專利名稱：蝕刻工具裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種蝕刻工具裝置，尤指一種利用蝕刻液對基板斜向蝕刻，使蝕
刻出的溝槽與基板表面呈斜角的蝕刻工具裝置。
背景技術(shù)：
隨著科技發(fā)達(dá)，產(chǎn)出各種電子產(chǎn)品及電子設(shè)備，金屬加工仍然普遍應(yīng)用于此些產(chǎn)品及設(shè)備，尤其機(jī)殼內(nèi)部需要安裝許多機(jī)構(gòu)元件，需透過金屬加工達(dá)到這些機(jī)構(gòu)元件的設(shè)置。 金屬加工主要包括鉆孔、鑿溝等過程，而加工裝置大多以垂直方向在金屬表面加工形成垂直的溝槽，此類垂直溝槽的加工技術(shù)成熟，可以輕易完成。但若需要與基材表面呈斜角的溝槽，會遭遇相當(dāng)程度的困難，因?yàn)樾毕虻募庸げ灰锥ㄎ患笆┝Γ舨僮鞑划?dāng)可能會造成基板表面的損壞，失敗率較高，耗費(fèi)的加工時間較長，無形中增加許多時間及金錢的成本。除了金屬加工，上述內(nèi)容亦適用于其他材質(zhì)的加工。 因此，需要開發(fā)出操作容易、加工效果良好的裝置，以符合上述需求，使加工過程更為便捷，加工成本更為低廉。

實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型的主要目的，在于提供一種蝕刻工具裝置，可以利用蝕刻液輕易地對基板進(jìn)行斜向蝕刻，形成與基板表面呈斜角的溝槽。 為了達(dá)到上述的目的，本實(shí)用新型提供一種蝕刻工具裝置，包括一內(nèi)殼體，該內(nèi)殼體為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體內(nèi)的中空空間形成一排液孔，該內(nèi)殼體的底面為一內(nèi)底面；以及一外殼體，該外殼體為中空柱筒狀，該外殼體套設(shè)于該內(nèi)殼體之外，該外殼體的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體的外徑，該外殼體與該內(nèi)殼體之間的間隙形成一供液孔，該供液孔底部向下并向外延伸形成一噴射口 ，該外殼體的底面為一外底面，該內(nèi)底面的水平位置高于該外底面。[0007] 另外，本實(shí)用新型提供另一種蝕刻工具裝置，包括一中央柱體，該中央柱體為柱筒狀，該中央柱體的底面為一中央底面；一內(nèi)殼體，該內(nèi)殼體為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體套設(shè)于該中央柱體之外，該內(nèi)殼體的內(nèi)徑大于該中央柱體的外徑，該內(nèi)殼體與該中央柱體之間的間隙形成一供液孔，該供液孔向下并向內(nèi)延伸形成一噴射口 ，該內(nèi)殼體的底面為一內(nèi)底面；以及一外殼體，該外殼體為中空柱筒狀，該外殼體套設(shè)于該內(nèi)殼體之外，該外殼體的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體的外徑，該外殼體與該內(nèi)殼體之間的間隙形成一排液孔，該外殼體的底面為一外底面，該中央底面及該外底面具有相同的水平位置，該內(nèi)底面的水平位置高于該中央底面及該外底面。 借助于本實(shí)用新型的蝕刻工具裝置，將蝕刻液加速通過該供液孔并由該噴射口噴出，使該蝕刻液斜向沖擊該基板表面，同時立刻將溢流在該基板表面上的蝕刻液由該排液孔排出，縮短該蝕刻液在該基板表面的停留時間，提高蝕刻方向的對比性，因此該蝕刻液對該基板的沖擊位置及方向具有特別顯著的蝕刻效果，將該基板蝕刻出與其表面呈斜角的溝
3槽。 為了更進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的特征及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本實(shí)用新型的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本實(shí)用新型加以限制。

