專(zhuān)利名稱：研磨布及研磨方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種在要求表面精加工達(dá)到高精度的磁記錄媒體及類(lèi)似媒體的制造中使用的研磨布。特別是，在硬盤(pán)等磁記錄盤(pán)片的制造過(guò)程中適于用來(lái)進(jìn)行紋理加工(texture processing)的研磨布以及使用該研磨布的研磨方法。
背景技術(shù)：
近年來(lái)，隨著計(jì)算機(jī)等信息處理技術(shù)的發(fā)展，要求能夠以高精度對(duì)磁記錄媒體和硅片進(jìn)行表面精加工。例如，在制造作為磁記錄媒體的硬盤(pán)等的磁記錄盤(pán)片時(shí)，要對(duì)鋁、玻璃等的表面進(jìn)行平滑化加工，繼而經(jīng)過(guò)鎳-P電鍍等非磁性電鍍處理之后，形成由鈷合金等材料形成的磁性薄膜層，再以碳等材料形成的表面保護(hù)層加以覆蓋，而對(duì)于用來(lái)進(jìn)行所說(shuō)平滑化加工的研磨布提出了越來(lái)越高的要求。特別是，在對(duì)該磁記錄盤(pán)片進(jìn)行平滑化加工的最后階段，為了在盤(pán)片表面形成細(xì)微的槽，要使用含有磨粒的研磨膏和研磨布進(jìn)行被稱作紋理加工的表面加工處理，而市場(chǎng)期待著一種對(duì)于實(shí)現(xiàn)大容量化、高密度化最為適合的研磨布。
作為紋理加工中所使用的研磨布，過(guò)去有由纖維直徑為5μm左右的極細(xì)纖維制成的織物、栽植纖維直徑為14μm左右的纖維而成的栽絨片等。而5μm左右的極細(xì)纖維不能做到充分研磨，而且作為織物，纖維缺乏自由度，而作為栽絨片，其表面排列著垂直的粗纖維，因而容易在盤(pán)片表面造成較深的傷痕，只能得到可靠性較低的磁記錄媒體。
為解決上述問(wèn)題，特開(kāi)平9-277175號(hào)公報(bào)曾提出一種作為由纖維直徑為10μm以下的極細(xì)纖維絡(luò)合而成且表面具有毛茸的無(wú)紡布研磨片。但存在著這樣的問(wèn)題，即，以熔流法得到的無(wú)紡布，纖維的強(qiáng)度較差，而用一般分離纖維得到的無(wú)紡布，也由于只是依賴于物理絡(luò)合，因而極細(xì)纖維容易脫落。此外，在紋理加工中通常是做成帶狀使用，而這種方法強(qiáng)度顯得不夠，不得不層疊加強(qiáng)層。另外，特開(kāi)平11-138407號(hào)公報(bào)提出一種將織布的一部分織束切斷使之起毛而成的研磨布。但需要將已然織成的布的織束的一部分切斷以使直徑不足2μm的極細(xì)纖維成為豎立毛茸，難以進(jìn)行工業(yè)化生產(chǎn)。
另外，特開(kāi)2000-237951號(hào)公報(bào)提出一種由含有0.3dtex以下的極細(xì)纖維的無(wú)紡布構(gòu)成并且表面具有親水性的研磨布。該研磨布具體使用的是由30根或30根以下的極細(xì)纖維而成的纖維束構(gòu)成的無(wú)紡布，該極細(xì)纖維是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯纖維，該纖維的直徑從其制造方法來(lái)說(shuō)是較為均勻的。作為該無(wú)紡布，由于構(gòu)成纖維束的極細(xì)纖維的根數(shù)較少且纖維直徑均勻，因此要使研磨布的強(qiáng)度與精度兩個(gè)方面均保持高水平是困難的。
