專利名稱：包裝材料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及具有整體保證首次啟封和/或原封狀的包裝或包裝輔料，它包括有反射表面的基片，本發(fā)明還涉及這種包裝或包裝輔助材料的方法。
背景技術(shù)：
人們熟知，通過(guò)帶全息圖像、著色密碼或看不見的標(biāo)志來(lái)成形防假冒的包裝材料或包裝輔料。為了識(shí)別包裝是否已經(jīng)——允許的或不允許的——打開過(guò)，在包裝上要設(shè)置首次啟封的保證。保證原封狀使買主看到買到的商品的確是按要求制造及包裝成的，而不是仿造的或偽劣品。保證是首次啟封可以用例如一種標(biāo)簽形式的包裝輔料、一種封條或帶印記的封口等固定在瓶子的蓋上或廣口瓶的瓶蓋上、容器及蓋的接口處或可按虛線撕下封口處。在打開這種包裝時(shí)就會(huì)破壞上面的標(biāo)簽、封條或帶印記的封口，從而指出物品已被開啟過(guò)。也可以將物品裝入或卷入一種包裝袋中，袋上有特定的不可改變的以及不能復(fù)制的標(biāo)志，它指明袋中的物品是在指定的發(fā)貨者處完成的。
實(shí)踐中為上述目的曾使用過(guò)例如全息圖像。例如具有全息圖像標(biāo)簽或帶完整全息圖像的封口薄膜。但是全息圖象的產(chǎn)生價(jià)格十分昂貴。由于包裝材料或包裝輔助材料通常都是短期及一次性使用，從這方面考慮，人們總是傾向于用價(jià)格比較適當(dāng)?shù)姆纻伟b或包裝輔料，當(dāng)然要求是不能用簡(jiǎn)單方法進(jìn)行防偽。

發(fā)明內(nèi)容
按照本發(fā)明是用下述方法來(lái)達(dá)到這一要求的，即在由金屬制成的反射的表面(11)或在金屬反射表面(11)上加一層或多層物質(zhì)，它們有一層或多層陶瓷層(12，14，16)該陶瓷層由化學(xué)式為SiOx的化合物或由其構(gòu)成，式中的x為1.5到2.0，層厚在50到2000nm(納米)范圍內(nèi)，在陶瓷層表面上或至少在一層陶瓷層的表面上設(shè)置可見光能半透過(guò)的金屬反射層(13，15，17)其厚度在0.2到60nm，當(dāng)光線達(dá)到涂層的基片上時(shí)就被反射，從不同的觀察方向或角度就可察覺(jué)到呈不同顏色的反射光。
按照本發(fā)明的具有保證首次啟封和/或原封狀的包裝或包裝輔助材料在日光線或人工照明下，可使觀察者直接而不需借助儀器來(lái)識(shí)別。并且按照觀察的方向及角度會(huì)呈現(xiàn)不同的顏色及不同的深淺色調(diào)。
具體實(shí)施例方式
使用的基片可以是例如任何包裝材料。包裝材料可以是硬的、半硬的或柔性的，可以制成各種成形體或特別是薄膜狀的材料。成形體的實(shí)例如吹制的、深拉的和/或深沖成的如瓶子、廣口瓶、杯子、盤、底座之類的成形體，采用的包裝為壓穿式或折疊式。薄膜狀材料的例子如鋁、鋼、銅、銀或金的薄膜。薄膜狀的其他材料是紙張，如單位面積重量為20到30g/m2的薄紙或40到60g/m2的高白紙、硬紙版、半硬紙板等。比較重要的特別是含塑料的薄膜，如基于聚烯烴類如聚乙烯或聚丙烯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚酯如聚對(duì)苯二甲酸亞烷基二醇酯，特別是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。含塑料的薄膜可以是塑料制成的單層膜、由兩層或多層塑料膜制成的層壓膜、由金屬膜和塑料膜制成的層壓膜、由紙及塑料膜制成的層壓片或由紙和金屬膜和塑料膜制成的層壓片。每層塑料膜的厚度可達(dá)12到150μm，金屬膜的厚度為12到100μm。最后還可提到，作為基片還可用由紙、半硬紙板、硬紙板和金屬膜制成的層壓片。各層薄膜狀材料可用膠粘劑、糊料、粘附劑和/或通過(guò)擠壓法、共擠壓法或膠合等方法互相粘合。