圖1為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第一實(shí)施例的側(cè)視剖面圖；[0011] 圖2為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第一實(shí)施例的俯視剖面圖； 圖3A，圖3B為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第一實(shí)施例對基板蝕刻加工后的俯視圖及剖面圖； 圖4為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第二實(shí)施例的俯視剖面圖； 圖5A，圖5B為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第二實(shí)施例對基板蝕刻加工后的俯視圖及剖面圖； 圖6為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第三實(shí)施例的俯視剖面圖； 圖7A，圖7B為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第三實(shí)施例對基板蝕刻加工后的俯視圖及剖面圖； 圖8為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第四實(shí)施例的側(cè)視剖面圖；[0018] 圖9為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第四實(shí)施例的俯視剖面圖； 圖IOA，圖10B為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第四實(shí)施例對基板蝕刻加工后的俯視圖及剖面圖； 圖11為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第五實(shí)施例的俯視剖面圖； 圖12A，圖12B為本實(shí)用新型蝕刻工具裝置第五實(shí)施例對基板蝕刻加工后的俯視圖及剖面圖。主要元件附圖標(biāo)記說明
1內(nèi)殼體 ll排液孔 12內(nèi)底面 121排液間隙 13曲面 2外殼體 21供液孔 211噴射口 212隔板 22外底面 3基板 31溝槽 4中央柱體 42中央底面 5內(nèi)殼體 51供液孔[0039] 511噴射口 512隔板 52內(nèi)底面 521排液間隙 53曲面 6外殼體 61排液孔 62外底面 7基板 71 t勾槽
具體實(shí)施方式請參閱圖1及圖2所示的第一實(shí)施例，本實(shí)用新型提供一種蝕刻工具裝置，此實(shí)施例為外勾型的蝕刻工具裝置，包括一內(nèi)殼體1及一外殼體2。 該內(nèi)殼體1為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體1內(nèi)的中空空間形成平行于軸心方向的一排液孔ll，該內(nèi)殼體1的底面為一內(nèi)底面12，該內(nèi)殼體1內(nèi)壁與該內(nèi)底面12之間形成一滑順的曲面13。該外殼體2為中空柱筒狀，該外殼體2套設(shè)于該內(nèi)殼體1之外，該外殼體2的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體1的外徑，使該外殼體2與該內(nèi)殼體1之間的間隙形成平行于軸心方向的一供液孔21，該供液孔21底部向下并向外延伸形成一噴射口 211，該噴射口 211與該供液孔21之間呈斜角，該外殼體2的底面為一外底面22，該內(nèi)底面12與該外底面22之間具有一水平落差，該內(nèi)底面12的水平位置高于該外底面22。該內(nèi)殼體1及該外殼體2的頂部可互相連接為一整體結(jié)構(gòu)(圖略)。 請參閱圖1及圖2，此實(shí)施例為外勾型的蝕刻工具裝置，于使用時，該外底面22抵置于一基板3表面，該外底面22與該基板3表面為密合的狀態(tài)，因?yàn)樵搩?nèi)底面12的水平位置高于該外底面22，所以此時該內(nèi)底面12與該基板3表面之間會形成一排液間隙121 ;該供液孔21頂端可裝設(shè)一液體加壓設(shè)備，該排液孔11頂端可裝設(shè)一抽液設(shè)備。以一加壓力量將蝕刻液由該供液孔21頂端灌入，該蝕刻液加速向下通過該供液孔21，然后由該噴射口 211噴出并斜向沖擊該基板3表面，沖擊力量會提升該蝕刻液的蝕刻速率。由于該外底面22與該基板3表面密合，該蝕刻液會被局限在該蝕刻工具裝置的范圍之內(nèi)。同時，溢流在該基板3表面上的蝕刻液立刻透過該排液間隙121流向該排液孔11并向上排出，該曲面13可避免該蝕刻液排出時受到阻礙，縮短該蝕刻液在該基板3表面的停留時間，提高蝕刻方向的對比性，使得該蝕刻液對該基板3的沖擊位置具有很高的蝕刻速率，而其他基板3區(qū)域的蝕刻速率相對很低。因此，該蝕刻液對該基板3的沖擊位置及方向具有特別顯著的蝕刻效果，將該基板3蝕刻形成與其表面呈斜角的溝槽31。該蝕刻液的選擇取決于該基板3的材質(zhì)，該蝕刻工具裝置的材質(zhì)具有絕佳的抗腐蝕性。 該供液孔21可依不同的需求設(shè)置不同的俯視形狀。