發(fā)明的任務(wù)本發(fā)明是為解決上述問(wèn)題而提出的，其目的是，提供一種在對(duì)磁記錄媒體等的表面進(jìn)行紋理加工時(shí)不會(huì)因研磨條件的改變而在盤(pán)片表面產(chǎn)生深槽(劃傷)的、能夠均勻地進(jìn)行研磨且具有足夠的強(qiáng)度的研磨布，以及使用該研磨布的磁記錄盤(pán)片研磨方法。
實(shí)現(xiàn)發(fā)明任務(wù)的手段根據(jù)本發(fā)明人的研究，發(fā)現(xiàn)前述本發(fā)明的目的可如下實(shí)現(xiàn)，即，一種以由纖維母材和在其中填充高分子彈性體而成的復(fù)合布構(gòu)成的研磨布，其特征是，該纖維母材(1)由20～3000根極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束構(gòu)成，(2)該纖維束，其存在于從垂直于長(zhǎng)度方向的截面的中心至半徑的1/2的周?chē)鸀橹沟闹行牟康臉O細(xì)纖維的平均直徑(D1)為0.3～10μm，存在于從半徑的1/2的周?chē)镣庵転橹沟耐庵懿康臉O細(xì)纖維的平均直徑(D2)為0.05～1μm，并且，D1/D2的比值為1.5以上。還發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的目的可如下實(shí)現(xiàn)，即，作為如上所述的研磨布，其特征是，(a)一側(cè)表面的吸水高度為20mm/小時(shí)以上，其相反一側(cè)表面的吸水高度為5mm/小時(shí)以下，并且，(b)一側(cè)表面經(jīng)過(guò)起毛處理。
下面，對(duì)本發(fā)明的研磨布進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。
本發(fā)明的研磨布是由纖維母材和在其中填充高分子彈性體而成的復(fù)合布。該纖維母材是由極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束構(gòu)成，在纖維母材的表層部之外的母材內(nèi)部中，存在于纖維束外部的主要是高分子彈性體。即，高分子彈性體實(shí)質(zhì)性存在于纖維束之間所存在的空隙中。纖維束以由20～3000根極細(xì)纖維構(gòu)成為宜，由50～2000根構(gòu)成則更好，最好是由100～1600根極細(xì)纖維構(gòu)成。若極細(xì)纖維不足20根，則外周部纖維的根數(shù)少，下面將說(shuō)明的、中心部與外周部的平均直徑的差異的效果難以得到發(fā)揮。另外，從生產(chǎn)率等角度來(lái)說(shuō)，構(gòu)成一根纖維束的極細(xì)纖維的細(xì)度的合計(jì)值以1～10dtex為宜，而最好是2～5dtex。
作為構(gòu)成纖維束的極細(xì)纖維，存在于從與所說(shuō)纖維束長(zhǎng)度方向相垂直的截面的中心至半徑的1/2的周?chē)鸀橹沟闹行牟恐械臉O細(xì)纖維的平均直徑(d1)有必要為0.3～10μm(約0.0008～約0.94dtex)，而最好是0.5～2μm(約0.0024～約0.038dtex)。當(dāng)該中心部的極細(xì)纖維的平均直徑(d1)不足0.3μm時(shí)，極細(xì)纖維的強(qiáng)度較低，作為復(fù)合布其強(qiáng)度也較低。而當(dāng)該平均直徑(d1)超過(guò)10μm時(shí)，在研磨工序中容易損傷被研磨片材。