作為基板優(yōu)先采用無(wú)取向性或單軸取向或雙軸取向的單膜或由兩層或多層無(wú)取向或單軸取向或雙軸取向的以基于聚烯烴類。如聚乙烯或聚丙烯、聚酰胺、聚酯如聚對(duì)苯二甲酸亞烷基二醇酯、特別是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯的塑料膜制成的層壓片。舉例說(shuō)作為基片的單層膜可具有按照本發(fā)明的各層，并在其他加工步驟中可將具有其他材料層的單層膜制成最后的基片。
基片的其他典型例子可具有下列層狀構(gòu)造(a)第一層含有無(wú)取向、單軸取向或雙軸取向的單層膜或由兩層或多層無(wú)取向或單軸取向或雙軸取向的基于聚烯烴類如聚乙烯或聚丙烯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚酯如聚對(duì)苯二甲酸亞烷基二醇酯、特別是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯的塑料膜的層壓片和/或紙如面積重量為20到30g/m2的薄紙或面積重量為40到60g/m2的高白度紙或保護(hù)清漆，(b)第二層如為金屬膜特別是鋁膜。
(c)第三層為涂上的熱封蠟或
(a)第一層如前述(b)第二層如前述(c)第三層為無(wú)取向性、單軸取向或雙軸取向的單層薄膜或兩層或多層的無(wú)取向、單軸取向或雙軸取向的基于聚烯烴類如聚乙烯或聚丙烯、聚酰胺、聚氯乙烯，聚酯如聚對(duì)苯二甲酸亞烷基二醇酯、特別是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯的塑料膜的層壓片，或澆鑄的聚乙烯層。
或(a)這一層略去(b)第一層為金屬膜，特別是鋁膜，(c)第二層為無(wú)取向性、單軸取向或雙軸取向的單層薄膜或兩層或多層無(wú)取向、單軸取向或雙軸取向的基于聚烯烴類如聚乙烯或聚丙烯、聚酰胺、聚氯乙烯、聚酯如聚對(duì)苯二甲酸亞烷基二醇酯，特別是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇的塑料膜的層壓片酯，和/或紙如單位面積重量為20到30g/m2的薄紙或單位面積重量為40到60g/m2的高白度紙，或一層保護(hù)清漆。
通常第一層是(a)面向包裝的外表面或形成包裝輔料的外表面。因而意味著第一層(a)的自由表面上有對(duì)光線反射的表面或?qū)?b)的自由表面形成反射光線的表面。在使用這種包裝材料時(shí)，例如作為透明容器的頂蓋，如泡式包裝的透明底部或透明的杯之類，可將起反射作用的表面以及設(shè)置其上的本發(fā)明的各層向著包裝的內(nèi)側(cè)面，通過(guò)透明的底部、杯之類可以看到。
基片必須具有反射可見光的外置表面。因此要求例如紙張、硬紙板或半硬紙板、單層薄膜或?qū)訅浩哂械耐庵盟芰蠈雍粚幽芊瓷涔饩€的表面層。金屬薄膜的情況下，反射層可以是金屬膜本身。作為反射層的金屬膜可以具有光亮的到高度光亮的表面。如果基片中不含金屬膜或金屬膜被夾在別的層中間或金屬層的反射能力不強(qiáng)，則可以在基片上采用例如化學(xué)方法、濕法化學(xué)或物理方法沉積上一層金屬。這種金屬涂敷可通過(guò)表面金屬化，優(yōu)先采用一種真空薄層技術(shù)如所謂“化學(xué)蒸汽沉積”(CVD)或“物理蒸汽沉積”(PVD)或?yàn)R射法來(lái)實(shí)現(xiàn)。如果基片是可彎曲材料，就可用繞卷機(jī)進(jìn)行連續(xù)涂層。
