專利名稱：一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口及其接頭的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及真空鍍膜中的抽氣技術(shù)，具體涉及一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口及其接頭。
背景技術(shù)：
立式真空鍍膜機(jī)的鍍膜室與抽氣系統(tǒng)連接處的抽氣口，多開(kāi)在鍍室的后壁中部， 呈圓形口或方形或近方形口，開(kāi)口的高度或直徑約占鍍室總高度三分之一至四分之一左右。這種現(xiàn)在流行的設(shè)計(jì)源于適應(yīng)抽氣系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)化接口，比如以油擴(kuò)散泵為主抽泵，在主泵與鍍室之間必配高真空閥門，后者標(biāo)準(zhǔn)接口法蘭就是圓形的；以渦輪分子泵為主抽泵，一般也采用標(biāo)準(zhǔn)的圓形管道法蘭接口。有的鍍膜設(shè)備采用兩臺(tái)或多臺(tái)渦輪分子泵并聯(lián)運(yùn)行抽氣，會(huì)采用自行設(shè)計(jì)的并聯(lián)泵專用閥門，則會(huì)設(shè)計(jì)成方形或近方形抽氣口。無(wú)論在鍍室后壁的抽氣口設(shè)成圓形或方形或近方形，因?yàn)殚_(kāi)口在鍍室后壁中部， 且其高度只占鍍室總高度較小的比例，抽氣時(shí)爐內(nèi)各處的氣體都會(huì)沿著氣阻最小的路徑匯集流向抽氣口，自然氣流軌跡不會(huì)均勻掃過(guò)鍍室內(nèi)各個(gè)部位。特別是進(jìn)行反應(yīng)鍍膜時(shí)，供入反應(yīng)氣體(如氮、氧、乙炔)的導(dǎo)氣管多數(shù)豎立裝在爐前壁靠爐門附近，反應(yīng)氣體從導(dǎo)氣管中沿不同高度開(kāi)的小孔流向鍍室，與鍍室內(nèi)蒸發(fā)的鍍料或?yàn)R射靶濺出的原子、離子在待鍍工件表面反應(yīng)成化合物膜，例如，與鈦鍍料反應(yīng)則分別生成金黃色的TiN、黑色的TiC以及藍(lán)色的TiO2干涉膜。由于上述鍍室內(nèi)被抽氣流流動(dòng)軌跡有向后壁中部匯集趨向，室內(nèi)上、 中、下和前、后部，反應(yīng)氣體分布的濃度是不均勻的，特別是在上，中，下部的差異是不能靠工件公/自轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)方式來(lái)補(bǔ)償，這樣沿高度方向的膜層的成分與厚薄會(huì)不一致，膜層會(huì)出現(xiàn)色差。雖然調(diào)節(jié)導(dǎo)氣管上的小孔的大小、分布可以改善一些膜層均勻性，但上述抽氣口的形狀和位置固有的不合理性，致使以調(diào)整布?xì)鈦?lái)克服膜層的色差變得非常困難。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口及其接頭，通過(guò)抽氣口及其接頭的設(shè)置，獲得對(duì)鍍膜機(jī)鍍室的較均勻的抽氣效果，提高鍍膜質(zhì)量。本實(shí)用新型的技術(shù)問(wèn)題可以通過(guò)以下方案解決一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口，所述抽氣口開(kāi)設(shè)在真空鍍膜機(jī)鍍室的室壁上，抽氣口為長(zhǎng)方形口，所述抽氣口的長(zhǎng)度等于鍍室的高度，
主抽氣泵的抽氣泵口面積
所述抽氣口的莧度=-4·山P門從丨Z倉(cāng)-。
抽氣口的長(zhǎng)度 與所述抽氣口配合使用的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，所述抽氣接頭的一側(cè)開(kāi)有與所述抽氣口大小形狀完全一樣的抽氣接口，與抽氣接口相對(duì)的另一側(cè)開(kāi)有出氣口，所述抽氣接頭的抽氣接口與所述抽氣口對(duì)接后與真空鍍膜機(jī)的鍍室連通，所述抽氣接頭的出氣口與抽氣系統(tǒng)的抽氣泵連通，所述抽氣接頭的抽氣接口與出氣口之間為用于氣流均勻緩沖過(guò)渡的緩沖過(guò)渡段。本實(shí)用新型所述緩沖過(guò)渡段包括用于氣流由真空鍍膜機(jī)的鍍室進(jìn)入抽氣接頭后均勻緩沖的等截面緩沖段和用于連接開(kāi)口形狀不同的抽氣口與出氣口的變截面過(guò)渡段，所述緩沖段與過(guò)渡段連通。本實(shí)用新型所述緩沖段是由四塊長(zhǎng)方形圍板相互組合連接圍成的矩形方框。本實(shí)用新型所述過(guò)渡段是由四塊梯形圍板相互組合連接圍成的變截面框。本實(shí)用新型所述過(guò)渡段是由呈交替狀分布的四塊三角形圍板和至少四塊弧形圍板相互組合連接圍成的由矩形口變成圓形口的變截面框體。相比于現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型具有以下的有益效果1、鍍室內(nèi)氣體沿鍍室高度受到較均勻的抽力，被抽氣體較均勻地流進(jìn)抽氣口，不會(huì)在某處產(chǎn)生明顯的氣流匯集效應(yīng)，擴(kuò)展了沿鍍室高度方向氣流流動(dòng)均勻性，從而擴(kuò)展了均勻鍍膜區(qū)的高度，一般可擴(kuò)展15-20%。2、可在不改變?cè)绣兪业墓夥绞角闆r下減少鍍彩色膜的色差，可以更容易地調(diào)整布?xì)舛玫礁鶆虻念伾珏僒iC黑色膜很容易實(shí)現(xiàn)色差值L* = +/-1 ；a* = +/-1 ；b* =+/-1。