而存在于外周部的極細(xì)纖維的平均直徑(d2)有必要為0.05～1μm(約0.00002～約0.0094dtex)，而以0.1～0.7μm(約0.0001～約0.0046dtex)為宜，最好是0.2～0.5μm(約0.00038～約0.0024dtex)。當(dāng)平均直徑(d2)不足0.05μm時(shí)，極細(xì)纖維的強(qiáng)度低因而在研磨時(shí)極細(xì)纖維會(huì)脫落。而當(dāng)平均直徑(d2)超過(guò)1μm時(shí)，將與現(xiàn)有技術(shù)無(wú)差別。
而且，構(gòu)成纖維束的極細(xì)纖維的最大直徑以10μm(約0.94dtex)以下為宜，3μm(約0.1dtex)以下則更好。而極細(xì)纖維的最細(xì)纖維的直徑以0.01μm(約0.000001dtex)以上為宜。當(dāng)極細(xì)纖維的直徑超過(guò)10μm時(shí)，會(huì)出現(xiàn)進(jìn)行研磨工序時(shí)容易損傷被研磨片材的傾向。
另外，( )內(nèi)的數(shù)值(單位為dtex)隨密度的不同而異，因此對(duì)于極細(xì)纖維為尼龍6的場(chǎng)合，作為例子示出經(jīng)過(guò)換算后的數(shù)值以供參考。
此外，使纖維束的中心部的平均直徑(d1)相對(duì)于外周部的平均直徑(d2)為1.5倍以上是必要的。進(jìn)一步來(lái)說(shuō)，(d1)相對(duì)于(d2)為2.0倍～6倍為宜，而最好是3.0倍～5倍。作為本發(fā)明，由于存在這樣的關(guān)系，因而研磨布的強(qiáng)度與精密研磨性得以兼顧。
在這里，對(duì)于極細(xì)纖維的纖維直徑，是拍攝布料斷面的電子顯微鏡照片，根據(jù)該照片測(cè)定極細(xì)纖維截面的直徑的。即，以切斷面上的一個(gè)纖維束的最大直徑的中點(diǎn)為中心，將存在于該中心至最外周之間的距離的1/2的范圍內(nèi)(中心部)的極細(xì)纖維定義為中心部纖維，將從該1/2的側(cè)面到所能夠觀察到的最外層為止的極細(xì)纖維定義為外周部纖維。
對(duì)于構(gòu)成纖維母材的極細(xì)纖維的制造方法并無(wú)特別限定，而具體地說(shuō)，有這樣一種方法，即，使用溶劑溶解性不同的兩種以上的纖維形成性高分子以公知的紡絲法制成纖維后將一種成分抽出而去除的方法。而最好是，靠紡絲后的延伸而使纖維獲得必要的強(qiáng)度。為了獲得與本發(fā)明的目的最一致的纖維束，以采用例如特開(kāi)平6-257016號(hào)公報(bào)所列舉的那種混合紡絲法為宜。作為構(gòu)成極細(xì)纖維成分的纖維形成性高分子(“島”成分)，可以使用尼龍6、尼龍6，6、尼龍12之類(lèi)的聚酰胺或者聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯之類(lèi)的聚酯等，作為溶劑溶解性與之不同的高分子(“?！背煞?，可以使用低密度聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯等。其中，尼龍6/聚乙烯組合易于實(shí)現(xiàn)工業(yè)化生產(chǎn)因而更為適宜。特別是，以使用尼龍之類(lèi)的聚酰胺纖維為佳，這樣，與聚酯纖維相比，模量小，研磨時(shí)不易發(fā)生劃傷。