在反射光線的表面上有一層或若干層陶瓷層，它由式SiOx表示的化合物組成或含有式SiOx的化合物，式中x表示1.5-2.0，比較適當(dāng)?shù)氖?.5-1.9，優(yōu)選為1.5-1.8。這種陶瓷層的光折射率很低，優(yōu)選小于1.6。陶瓷層可例如通過(guò)真空薄層技術(shù)獲得，比較恰當(dāng)?shù)氖菍⒛繕?biāo)材料，即需進(jìn)行蒸發(fā)的物料用電子輻射蒸發(fā)或電阻加熱或感應(yīng)加熱蒸發(fā)，優(yōu)選采用的是電子輻射蒸發(fā)。所描述的方法可用反應(yīng)性的和/或離子束技術(shù)加強(qiáng)。這些方法的完成是在真空中將需要蒸發(fā)的物料，例如二氧化硅與半金屬硅的混合物在真空室的真空中蒸發(fā)。在真空室中由式SiOx的化合物組成的或含SiOx的陶瓷層會(huì)沉積在基片上形成完整的表面，即在基片的朝著蒸發(fā)物料的面上。要求的數(shù)x可通過(guò)SiO2對(duì)Si的化學(xué)當(dāng)量比或SiO2對(duì)Si和其它添加物的比進(jìn)行調(diào)整。按照本發(fā)明可將含氧的SiO2與半金屬Si的化學(xué)當(dāng)量比調(diào)整到按蒸發(fā)后的材料中所含純氧化物計(jì)缺氧量達(dá)10到30％。
因此本發(fā)明還涉及制造包裝和/或包裝輔助材料的方法，該包裝具有首次開封或原封狀的保證，并有一層帶反射可見光的表面的基片。按照這一方法在反射光線的表面采用一種真空薄層法通過(guò)在真空中蒸發(fā)二氧化硅(SiO2)及半金屬硅(Si)的蒸發(fā)材料沉積出厚度至少為50到2000nm(納米)的陶瓷層，該層包含或由一種以式SiOx表示的化合物組成，式中的x為1.5-2.0，以及在陶瓷層的自由表面上接著例如用濺射法噴上一層厚度為0.2到60nm(納米)可見光半透金屬反射層。
作為被蒸發(fā)的物料SiO2中還可添加如Al2O3、B2O3和/或MgO之類的添加劑，添加量按SiO2計(jì)，可達(dá)例如50％(摩爾)，比較合適的是從至少5％(摩爾)到30％(摩爾)。被蒸發(fā)的材料SiO2中還可添加其他添加劑如純態(tài)的Al、B和/或Mg，或含Al、B和/或Mg的Si合金。Al、B和/或Mg的添加量按Si計(jì)最高可達(dá)例如50％(摩爾)，合適的最少是5％(摩爾)到30％(摩爾)。含氧化合物如SiO2、Al2O3、B2O3及MgO對(duì)金屬或半金屬的份量比可以這樣選擇，例如以被蒸發(fā)物料中的純氧化物(SiO2及可能加入的Al2O3、B2O3和/或MgO)的總和計(jì)，按化學(xué)當(dāng)量的缺氧量為10到30％。
涂層的操作以坩鍋中物料的蒸發(fā)速度、在基片上的沉積速度以及基片在真空室的氣氛中暴露的時(shí)間長(zhǎng)短進(jìn)行控制。沉積出的陶瓷物料層應(yīng)在50nm(納米)-2000nm之間，比較合適是在100-1000nm，優(yōu)選150-500nm。這一層厚確定了要求達(dá)到的顏色效果。
在第一層陶瓷層上可以整個(gè)表面或部分表面用所述的陶瓷材料沉積第二層或若干層，材料由或含以通式SiOx表示的化合物組成，每層的厚度大致與第一層陶瓷材料相同。在部分表面沉積的情況下，第二層可以為某種圖案如商品或商標(biāo)名、文字圖案、條格等。通過(guò)投射的光線穿透層厚不同的涂層的反射顯示出一定的目測(cè)效果。
在一陶瓷層或多層陶瓷層上還可設(shè)置一種金屬層其厚度為0.2-60nm(納米)，比較合適的是1-40nm，優(yōu)選2-20nm。這種金屬層對(duì)可見光為半透射反射，含有一種或多種下列金屬不銹鋼、Ni、Al、Cu、Ag、Au，優(yōu)選為Cr。這種半透過(guò)反射的金屬層可通過(guò)例如上述真空薄層方法將一種所述的金屬作為蒸發(fā)材料或通過(guò)濺射以一種所述金屬作為目標(biāo)金屬來(lái)涂層。目標(biāo)金屬可以是一種下列金屬不銹鋼、鎳、鋁、銅、銀、金，優(yōu)選為鉻或這些金屬的混合物或其合金。在連續(xù)的涂層操作中，可將基片首先通過(guò)第一室涂上陶瓷層，然后經(jīng)一個(gè)窄縫通道進(jìn)入另一室通過(guò)濺射進(jìn)行半透反射金屬層的涂體。
在所述的另一半透反射的金屬層上還可用各種彩色刷材料部分印制成各種圖案。圖案可以是商品或商標(biāo)名稱、文字圖形或條格等，可為單色或多色的。為了不影響本發(fā)明涂層的效果，印制的圖案只是部分涂復(fù)。
