溫狀態(tài)。引弧桿的高溫也讓其連接的骨架封膠處于高溫的狀態(tài)下,加速了骨架封膠的老化變硬,密封性下降,從而導(dǎo)致真空室真空狀態(tài)的不穩(wěn)定性,影響到鍍膜質(zhì)量。

實用新型內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供ー種防止引弧針熱傳遞的引弧桿,其可有效防止安裝在引弧桿上的骨架封膠在高溫下老化的現(xiàn)象。本實用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,包括桿身,所述桿身內(nèi)部設(shè)有流體流通通道,在桿身上還設(shè)有進料孔和出料孔,所述進料孔連通流體流通通道的始端,所述出料孔連通流體流通通道的末端。進ー步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述桿身一端端面上設(shè)置有盲孔,所述盲孔內(nèi)設(shè)置有隔片,所述隔片將盲孔分隔為互相連通的第一腔和第二腔,所述第一腔和第ニ腔構(gòu)成流體流通通道。進ー步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述桿身設(shè)置盲孔的一端還設(shè)有密封蓋,所述進料孔設(shè)置在桿身側(cè)壁上,連通所述第一腔,所述出料孔設(shè)置在桿身側(cè)壁上,連通所述第二腔。進ー步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述隔片固定連接于桿身設(shè)有盲孔的ー端。進ー步作為本實用新型技術(shù)方案的改進,所述進料孔和出料孔設(shè)置在靠近桿身設(shè)有盲孔一端的側(cè)壁上。本實用新型的有益效果本實用新型通過在桿身設(shè)置流體流通通道,并在桿身設(shè)置連通流體流通通道的進料孔和出料孔,可從進料孔向流體流通通道中加入流體,該流體可與工作狀態(tài)下地引弧桿做熱交換,使得引弧桿能工作在較低的溫度,防止引弧桿的溫度過高影響與其連接的骨架膠封的密封性,保證電弧離子鍍膜設(shè)備的真空室處于穩(wěn)定的真空狀態(tài)。本實用新型可作為引弧桿適用于電弧離子鍍膜設(shè)備中。

圖I是本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖;[0012]圖2是本實用新型側(cè)視圖。
具體實施方式
參照圖I和圖2,一種電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,包括桿身,所述桿身內(nèi)部設(shè)有流體流通通道,在桿身上還設(shè)有進料孔和出料孔,所述進料孔連通流體流通通道的始端,所述出料孔連通流體流通通道的末端。作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,參照圖I和圖2,所述桿身I 一端端面7上設(shè)置有盲孔2,所述盲孔內(nèi)設(shè)置有隔片3,所述隔片3將盲孔2分隔為互相連通的第一腔8和第ニ腔9,所述第一腔8和第二腔9構(gòu)成流體流通通道,可向流體流通通道加入水、油或者其他流體,與桿身I作熱交換使其保持在較低的溫度。作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,所述桿身I設(shè)置盲孔2的一端還設(shè)有密封蓋4,所述進料孔5設(shè)置在桿身I側(cè)壁上,連通所述第一腔8,所述出料孔6設(shè)置在桿身I側(cè)壁上,連通所述第二腔9,用密封蓋4封閉盲孔2后,在桿身上設(shè)置連通第一腔8的進料孔5和連通第二腔9的出料孔6,使得進料孔5、第一腔8、第二腔9和出料孔構(gòu)成流體流通通道。作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,所述隔片3固定連接于桿身I設(shè)有盲孔2的一端,使隔片3在工作時不發(fā)生偏轉(zhuǎn),其構(gòu)成的流體流通通道保持暢順。作為本實用新型優(yōu)選的實施方式,所述進料孔8和出料孔9設(shè)置在靠近桿身I設(shè)有盲孔一端的側(cè)壁上,増加流體流通通道的長度,使桿身I和流體進行充分的熱交換,使桿身I保持在較低的溫度。在電弧離子鍍膜設(shè)備工作時,隨著引弧針溫度的升高,引弧桿的溫度隨著升高,可從流體存放容器向進料孔5加入水、油或者其他流體,流體在通過進料腔8和出料腔9吋,與引弧桿做熱交換,從出料孔6流出,流體經(jīng)冷卻后回到冷媒存放容器,如此循環(huán),形成一個冷卻循環(huán)回路,使得引弧桿在工作時處于較低的工作溫度,減少對與其連接的骨架膠封的密封性,保證電弧離子鍍膜設(shè)備的真空室處于穩(wěn)定的真空狀態(tài)。當然,本實用新型創(chuàng)造并不局限于上述實施方式,熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不違背本實用新型精神的前提下還可作出等同變形或替換,這些等同的變型或替換均包含在本申請權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求1.一種電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,包括桿身,其特征在于所述桿身內(nèi)部設(shè)有流體流通通道,在桿身上還設(shè)有進料孔和出料孔,所述進料孔連通流體流通通道的始端,所述出料孔連通流體流通通道的末端。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,其特征在于所述桿身一端端面上設(shè)置有盲孔,所述盲孔內(nèi)設(shè)置有隔片,所述隔片將盲孔分隔為互相連通的第一腔和第ニ腔,所述第一腔和第二腔構(gòu)成流體流通通道。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,其特征在干所述桿身設(shè)置盲孔的一端還設(shè)有密封蓋,所述進料孔設(shè)置在桿身側(cè)壁上,連通所述第一腔,所述出料孔設(shè)置在桿身側(cè)壁上,連通所述第二腔。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,其特征在于所述隔片固定連接于桿身設(shè)有盲孔的一端。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,其特征在于所述進料孔和出料孔設(shè)置在靠近桿身設(shè)有盲孔一端的側(cè)壁上。
專利摘要本實用新型公開了一種電弧離子鍍膜設(shè)備的引弧桿,包括桿身,所述桿身內(nèi)部設(shè)有流體流通通道,在桿身上還設(shè)有進料孔和出料孔,所述進料孔連通流體流通通道的始端,所述出料孔連通流體流通通道的末端。本實用新型通過在桿身設(shè)置流體流通通道,并在桿身設(shè)置連通流體流通通道的進料孔和出料孔,可從進料孔向流體流通通道中加入流體,該流體可與工作狀態(tài)下地引弧桿做熱交換,使得引弧桿能工作在較低的溫度,防止引弧桿的溫度過高影響與其連接的骨架膠封的密封性,保證電弧離子鍍膜設(shè)備的真空室處于穩(wěn)定的真空狀態(tài)。本實用新型可作為引弧桿適用于電弧離子鍍膜設(shè)備中。
文檔編號C23C14/32GK202401122SQ201120440828
公開日2012年8月29日 申請日期2011年11月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月9日
發(fā)明者蘇東藝 申請人:廣州今泰科技有限公司
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