專利名稱：殼體及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制備方法，尤其涉及一種具有紫色外觀的殼體及其制備方法。
背景技術(shù)：
為了使電子裝置等產(chǎn)品的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽(yáng)極氧化、烤漆、烤瓷等工藝制備裝飾色彩層。相比這些傳統(tǒng)工藝，PVD鍍膜技術(shù)更加綠色環(huán)保，且采用PVD鍍膜技術(shù)可在產(chǎn)品殼體表面形成具有金屬質(zhì)感的裝飾性色彩層。然而現(xiàn)有技術(shù)中，利用PVD鍍膜技術(shù)于外殼表面形成的膜層的色彩非常有限；且一般的產(chǎn)品外殼，裝飾色彩層通常直接鍍覆于產(chǎn)品外殼的外表面，而為了保護(hù)色彩層通常還需在色彩層的表面再鍍覆一保護(hù)層，以提高殼體的使用壽命，如此一來又增加了生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供一種有效解決上述問題的紫色的PVD鍍膜的殼體。另外，本發(fā)明還提供一種上述殼體的制備方法。一種殼體，其包括基體、形成于基體內(nèi)表面的色彩層及形成于色彩層表面的反射層，該基體為無色透明的玻璃或塑料，該色彩層為氧化鋯層，該反射層為金屬鋯層，該殼體呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIELab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于30至35之間，a*坐標(biāo)介于9至11之間， b*坐標(biāo)介于-18至-20之間。一種殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體，該基體為無色透明的玻璃或塑料；在該基體的內(nèi)表面形成一色彩層，該色彩層為氧化鋯層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，以鋯靶為靶材，以氧氣為反應(yīng)氣體，控制氧氣的流量為Iio 300SCCm，濺射的溫度為60 110°C ；在所述色彩層的表面形成一反射層，該反射層為金屬鋯層，其采用磁控濺射法形成；所述殼體呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于30至35之間，a*坐標(biāo)介于9至11之間，b*坐標(biāo)介于-18至-20之間。本發(fā)明所述殼體在基體的內(nèi)表面形成色彩層，從基體的外表面觀察色彩層的色彩效果；所述色彩層在基體的保護(hù)下，可有效避免色彩層的磨損刮擦或腐蝕；且所述殼體的制備方法在形成色彩層時(shí)，通過對(duì)靶材的選取、反應(yīng)氣體氧氣流量的設(shè)計(jì)和對(duì)濺射溫度的控制，并結(jié)合設(shè)置一反射層，而使色彩層從基體的外表面看呈現(xiàn)紫色。以該方法所制得的殼體呈現(xiàn)出具有吸引力的紫色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競(jìng)爭(zhēng)力。


圖1是本發(fā)明一較佳實(shí)施例殼體的剖視圖；圖2是本發(fā)明一較佳實(shí)施例真空鍍膜機(jī)的示意圖。主要元件符號(hào)說明殼體10基體11色彩層13反射層15真空鍍膜機(jī) 20鍍膜室21鋯靶2具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明一較佳實(shí)施例的殼體10包括基體11、形成于基體11內(nèi)表面的色彩層13及形成于色彩層13表面的反射層15。所述內(nèi)表面為正常使用殼體10時(shí)通常不會(huì)觸碰到的表面?；w11為無色透明的玻璃或塑料。色彩層13可以磁控濺射的方式形成于基體11的表面。該色彩層13為氧化鋯 (ZrO2)層。該色彩層13的厚度可為300 500nm。該色彩層13呈現(xiàn)紫色。反射層15以磁控濺射的方式形成。該反射層15為金屬鋯(Zr)層。由于金屬的反射率較高，因而所述反射層15可提高色彩層13顏色的鮮艷度。該反射層15的厚度可為 100 200nm。從所述基體11的外表面肉眼直觀所述殼體10呈現(xiàn)紫色。使用色差儀對(duì)所述殼體 10進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試時(shí)將殼體10未鍍膜的表面對(duì)準(zhǔn)光源。測(cè)試結(jié)果為所述殼體10呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于30至35之間，a*坐標(biāo)介于9至11之間，b*坐標(biāo)介于-18至-20之間。本發(fā)明殼體10的制備方法包括以下步驟提供一基體11，該基體11為無色透明的玻璃或塑料。將基體11放入無水乙醇中進(jìn)行超聲波清洗并烘干備用。在基體11的表面形成一色彩層13。該色彩層13為氧化鋯層。該色彩層13采用磁控濺射的方式形成。形成該色彩層13的具體操作方法可為請(qǐng)參閱圖2，將基體11放入一真空鍍膜機(jī)20的鍍膜室21內(nèi)，抽真空使該鍍膜室21的本底真空度為8X 10_3Pa，加熱該鍍膜室21使基體11的溫度為60 110°C ；使用金屬鋯靶23，開啟鋯靶23，設(shè)定鋯靶23的功率為3 4kw，設(shè)定施加于基體11的偏壓為-100 -200V ；通入反應(yīng)氣體氧氣，氧氣的流量可為110 300sCCm(標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)毫升/分鐘)；通入工作氣體氬氣，氬氣的流量可為300 500sCCm，沉積所述色彩層13，沉積所述色彩層13的時(shí)間可為15 30min。所述色彩層13 的厚度可為300 400nm。繼續(xù)采用磁控濺射法在色彩層13的表面形成反射層15。該反射層15為金屬鋯層。形成該反射層15的具體操作方法可為停止通入氧氣，其他工藝參數(shù)與沉積所述色彩