另一種表征包裝及包裝材料及防假冒的方法是直接在基片的反射層上印出圖案。直接在反射層部分表面上印制的圖案可以是商品或商標(biāo)名稱、文字圖案、條格之類，可為單色或多色，當(dāng)然白色除外。透明的顏料及清漆特別適合于這一目的，也就是在基片上涂上一層含少量顏料或染料的透明或半透明的保護(hù)層。直接在反射表面特別是用透明的印刷色印刷時(shí)可采用一種或若干種色調(diào)，這些色調(diào)要相應(yīng)于本發(fā)明的涂層體系在特定的觀察角度下顯示的色調(diào)。當(dāng)觀察者在該特定的觀察角度觀察包裝或包裝材料時(shí)，印制的圖案會(huì)從觀察者的視野中消失，因?yàn)橛≈频念伾『门c不同涂層反射出來(lái)的光線顏色相同。
反射層還可用化學(xué)方法如蝕刻之類制成一種圖案如一種商品或商標(biāo)名稱、文字圖案、條格之類。陶瓷層就沉積在這種印制的或蝕刻成的圖案上。還可能將基片，特別是含金屬膜的基片在沉積上陶瓷層之前或之后進(jìn)行壓型，也就是用壓輥或壓模壓成一種商品或商標(biāo)圖案、文字圖案或條格之類的圖案。也可能將膜狀基片在用本發(fā)明方法進(jìn)行陶瓷層涂布之前或之后用深拉法或壓延法或兩者結(jié)合制成各種形狀的包裝。壓印及深拉操作并不影響或很少影響顏色效果也就是說(shuō)能保持原有的顏色效果。
前面介紹過(guò)的以電子輻射蒸發(fā)及濺射為基礎(chǔ)的真空薄層技術(shù)可更精細(xì)地涂布所述基片。通過(guò)連續(xù)測(cè)定涂布完的基片的反射光譜也就是基片的涂層系統(tǒng)的顏色可將電子射線的功率相應(yīng)地提高或減小以達(dá)到要求的層厚以及顏色?？刂频姆椒梢酝ㄟ^(guò)閉合控制電路實(shí)現(xiàn)。連續(xù)操作中有時(shí)還可通過(guò)調(diào)節(jié)基片的進(jìn)料速度來(lái)控制沉積的速率。本操作法以及所描述的蒸發(fā)材料或目的物料的選擇能使所述的陶瓷材料層產(chǎn)生，并同時(shí)容許帶狀基片的通過(guò)速度高達(dá)100m/min，相應(yīng)的涂布速率達(dá)200m2/min。通過(guò)選擇一定的蒸發(fā)材料或目標(biāo)物料及制成由通式SiOx表示的化合物構(gòu)成的或含這種化合物的陶瓷層(式中的x為1.5到2.0)可達(dá)到特別清澈的不帶黃色色調(diào)的陶瓷層。通過(guò)調(diào)整被蒸發(fā)物料中所含Si以及Al、B或Mg份量以降低氧的生成，該氧必須不斷地用泵排出以保持真空。這是提高蒸發(fā)速率的根本因素。
按照本發(fā)明制成的各種涂層最后為了例如保護(hù)它不受損傷可用保護(hù)或蓋面或熱封清漆或一種特別透明的塑料薄膜或復(fù)合膜或擠壓成的塑料層加以遮蓋。典型的薄膜，復(fù)合膜或擠壓層含有例如聚丙烯之類的聚烯化合物。
前面所處理的基片可用來(lái)制成本發(fā)明的包裝或包裝材料。例如從膜狀基片通過(guò)沖壓及封裝成小袋、提包、包裹之類。薄膜還可通過(guò)深拉及/或延伸成各種形狀的成形包裝或成形體，如穿透或泡狀包裝的底部或壓成廣口瓶、食品盒、杯、盤之類。還可制成管狀(層壓器)或成形包裝的頂蓋。作為例子可將含硬紙板的基片制成盒如折疊盒或其他形狀的包裝。也可用塑料吹制成的瓶子或預(yù)成形的成形包裝作為基片，即按本發(fā)明進(jìn)行各種涂層操作。合縫，封口，縫合以及底部與頂蓋的縫合等處都可用本發(fā)明的包裝輔料以標(biāo)簽、封條、卷帶、封印或蓋封進(jìn)行封裝。最后一種包裝輔料一般為薄膜狀，并固定在相應(yīng)的容器的封口或各部件之間的連接處，可用例如粘貼、焊接、折邊或熱套冷縮等方法。包裝輔料具有防假冒的本發(fā)明制成的涂層。這些層狀結(jié)構(gòu)有時(shí)還可通過(guò)印制和/或蝕刻加強(qiáng)例如作為制品的特征或制造者的識(shí)別標(biāo)志。多層結(jié)構(gòu)可隨著觀察角度顯示出投射光的反射及顏色上的變化。采用包裝輔料的照相復(fù)制和原裝保證或制造商保證的照相復(fù)制進(jìn)行假冒可以很容易被發(fā)現(xiàn)，因?yàn)榉瓷浼邦伾钠圃谡障鄰?fù)制件上不再出現(xiàn)。為了使這種防偽包裝輔料，例如印記封條，包札帶之類便于消費(fèi)者打開比較合適的是設(shè)置一些便于撕裂的缺口，如薄弱部位、刻痕或撕脫辦法之類。作為基片也可使用易撕開或捅穿的膜，如含填充材料的塑料膜或兩種互不相容的塑料膜。其他的基片是熱套冷縮。


