專利名稱：基板濕式設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種濕式設(shè)備，特別是涉及一種用于基板刻蝕及清洗的設(shè)備。
背景技術(shù)：
液晶顯示器主要是由上、下兩片玻璃基板組成，在玻璃基板的內(nèi)表面上設(shè)有 向液晶層施加電場用的透明電極，為控制電場設(shè)有相應(yīng)的開關(guān)器件；為顯示顏色 在其中的一片玻璃基板上設(shè)有彩色膜；為使液晶分子沿特定方向取向，在玻璃基 板的內(nèi)表面制備有金屬膜層，在經(jīng)過曝光、蝕刻等工序后形成TFT作為開關(guān)進行 控制。
對玻璃基板的金屬膜進行蝕刻是液晶顯示元件制造過程中的一項重要步驟， 通常對金屬膜進行蝕刻使用的是濕式刻蝕設(shè)備。圖1是現(xiàn)有濕式設(shè)備的結(jié)構(gòu)及傳 感器安裝示意圖，圖2是圖1中出口單元部分立體示意圖。請參見圖l和圖2，現(xiàn) 有濕式設(shè)備大致由入口單元11、工藝處理單元12、搬送單元13、出口單元14組 成，基板由所述入口單元11送進工藝處理單元12進行刻蝕、水洗、干燥，然后 通過搬送單元13送至出口單元14，搬送單元13 —般由搬送滾輪102組成。
現(xiàn)有濕式設(shè)備出口單元14處一般設(shè)置有一光電傳感器101檢測基板位置。請 參見圖3，光電傳感器101得到信號后傳輸?shù)娇删幊踢壿嬁刂破?PLC) ， PLC 21 對信號進行處理后進入下一步工藝流程。光電傳感器101用于檢測玻璃基板位置， 因此僅在出口單元設(shè)置一個。
圖4是現(xiàn)有設(shè)備出口單元處基板檢測感應(yīng)示意圖。請參見圖4，光電傳感器 101用于檢測玻璃基板是否到達位置。搬送單元13主要使用搬送滾輪102搬送， 滾輪分為上下兩邊，其上又帶有圓環(huán)0-RING來增加摩擦系數(shù)保證搬送順暢。由于 上滾輪是利用重力來增加摩擦系數(shù)，從而可能會導致上下滾輪上的圓環(huán)錯位而引 起在玻璃基板經(jīng)過時產(chǎn)生一個剪切力，這樣會引起基板邊角輕微的破損。有些基 板的破損只發(fā)生在邊角的微小區(qū)域，但是隱藏的基板暗傷可能會對后續(xù)工序產(chǎn)生 不可預(yù)見的影響，需要盡早發(fā)現(xiàn)此類基板。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種基板濕式設(shè)備，能夠及時檢測濕式刻 蝕設(shè)備可能導致的玻璃基板缺角損傷問題。
本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題而釆用的技術(shù)方案是提供一種基板濕式設(shè)備，包 括入口單元、工藝處理單元、搬送單元及出口單元，基板由所述入口單元送進工 藝處理單元進行濕刻，然后通過搬送單元送至出口單元，其中，所述入口單元或 出口單元的四個邊角處設(shè)置有位置傳感器，當基板放置其中時，所述四個位置傳感 器分別和基板的四個邊角對準。
上述的濕式設(shè)備，其中，所述四個光電傳感器設(shè)置在出口單元，所述四個光 電傳感器串聯(lián)在一起。
上述的濕式設(shè)備，其中，所述四個光電傳感器設(shè)置在入口單元，所述四個光 電傳感器并聯(lián)在一起。
上述的濕式設(shè)備，其中，所述位置傳感器為光電傳感器。
本發(fā)明對比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果本發(fā)明提供的基板濕式設(shè)備，通過 在入口單元或出口單元的四個邊角處設(shè)置位置傳感器，能夠及時檢測濕式刻蝕設(shè) 備可能導致的玻璃基板缺角損傷問題，避免有缺陷的基板進入后續(xù)工序。


圖1是現(xiàn)有濕式設(shè)備的結(jié)構(gòu)及傳感器安裝示意圖2是圖1中出口單元部分立體示意圖3是現(xiàn)有傳感器電氣示意圖4是現(xiàn)有設(shè)備出口單元處基板檢測感應(yīng)示意圖5是本發(fā)明濕式設(shè)備出口單元處基板檢測感應(yīng)示意圖6是本發(fā)明出口單元傳感器串聯(lián)示意圖7是本發(fā)明入口單元傳感器安裝位置示意圖8是本發(fā)明入口單元傳感器并聯(lián)示意圖。
圖中
11入口單元 12工藝處理單元 13搬送單元