4層13的工藝參數(shù)相同，沉積所述反射層15，沉積時(shí)間為15 30min。所述反射層15的厚度可為100 200nm。使用色差儀對(duì)所述殼體10進(jìn)行測(cè)試，測(cè)試時(shí)將殼體10未鍍膜的表面對(duì)準(zhǔn)光源。 測(cè)試結(jié)果為該殼體10于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于30至35之間，a*坐標(biāo)介于9至 11之間，b*坐標(biāo)介于-18至-20之間?？梢岳斫獾?，本發(fā)明所述殼體10還可在基體11與色彩層13之間設(shè)置透明的過渡層，以增加膜基結(jié)合力。本發(fā)明殼體10可為筆記型計(jì)算機(jī)、個(gè)人數(shù)字助理等電子裝置的殼體，或?yàn)槠渌b飾類產(chǎn)品的殼體。本發(fā)明所述殼體10在基體11的內(nèi)表面形成色彩層13，從基體11的外表面觀察色彩層13的色彩效果；所述色彩層13在基體11的保護(hù)下，可有效避免色彩層13的磨損刮擦或腐蝕；且所述殼體10的制備方法在形成色彩層13時(shí)，通過對(duì)靶材的選取、反應(yīng)氣體氧氣流量的設(shè)計(jì)和對(duì)濺射溫度的控制，并結(jié)合設(shè)置一反射層15，而使色彩層13從基體11的外表面看呈現(xiàn)紫色。以該方法所制得的殼體10呈現(xiàn)出具有吸引力的紫色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顏色，極大地提高了產(chǎn)品的外觀競(jìng)爭(zhēng)力。
權(quán)利要求
1.一種殼體，其包括基體，該基體為無色透明的玻璃或塑料，其特征在于該殼體還包括形成于基體內(nèi)表面的色彩層及形成于色彩層表面的反射層，該色彩層為氧化鋯層，該反射層為金屬鋯層，該殼體呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的I；坐標(biāo)介于30至35之間， a*坐標(biāo)介于9至11之間，b*坐標(biāo)介于-18至-20之間。
2.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層的厚度為300 400nm。
3.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述色彩層呈現(xiàn)紫色。
4.如權(quán)利要求1所述的殼體，其特征在于所述反射層的厚度為100 200nm。
5.一種殼體的制備方法，其包括如下步驟提供一基體，該基體為無色透明的玻璃或塑料；在該基體的內(nèi)表面形成一色彩層，該色彩層為氧化鋯層，形成所述色彩層采用磁控濺射法，以鋯靶為靶材，以氧氣為反應(yīng)氣體，控制氧氣的流量為Iio 300SCCm，濺射的溫度為 60 IlOO ；在所述色彩層的表面形成一反射層，該反射層為金屬鋯層，其采用磁控濺射法形成；所述殼體呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于30至35之間，a*坐標(biāo)介于9至11之間，b*坐標(biāo)介于-18至-20之間。
6.如權(quán)利要求5所述的殼體的制備方法，其特征在于形成該色彩層的工藝參數(shù)為 本底真空度為8X10_3Pa，鋯靶的功率為3 4kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為300 500sccm，施加于基體的偏壓為-100 -200V，鍍膜時(shí)間為15 30min。
7.如權(quán)利要求5所述的殼體的制備方法，其特征在于形成所述反射層采用如下方式實(shí)現(xiàn)以鋯靶為靶材，設(shè)定鋯靶的功率為3 4kw，設(shè)定施加于基體的偏壓為-100 -200V ； 以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為300 500SCCm，沉積時(shí)間為15 30min。
8.如權(quán)利要求5所述的殼體的制備方法，其特征在于該色彩層的厚度為300 400nmo
9.如權(quán)利要求5所述的殼體的制備方法，其特征在于該反射層的厚度為100 200nm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具有紫色外觀的殼體，其包括基體、形成于基體內(nèi)表面的色彩層及形成于色彩層表面的反射層，該基體為無色透明的玻璃或塑料，該色彩層為氧化鋯層，該反射層為金屬鋯層，該殼體呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE Lab表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于30至35之間，a*坐標(biāo)介于9至11之間，b*坐標(biāo)介于-18至-20之間。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制備方法。本發(fā)明所述殼體在基體的內(nèi)表面形成色彩層，從基體的外表面觀察色彩層的色彩效果；所述色彩層在基體的保護(hù)下，可有效避免色彩層的磨損刮擦或腐蝕。
文檔編號(hào)C23C14/14GK102560358SQ20101059154
公開日2012年7月11日 申請(qǐng)日期2010年12月16日 優(yōu)先權(quán)日2010年12月16日
發(fā)明者張新倍, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士, 黃嘉 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司