此外，減小作為“?！背煞值母叻肿拥募徑z溫度下的熔流指數(shù)(使粘度增加)和加大“島”成分和“?！背煞值娜哿髦笖?shù)的差異，可得到D1/D2之比大的纖維束，因而是適宜采取的手段。另外，在進(jìn)行混合紡絲時(shí)，添加0.2～3重量％而最好是0.5～2重量％的聚乙二醇也是一個(gè)有利的手段。
本發(fā)明的纖維母材是指由前述極細(xì)纖維的纖維束構(gòu)成的無(wú)紡布、織物、編物等，而從本發(fā)明的目的出發(fā)則以無(wú)紡布為最佳。制作無(wú)紡布的方法可以是公知的方法，并無(wú)特別限定，但最好是，使用梳理機(jī)、交叉成卷機(jī)、搖動(dòng)針刺機(jī)等經(jīng)過(guò)針刺而成的無(wú)紡布、以及、使用流體制成的絡(luò)合無(wú)紡布。
為使纖維母材得到增強(qiáng)，在其纖維束之間的空隙中填充高分子彈性體。所使用的高分子彈性體的100％伸長(zhǎng)模量以9～40MPa為宜。作為高分子彈性體，可使用聚氨酯樹(shù)脂、聚氨酯·聚脲樹(shù)脂、聚丙烯酸樹(shù)脂、聚苯乙烯·丁二烯樹(shù)脂、聚丙烯腈·丁二烯樹(shù)脂等，但從加工性、耐磨性、抗加水分解性等方面考慮，以聚氨酯樹(shù)脂為宜。
聚氨酯樹(shù)脂可以使用使分子量為500～4000的聚醚丁二醇、聚酯丁二醇、聚碳酸酯丁二醇等多元醇的單質(zhì)或混合物與有機(jī)二異氰酸酯、分子量為500以下的低分子鏈伸長(zhǎng)劑進(jìn)行反應(yīng)而生成的產(chǎn)物，研磨膏為堿性或酸性且伴隨著發(fā)生聚氨酯樹(shù)脂加水分解老化的場(chǎng)合，使用乙醚系或碳酸鹽系聚氨酯即可。
高分子彈性體/纖維母材的重量比以10/90～60/40為宜，最好是25/75～50/50。若高分子彈性體的比例不足10％，則得不到增強(qiáng)效果，進(jìn)行加工時(shí)尺寸穩(wěn)定性不夠。而當(dāng)高分子彈性體超過(guò)60％時(shí)，會(huì)出現(xiàn)磨粒的附著狀態(tài)變差而且排除磨屑的性能變差的傾向。作為填充高分子彈性體的處理方法，將高分子彈性體的有機(jī)溶劑溶液或水性分散液浸漬以及/或者涂布在纖維母材上后通過(guò)濕式凝固或者干式凝固法便可使之附著在上面，但需要使高分子彈性體以實(shí)質(zhì)性填充纖維母材的纖維束之間的空隙的形式使之均勻附著，而且使高分子彈性體呈多孔狀凝固這一點(diǎn)從將磨粒固定而能夠在不發(fā)生劃傷等缺陷的情況下進(jìn)行研磨的角度來(lái)說(shuō)是適宜的，為此以濕式凝固法更為適宜。作為高分子彈性體的有機(jī)溶劑，除了可以使用二甲替甲酰胺、二甲基乙酰胺、二甲亞砜之類(lèi)極性溶劑之外，還可以使用甲苯、丙酮、甲乙酮等。
最好是，高分子彈性體不僅填充在纖維母材中的纖維束之間的空隙內(nèi)，而且在由表面的極細(xì)纖維形成的纖維束之中也有少量填充，這樣，能夠抑制極細(xì)纖維的脫落，減少磨屑的產(chǎn)生。要實(shí)現(xiàn)這一點(diǎn)，只要在填充高分子彈性體后將前述溶劑和高分子彈性體的溶液通過(guò)凹輥等手段少量涂布在表面上即可。此外，最好是，對(duì)其本身以公知的方法對(duì)表面進(jìn)行研磨而使之起毛，這也能夠減少研磨品的損傷。