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)立體圖；圖2是圖1的主視圖；圖3是圖1的俯視圖；圖4是本實(shí)用新型實(shí)施例2的結(jié)構(gòu)立體圖；圖5是圖4的主視圖；圖6是圖4的俯視圖。
具體實(shí)施方式
實(shí)施例1如圖1 3所示，針對(duì)抽氣系統(tǒng)的泵口為方形或近方形的形狀一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口，對(duì)于立式鍍膜機(jī)，其鍍室為垂直放置，則采用豎式矩形的抽氣口，抽氣口開(kāi)設(shè)在真空鍍膜機(jī)鍍室的室壁上，抽氣口為長(zhǎng)方形口，其長(zhǎng)度等于鍍室的高度，
其寬度
權(quán)利要求1.一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口，其特征在于所述抽氣口開(kāi)設(shè)在真空鍍膜機(jī)鍍室的室壁上，抽氣口為長(zhǎng)方形口，所述抽氣口的長(zhǎng)度等于鍍室的高度，主抽氣泵的抽氣泵口面積所述抽氣口的莧度=-本山ρ門從丨ζ倉(cāng)-。抽氣口的長(zhǎng)度
2.與權(quán)利要求1所述的抽氣口配合使用的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，其特征在于所述抽氣接頭的一側(cè)開(kāi)有與所述抽氣口大小形狀完全一樣的抽氣接口(1)，與抽氣接口(1)相對(duì)的另一側(cè)開(kāi)有出氣口 O)，所述抽氣接頭的抽氣接口(1)與所述抽氣口對(duì)接后與真空鍍膜機(jī)的鍍室連通，所述抽氣接頭的出氣口(2)與抽氣系統(tǒng)的抽氣泵連通，所述抽氣接頭的抽氣接口(1)與出氣口( 之間為用于氣流均勻緩沖過(guò)渡的緩沖過(guò)渡段。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，其特征在于所述緩沖過(guò)渡段包括用于氣流由真空鍍膜機(jī)的鍍室進(jìn)入抽氣接頭后均勻緩沖的等截面緩沖段(3) 和用于連接開(kāi)口形狀不同的抽氣接口(1)與出氣口( 的變截面過(guò)渡段G)，所述緩沖段 (3)與過(guò)渡段⑷連通。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，其特征在于所述緩沖段C3)是由四塊長(zhǎng)方形圍板相互組合連接圍成的矩形方框。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，其特征在于所述過(guò)渡段(4)是由四塊梯形圍板相互組合連接圍成的變截面框。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，其特征在于所述過(guò)渡段(4)是由呈交替狀分布的四塊三角形圍板和至少四塊弧形圍板G4)相互組合連接圍成的由矩形口變成圓形口的變截面框體。
專利摘要本實(shí)用新型公開(kāi)了一種用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣口，所述抽氣口開(kāi)設(shè)在真空鍍膜機(jī)鍍室的室壁上，抽氣口為長(zhǎng)方形口，所述抽氣口的長(zhǎng)度等于鍍室的高度，與所述抽氣口配合使用的用于真空鍍膜機(jī)均勻抽氣的抽氣接頭，所述抽氣接頭的一側(cè)開(kāi)有與所述抽氣口大小形狀完全一樣的抽氣接口，與抽氣接口相對(duì)的另一側(cè)開(kāi)有出氣口，所述抽氣接頭的抽氣接口與所述抽氣口對(duì)接后與真空鍍膜機(jī)的鍍室連通，所述抽氣接頭的出氣口與抽氣系統(tǒng)的抽氣泵連通，所述抽氣接頭的抽氣接口與出氣口之間為用于氣流均勻緩沖過(guò)渡的緩沖過(guò)渡段。本實(shí)用新型通過(guò)對(duì)抽氣口及其接頭的設(shè)置，獲得對(duì)鍍膜機(jī)鍍室的較均勻的抽氣效果，提高鍍膜質(zhì)量。
文檔編號(hào)C23C14/56GK201971892SQ20112001382
公開(kāi)日2011年9月14日 申請(qǐng)日期2011年1月17日 優(yōu)先權(quán)日2011年1月17日
發(fā)明者李志方, 李志榮, 李秋霞, 羅志明 申請(qǐng)人:東莞市匯成真空科技有限公司