專利名稱：真空電鍍爐用支架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種真空電鍍爐內(nèi)使用的支架。(二) 背景技術(shù) 現(xiàn)有鎖具一般通過表面鍍鉻后再鍍鈦進(jìn)行防銹，鍍鈦工藝復(fù)雜，成本高，而采用其他工藝，比如，真空鍍膜、噴漆進(jìn)行防銹， 一般先將鎖體固定在夾具上，然后將夾具直接通過掛鉤安裝在真 空電鍍爐內(nèi)，固定有鎖體的夾具需要一個個通過掛鉤直接安裝在電鍍爐內(nèi)，操作不便；這種結(jié)構(gòu)的夾具安裝時空間利用率低，一 次加工的鎖體量較少，生產(chǎn)效率低，制造成本高。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型要解決的技術(shù)問題是提供一種能便于固定有鎖體的夾具安裝在電鍍爐內(nèi)的支架，操作方便且，電鍍爐的空間利 用率高，生產(chǎn)效率高，制造成本低。為此，本實用新型采取以下技術(shù)方案一種真空電鍍爐用支架，包括有縱向布置的主架，所述主架 上設(shè)有與之相交固接的橫桿，位于同一水平高度的若干橫桿組成 一排，所述橫桿至少為上下兩排；上排的橫桿上設(shè)有上下貫通的 通孔，下排橫桿上對應(yīng)通孔位置設(shè)有底部封口的凹槽，所述通孔 與凹槽位于同一直線上。位于同一水平高度的同排橫桿以主架為中心呈放射狀結(jié)構(gòu)排列。所述橫桿為三排，相鄰兩排配合；其中，中間排橫桿上設(shè)有 與上排橫桿通孔配合的凹槽，中間排橫桿上還設(shè)有上下貫通的通 孑L，與下排橫桿上凹槽配合；所述中間排、下排橫桿上的通孔、 凹槽錯位分布。相鄰的上下排對應(yīng)配合的凹槽、通孔位于垂直布置的同一直 線上。位于同一水平高度的橫桿為8根。采用本實用新型具有以下優(yōu)點(diǎn)1、通過在主架上固接橫桿， 上下橫桿通過通孔和凹槽配合，使固定有鎖體的夾具的主架上下 端通過通孔和凹槽定位，操作方便；2、多根位于同一水平高度 的同排橫桿呈放射狀結(jié)構(gòu)排列，這樣可以同時固定多個夾具，空 間利用率高；3、主架上可以根據(jù)需要設(shè)置多排橫桿，相鄰排上 下橫桿互相配合，固定夾具更多；4、將多個夾具分別安裝在橫 桿上，然后將整個支架定位在真空電鍍爐內(nèi)， 一次定位即可，操 作方便；5、 一次真空電鍍的鎖體多，提高了生產(chǎn)效率，降低了 制造成本。(四)
圖l為本實用新型結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本實用新型另一種結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
實施例一參照圖1， 一種真空電鍍爐用支架，包括有縱向布置的主架1，所述主架上設(shè)有與之相交固接的橫桿2，位于同一水平高度 的8根橫桿組成一排，所述橫桿為上下兩排；上排的橫桿21上 設(shè)有上下貫通的通孔3，下排橫桿22上對應(yīng)通孔位置設(shè)有底部 封口的凹槽4，所述通孔與凹槽位于垂直布置的同一直線上。位 于同一水平高度的同排橫桿以主架為中心呈放射狀結(jié)構(gòu)排列。使 用時，將固定有鎖體的夾具的主架上下端通過橫桿上的通孔和凹 槽定位。實施例二參照圖2，所述橫桿為三排，相鄰兩排配合；其中，中間排 橫桿23上設(shè)有與上排橫桿通孔配合的凹槽4，中間排橫桿上還 設(shè)有上下貫通的通孔3，與下排橫桿上凹槽4配合；所述中間排、 下排橫桿上的通孔、凹槽錯位分布。相鄰的上下排對應(yīng)配合的凹 槽、通孔位于垂直布置的同一直線上。其他同實施例一。當(dāng)然，橫桿上的凹槽，也可以采用能達(dá)到類似效果的其他結(jié) 構(gòu)，比如，凹槽改為通孔，通孔底部通過擋塊封住。
權(quán)利要求1、一種真空電鍍爐用支架，其特征在于包括有縱向布置的主架，所述主架上設(shè)有與之相交固接的橫桿，位于同一水平高度的若干橫桿組成一排，所述橫桿至少為上下兩排；上排的橫桿上設(shè)有上下貫通的通孔，下排橫桿上對應(yīng)通孔位置設(shè)有底部封口的凹槽，所述通孔與凹槽位于同一直線上。
2、 如權(quán)利要求1所述的真空電鍍爐用支架，其特征在于位于同一水 平高度的同排橫桿以主架為中心呈放射狀結(jié)構(gòu)排列。
3、 如權(quán)利要求2所述的真空電鍍爐用支架，其特征在于所述橫桿為 三排，相鄰兩排配合；其中，中間排橫桿上設(shè)有與上排橫桿通孔配合 的凹槽，中間排橫桿上還設(shè)有上下貫通的通孔，與下排橫桿上凹槽配 合；所述中間排、下排橫桿上的通孔、凹槽錯位分布。
4、 如權(quán)利要求3所述的真空電鍍爐用支架，其特征在于相鄰的上下 排對應(yīng)配合的凹槽、通孔位于垂直布置的同一直線上。
5、 如權(quán)利要求4所述的真空電鍍爐用支架，其特征在于位于同一水 平高度的橫桿為8根。
專利摘要一種真空電鍍爐用支架，包括有縱向布置的主架，所述主架上設(shè)有與之相交固接的橫桿，位于同一水平高度的若干橫桿組成一排，所述橫桿至少為上下兩排；上排的橫桿上設(shè)有上下貫通的通孔，下排橫桿上對應(yīng)通孔位置設(shè)有底部封口的凹槽，所述通孔與凹槽位于同一直線上。本實用新型通過在主架上固接橫桿，上下橫桿通過通孔和凹槽配合，使固定有鎖體的夾具的主架上下端通過通孔和凹槽定位，操作方便；多根位于同一水平高度的同排橫桿呈放射狀結(jié)構(gòu)排列，這樣可以同時固定多個夾具，空間利用率高；主架上可以根據(jù)需要設(shè)置多排橫桿，相鄰排上下橫桿互相配合，固定夾具更多。
文檔編號C23C14/50GK201169621SQ20082008196
公開日2008年12月24日 申請日期2008年1月9日 優(yōu)先權(quán)日2008年1月9日
發(fā)明者梁 金 申請人:梁 金