附圖1到3示出按照本發(fā)明制成的包裝或包裝材料的有代表性的斷面。
圖1中示出一個(gè)基片(10)，如是用塑料制成的層壓片，它具有一個(gè)反射光線的表面(11)，例如采用濺射法制成的如鋁層的復(fù)蓋的反射表面。反射表面(11)上是由兩層(12，16)以式SiOx表示的化合物組成的層狀結(jié)構(gòu)，式中x為數(shù)值1.5-2.0，每層的厚度為50-2000nm(納米)，在SiOx一層(12，16)的自由表面上是一層可以使可見光范圍內(nèi)的電磁輻射半透的金屬反射層(17)，厚度為0.2到60nm。含式SiOx的化合物層(16)只是部分地沉積以形成一種圖案，如條格。操作的第一步是將物料層(12)沉積在整個(gè)表面上，第二步再將第一層(12)的一部分表面用油(如在制造電容器膜過(guò)程中所熟知的)按照一定的圖樣進(jìn)行蒸汽沉積復(fù)蓋或借助鏤空模板遮蓋，再蒸汽沉積上第二層(16)。除去遮蓋后層(16)就在第一層(12)上的遮蓋空間形成所需的圖案。
圖2示出一種基片(10)，例如用塑料制成的層壓片，反射表面(11)，如用濺射法形成的反射層，例如鋁層。反射層(11)上為一系列層(12)，它由式SiOx表示的化合物組成，式中的x為數(shù)1.5-2.0，厚度在50-2000nm(納米)范圍內(nèi)，SiOx層的自由表面上復(fù)蓋一層在可見光中的電磁輻射范圍能半透過(guò)的反射層(13)，厚度為0.2-60nm(納米)。
圖3示出一種基片(10)，如為塑料制成的層壓片，其上面例如以濺射法復(fù)蓋一反射層如鋁層作為反射表面(11)。反射表面(11)上還有兩層(12，14)，其均由含式SiOx的化合物組成，式中x為數(shù)1.5-2.0，厚度均為50-2000nm(納米)，在SiOx層的表面各有一層在可見光的電磁輻射范圍能半透的金屬反射層(13，15)，其厚度為0.2-2000nm(納米)。
除前面列舉的層壓片外還可采用其他的基片。如果采用帶反射表面(11)的一種基片(10)，則可以不再加上反射層。在最上的半透的反射層(13，15，17)的自由表面上可用印刷顏色印制各種圖案和/或許多其他層，如用透明材料的薄膜或擠壓物復(fù)蓋，該材料例如為聚乙烯或丙烯酸乙酯(EAA)的聚合物。在面對(duì)層(12)的反射表面(11)上，也可直接用所述的清漆或某種透明印刷顏料進(jìn)行印刷。反射表面(11)還可通過(guò)壓印或蝕刻制成各種識(shí)別標(biāo)記。
權(quán)利要求
1.一種制造包裝或包裝輔料的方法，該包裝或包裝輔料具有首次啟封或原封狀的整體性保證，并具有含反射可見光的金屬表面(11)的基片(10)，其特征在于在反射表面(11)上采用真空薄層法，同時(shí)在真空下從蒸發(fā)源中蒸發(fā)作為蒸發(fā)物料的二氧化硅及半金屬硅，以沉積至少厚度為50-2000nm的陶瓷層，該陶瓷層含式SiOx表示的化合物或由該化合物組成，式中的x為數(shù)1.5-2.0，然后在陶瓷層或陶瓷層序的自由表面上通過(guò)濺射含相應(yīng)金屬的目標(biāo)以涂上一層厚度為0.2-60nm可見光半透金屬反射層，其中涂層過(guò)程連續(xù)進(jìn)行，基片在第一室中首先涂上一層陶瓷層，然后通過(guò)窄縫通道進(jìn)入另一室中采用濺射法涂布金屬層。
2.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于基片(10)為一層或多層材料，優(yōu)選為柔性薄膜狀材料。