如圖2所示的第一實(shí)施例中，于俯視狀態(tài)下具有一完整圓圈狀的供液孔21，此實(shí)施例所蝕刻出來的溝槽31如圖3A，圖3B所示，該溝槽31的俯視形狀為一完整的圓圈，該溝槽31與該基板3表面之間形成斜角。[0053] 如圖4所示的第二實(shí)施例中，于俯視狀態(tài)下具有一完整八角形的供液孔21，此第二實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)如同圖1的第一實(shí)施例剖面圖，此實(shí)施例所蝕刻出來的溝槽31如圖5A，圖5B所示，該溝槽31的俯視形狀為一完整的八角形，該溝槽31與該基板3表面之間形成斜角。 如圖6所示的第三實(shí)施例中，該蝕刻工具裝置具有至少兩隔板，本實(shí)施例以四隔板為例四隔板212，該四隔板212連接于該內(nèi)殼體1與該外殼體2之間，并間隔地設(shè)置于該供液孔21中，該四隔板212可與該內(nèi)殼體1、該外殼體2為一體成型的結(jié)構(gòu)。于俯視狀態(tài)下，該四隔板212將該供液孔21區(qū)隔成一不連續(xù)圓圈狀，此第三實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)亦如同圖1的第一實(shí)施例剖面圖，此實(shí)施例所蝕刻出來的溝槽31如圖7A，圖7B所示，該溝槽31的俯視形狀為一不連續(xù)的圓圈，該溝槽31與該基板3表面之間形成斜角。[0055] 請參閱圖8及圖9所示的第四實(shí)施例，本實(shí)用新型提供另外一種蝕刻工具裝置，此實(shí)施例為內(nèi)勾型的蝕刻工具裝置，包括一中央柱體4、一內(nèi)殼體5及一外殼體6。[0056] 該中央柱體4為柱筒狀，該中央柱體4的底面為一中央底面42。該內(nèi)殼體5為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體5套設(shè)于該中央柱體4之外，該內(nèi)殼體5的內(nèi)徑大于該中央柱體4的外徑，使該內(nèi)殼體5與該中央柱體4之間的間隙形成平行于軸心方向的一供液孔51，該供液孔51向下并向內(nèi)延伸形成一噴射口 511，該噴射口 511與該供液孔51的間呈斜角，該內(nèi)殼體5的底面為一內(nèi)底面52，該內(nèi)殼體5外壁與該內(nèi)底面52之間形成一滑順的曲面53。該外殼體6為中空柱筒狀，該外殼體6套設(shè)于該內(nèi)殼體5之外，該外殼體6的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體5的外徑，使該外殼體6與該內(nèi)殼體5之間的間隙形成平行于軸心方向的一排液孔61 ，該外殼體6的底面為一外底面62。該中央底面42及該外底面62具有相同的水平位置，該內(nèi)底面52的水平位置高于該中央底面42及該外底面62。該中央柱體4、該內(nèi)殼體5及該外殼體6的頂部可互相連接為一整體結(jié)構(gòu)(圖略) 請參閱圖8及圖9，此實(shí)施例為內(nèi)勾型的蝕刻工具裝置，于使用時，該中央底面42及該外底面62抵置于一基板7表面，該中央底面42及該外底面62皆與該基板7表面為密合的狀態(tài)，因?yàn)樵搩?nèi)底面52的水平位置高于該中央底面42及該外底面62，所以此時該內(nèi)底面52與該基板7表面之間會形成一排液間隙521。該供液孔51頂端可裝設(shè)一液體加壓設(shè)備，該排液孔61頂端可裝設(shè)一抽液設(shè)備。以一加壓力量將蝕刻液由該供液孔51頂端灌入，該蝕刻液加速向下通過該供液孔51 ，然后由該噴射口 511噴出并斜向沖擊該基板7表面，沖擊力量會提升該蝕刻液的蝕刻速率。由于該外底面62與該基板7表面密合，該蝕刻液會局限于該蝕刻工具裝置的范圍之內(nèi)。同時，溢流在該基板7表面上的蝕刻液立刻透過該排液間隙521流向該排液孔61并向上排出，該曲面53可避免該蝕刻液排出時受到阻礙，縮短該蝕刻液在該基板7表面的停留時間，提高蝕刻方向的對比性，使得該蝕刻液對該基板7的沖擊位置具有很高的蝕刻速率，而其他基板7區(qū)域的蝕刻速率相對很低。因此，該蝕刻液對基板7的沖擊位置及方向具有特別顯著的蝕刻效果，將該基板7蝕刻形成與其表面呈斜角的溝槽71。 如圖9所示的第四實(shí)施例中，于俯視狀態(tài)下具有一完整圓圈狀的供液孔51，此實(shí)施例所蝕刻出來的溝槽71如圖IOA，圖10B所示，該溝槽31的俯視形狀為一完整的圓圈，該溝槽71與該基板7表面之間形成斜角。 如圖11所示的第五實(shí)施例中，該蝕刻工具裝置具有至少兩隔板，本實(shí)施例以四隔板為例四隔板512，該四隔板512連接于該中央柱體4與該內(nèi)殼體5之間，并間隔地設(shè)置于該供液孔51中，該四隔板512可與該中央柱體4、該內(nèi)殼體5為一體成型的結(jié)構(gòu)。