14出口單元 15基板 21 PLC101光電傳感器 102搬送滾輪
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖及典型實施例對本發(fā)明作進一步說明。
圖5是本發(fā)明濕式設(shè)備出口單元處基板檢測感應(yīng)示意圖。
請參見圖1和圖5，本發(fā)明的濕式設(shè)備包括入口單元11、工藝處理單元12、 搬送單元13及出口單元14，基板15由所述入口單元11送進工藝處理單元12進 行濕刻，然后通過搬送單元13送至出口單元14，其中，所述出口單元14的四個 邊角處設(shè)置有位置傳感器，位置傳感器可以選用光電傳感器101。當基板15放置 在出口單元時，所述四個光電傳感器101分別和基板15的四個邊角對準。
基板15 —般由玻璃制成，搬送單元13 —般由搬送滾輪102組成，滾輪上一 般還設(shè)置有圓環(huán)來增加摩擦系數(shù)保證搬送順暢，從而可能引起基板邊角輕微的破 損。在設(shè)備出口單元14設(shè)置四個邊角玻璃檢測傳感器101，可以檢測到大于2MM 以上的基板破損。由于現(xiàn)有出口單元一般有一光電傳感器101檢測檢測基板位置， 光電傳感器101得到信號后傳輸?shù)絇LC21， PLC 21對信號進行處理后進入下一步 工藝流程。為了與現(xiàn)有工藝相兼容，可將原位置傳感器放置在一個邊角，另外在 追加三個光電傳感器，當基板15放置其中時，保證所述四個位置傳感器分別和基 板15的四個邊角對準。其中，四個傳感器101串聯(lián)在一起，請參見圖6，這樣只 有在所有傳感器都檢測到玻璃基板時才會將整個回路接通，發(fā)出OK信號，傳輸?shù)?PLC 21后進入下一步工藝流程。
圖7是本發(fā)明入口單元傳感器安裝位置示意圖，圖8是本發(fā)明入口單元傳感 器并聯(lián)示意圖。
請參見圖7和圖8，實際生產(chǎn)過程中，出現(xiàn)基板輕微損傷有時不想暫停處理， 因此為了不影響生產(chǎn)效率，本發(fā)明可將四個光電傳感器安裝在設(shè)備入口單元11， 可以提前檢測到玻璃基板破損，節(jié)約工藝時間。此時電氣接入也改變?yōu)椴⒙?lián)，出 現(xiàn)基板邊角損傷時，PLC21僅僅進行記錄或報警，基板繼續(xù)進入后續(xù)工藝處理。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng) 域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的修改和完善，因此 本發(fā)明的保護范圍當以權(quán)利要求書所界定的為準。
權(quán)利要求
1、一種基板濕式設(shè)備，包括入口單元、工藝處理單元、搬送單元及出口單元，基板由所述入口單元送進工藝處理單元進行濕刻，然后通過搬送單元送至出口單元，其特征在于，所述入口單元或出口單元的四個邊角處設(shè)置有位置傳感器，當基板放置其中時，所述四個位置傳感器分別和基板的四個邊角對準。
2、 如權(quán)利要求l所述的濕式設(shè)備，其特征在于，所述四個光電傳感器設(shè)置 在出口單元，所述四個光電傳感器串聯(lián)在一起。
3、 如權(quán)利要求1所述的濕式設(shè)備，其特征在于，所述四個光電傳感器設(shè)置 在入口單元，所述四個光電傳感器并聯(lián)在一起。
4、 如權(quán)利要求1、 2或3所述的濕式設(shè)備，其特征在于，所述位置傳感器 為光電傳感器。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種基板濕式設(shè)備，包括入口單元、工藝處理單元、搬送單元及出口單元，基板由所述入口單元送進工藝處理單元進行濕刻，然后通過搬送單元送至出口單元，其中，所述入口單元或出口單元的四個邊角處設(shè)置有位置傳感器，當基板放置其中時，所述四個位置傳感器分別和基板的四個邊角對準。本發(fā)明提供的基板濕式設(shè)備，能夠及時檢測濕式刻蝕設(shè)備可能導致的玻璃基板缺角損傷問題。
文檔編號C23F1/08GK101619456SQ20091005553
公開日2010年1月6日 申請日期2009年7月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月28日
發(fā)明者陳宇新 申請人:上海廣電光電子有限公司