3.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于反射表面(11)為一層金屬層，該金屬層優(yōu)選含Al、Cr、Ni、Au或Ag或其混合物或合金，或金屬層由其所述金屬或其混合物或合金構(gòu)成。
4.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于第一陶瓷層(12)完全復(fù)蓋反射表面(11)，而第二層或第二以及其他各陶瓷層(16)則復(fù)蓋第一陶瓷層的整個(gè)表面或以圖案的形式復(fù)蓋部分表面。
5.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于被蒸發(fā)的物料中還加入其他添加劑，有益的為Al2O3、B2O3和/或MgO，其中各添加劑的添加量按SiO2計(jì)可達(dá)50摩爾％，有益的為至少為5摩爾％和最多為30摩爾％。
6.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于被蒸發(fā)的物料中還其他添加劑，有益的為Al、B和/或Mg，以純凈物形式或含Al、B和/或Mg硅合金的形式加入，其中各添加劑的添加量按Si計(jì)可達(dá)50摩爾％，有益的為至少為5摩爾％和最多為30摩爾％。
7.權(quán)利要求1的制造包裝及包裝輔料的方法，其特征在于含氧化合物SiO2對(duì)半金屬Si的化學(xué)計(jì)算量比按蒸發(fā)的物料中的純氧化物計(jì)為缺氧10-30％。
8.權(quán)利要求5或6的制造包裝及包裝輔料的方法，其特征在于含氧化合物SiO2、Al2O3、B2O3及MgO對(duì)金屬以及半金屬Si、Al、B及Mg的化學(xué)計(jì)算量比按蒸發(fā)的物料中純氧化物的總量計(jì)為缺氧10-30％。
9.權(quán)利要求1的制造包裝及包裝輔料的方法，其特征在于通過(guò)濺射噴涂的金屬層含有選自不銹鋼、鎳、鋁、銅、銀、金，并優(yōu)選鉻，和其混合物，或該金屬層由所述金屬或其混合物構(gòu)成。
10.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于直接在反射表面上用優(yōu)選為透明墨水進(jìn)行一種或多種色調(diào)的印刷，其中一種或所有色調(diào)都和通過(guò)沉積的層狀系統(tǒng)以一定的觀察角度呈現(xiàn)的顏色相應(yīng)，在一定的觀察角度觀察包裝或包裝輔料時(shí)，由于印刷的顏色與通過(guò)不同層的反射光線呈現(xiàn)的顏色相同，所以其印刷影像在觀察者的視野中消失。
11.權(quán)利要求1的制造包裝或包裝輔料的方法，其特征在于基片，特別是含有金屬薄膜的基片在涂層之前或之后進(jìn)行模壓。
全文摘要
一種具有整體保證首次啟封或保證原封狀的包裝或包裝輔料，它含一個(gè)基片(10)和在基片上涂布的一層或多層涂層。作為基片(10)的例子如深拉制成的成型包裝或薄膜狀材料如金屬膜、塑料層壓片、紙等。基片具有能反射可見光的反射表面(11)。反射表面(11)上還可有一層或多層涂層，它由一層或若干層(12，14，16)構(gòu)成，例如由式SiOx表示的化合物組成的薄層，式中x為1.5－2.0，層厚為50－2000nm(納米)，在SiOx－層的自由表面上復(fù)蓋一層對(duì)可見光半透的金屬反射層(13，15，17)，層厚為0.2－60nm(納米)。光線投射到基片上被反射，按照不同的觀察方向和角度可看到不同的顏色。
文檔編號(hào)C23C16/30GK1641064SQ200510006229
公開日2005年7月20日 申請(qǐng)日期1998年5月14日 優(yōu)先權(quán)日1997年5月21日
發(fā)明者W·洛瓦塞, P·蔡特 申請(qǐng)人:艾爾坎技術(shù)及管理有限公司