于俯視 狀態(tài)下，該四隔板512將該供液孔51區(qū)隔成一不連續(xù)圓圈狀，此第五實(shí)施例的剖面結(jié)構(gòu)如 同圖8的第四實(shí)施例剖面圖，此實(shí)施例所蝕刻出來的溝槽71如圖12A，圖12B所示，該溝槽 71的俯視形狀為一不連續(xù)的圓圈，該溝槽71與該基板7表面之間形成斜角。 綜觀上述，借助于本實(shí)用新型的蝕刻工具裝置，可以使蝕刻液對基板7進(jìn)行斜向 蝕刻，在基板7輕易地蝕刻加工出與其表面呈斜角的溝槽71。 但是，以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，非意欲局限本實(shí)用新型的權(quán)利要 求保護(hù)范圍，故凡運(yùn)用本實(shí)用新型說明書及附圖內(nèi)容所為的等效變化，均同理皆包含于本 實(shí)用新型的權(quán)利要求保護(hù)范圍內(nèi)，特此聲明。
權(quán)利要求一種蝕刻工具裝置，其特征在于包括一內(nèi)殼體，該內(nèi)殼體為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體內(nèi)的中空空間形成一排液孔，該內(nèi)殼體的底面為一內(nèi)底面；以及一外殼體，該外殼體為中空柱筒狀，該外殼體套設(shè)于該內(nèi)殼體之外，該外殼體的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體的外徑，該外殼體與該內(nèi)殼體之間的間隙形成一供液孔，該供液孔底部向下并向外延伸形成一噴射口，該外殼體的底面為一外底面，該內(nèi)底面的水平位置高于該外底面。
2. 如權(quán)利要求1所述的蝕刻工具裝置，其特征在于該內(nèi)殼體內(nèi)壁與該內(nèi)底面之間形成 一滑順的曲面。
3. 如權(quán)利要求1所述的蝕刻工具裝置，其特征在于該蝕刻工具裝置的材質(zhì)具有抗腐蝕性。
4. 如權(quán)利要求1所述的蝕刻工具裝置，其特征在于進(jìn)一步具有至少二隔板，該隔板連 接于該內(nèi)殼體與該外殼體之間，并間隔地設(shè)置于該供液孔中。
5. —種蝕刻工具裝置，其特征在于包括一中央柱體，該中央柱體為柱筒狀，該中央柱體的底面為一中央底面； 一內(nèi)殼體，該內(nèi)殼體為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體套設(shè)于該中央柱體之外，該內(nèi)殼體的內(nèi)徑大于該中央柱體的外徑，該內(nèi)殼體與該中央柱體之間的間隙形成一供液孔，該供液孔向下并向內(nèi)延伸形成一噴射口，該內(nèi)殼體的底面為一內(nèi)底面；以及一外殼體，該外殼體為中空柱筒狀，該外殼體套設(shè)于該內(nèi)殼體之外，該外殼體的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體的外徑，該外殼體與該內(nèi)殼體之間的間隙形成一排液孔，該外殼體的底面為一外底面，該中央底面及該外底面具有相同的水平位置，該內(nèi)底面的水平位置高于該中央底面及該外底面。
6. 如權(quán)利要求5所述的蝕刻工具裝置，其特征在于該內(nèi)殼體外壁與該內(nèi)底面之間形成 一滑順的曲面。
7. 如權(quán)利要求5所述的蝕刻工具裝置，其特征在于該蝕刻工具裝置的材質(zhì)具有抗腐蝕性。
8. 如權(quán)利要求5所述的蝕刻工具裝置，其特征在于進(jìn)一步具有至少二隔板，該隔板連 接于該中央柱體與該內(nèi)殼體之間，并間隔地設(shè)置于該供液孔中。
專利摘要一種蝕刻工具裝置，包括一內(nèi)殼體及一外殼體，該內(nèi)殼體為中空柱筒狀，該內(nèi)殼體內(nèi)的中空空間形成一排液孔，該內(nèi)殼體的底面為一內(nèi)底面；該外殼體為中空柱筒狀，該外殼體套設(shè)于該內(nèi)殼體之外，該外殼體的內(nèi)徑大于該內(nèi)殼體的外徑，該外殼體與該內(nèi)殼體之間的間隙形成一供液孔，該供液孔底部向下并向外延伸形成一噴射口，該外殼體的底面為一外底面，該內(nèi)底面的水平位置高于該外底面。本實(shí)用新型可以利用蝕刻液輕易地對基板進(jìn)行斜向蝕刻，形成與基板表面呈斜角的溝槽，可縮短蝕刻液在該基板表面的停留時間，提高蝕刻方向的對比性。
文檔編號C23F1/08GK201512582SQ20092016575
公開日2010年6月23日 申請日期2009年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月29日
發(fā)明者黃茂連 申請人:黃茂連