作為研磨布，最好在長(zhǎng)度方向、寬度方向上的厚度均勻。研磨用布的厚度以0.3～1.2mm為宜，若不足0.3mm，則出現(xiàn)強(qiáng)度不足的傾向，若為1.2mm以上，則過(guò)厚而出現(xiàn)作業(yè)性低的傾向。厚度的精度最好是，沿長(zhǎng)度方向測(cè)定的厚度的標(biāo)準(zhǔn)差值(CV值)為3以下，而若為2以下，則出現(xiàn)作為被研磨體的盤(pán)片等的表面平滑度提高的傾向。為使厚度最佳化，而且為提高生產(chǎn)率而使布料減薄是一種好方法。若做成研磨基本寬度為5～300mm、最好為7～200mm的帶狀是有利的。
本發(fā)明的研磨布的抗拉強(qiáng)度以10N/cm以上為宜，25～200N/cm則更好，而最好為50～180N/cm?？估瓘?qiáng)度高的研磨布在研磨工序中寬度不會(huì)減小，表面不會(huì)變得不平整而能夠?qū)崿F(xiàn)均勻加工。
此外，在象紋理加工中使用的那樣制成帶狀使用的場(chǎng)合，以進(jìn)行加工時(shí)其尺寸變化較小為宜。以后述的測(cè)定方法測(cè)得的帶寬減小的比例在20％以下為宜，15％以下則更好，而最好是在6％以下。其中，所說(shuō)寬度減小的比例是以百分比表示施加5N/cm負(fù)載時(shí)寬度所減小的長(zhǎng)度相對(duì)于空載時(shí)的帶寬長(zhǎng)度的值。
此外，最好是，研磨布的表面具有親水性而使得在將研磨膏送入硬盤(pán)等被研磨材料與研磨布之間時(shí)能夠被研磨布以適當(dāng)?shù)乃俣任搿＜?，研磨布的研磨面的親水性當(dāng)在后述的測(cè)定條件下進(jìn)行測(cè)定時(shí)以其吸水速度為80秒以下為宜，1～60秒則更好，而最好是20～50秒。
要使研磨布具有吸水速度達(dá)到上述值的親水性，對(duì)研磨布以陰離子性或非離子性的滲透劑進(jìn)行處理是有效的。具體地說(shuō)，作為陰離子性滲透劑，有二辛基硫丁二酸鹽·鈉鹽、十二烷基二苯基醚磺酸·鈉鹽、十二烷基苯磺酸·鈉鹽、萘磺酸·鈉鹽等，作為非離子性滲透劑，有2級(jí)十二烷醇·乙氧基化物、月桂醇的環(huán)氧乙烷附加物、環(huán)氧乙烷附加烷基苯醚等。滲透劑的處理用量的多少因所使用的滲透劑的不同而不同，但在相對(duì)于布料為0.01～3重量％的程度。
使研磨布獲得親水性的方法，有將研磨布浸漬在滲透劑的水溶液中的方法，將滲透劑的水溶液以噴涂法或凹輥法等手段涂布在研磨布表面的方法。
也可以將研磨布浸在滲透劑水溶液中使整個(gè)研磨布獲得親水性。但是，在這種場(chǎng)合，研磨膏會(huì)滲入研磨布的內(nèi)部，無(wú)謂消耗超出研磨需用量的研磨膏。減少價(jià)格高昂的研磨膏的消耗量，從降低研磨成本來(lái)說(shuō)是人們所希望的。
為此，可將本發(fā)明的研磨布做成研磨表面具有親水性層，其內(nèi)側(cè)(包括背面)具有疏水性的復(fù)合結(jié)構(gòu)。使用具有該復(fù)合結(jié)構(gòu)的研磨布，可以減少研磨膏使用量，而且能夠均勻且以良好的生產(chǎn)率對(duì)被研磨片材進(jìn)行研磨。
具有由親水性層與疏水性層二者構(gòu)成的復(fù)合結(jié)構(gòu)的研磨布可通過(guò)各種方法獲得。例如將研磨布浸在含有斥水劑的液體中或者將含有斥水劑的液體灑布在研磨布上而得到斥水性研磨布，然后以噴涂法或凹輥法等方法在其表面涂布具有親水性的滲透劑液體，便可得到表面具有親水性、其內(nèi)部(表面)具有疏水性的研磨布。
作為用來(lái)使之獲得親水性的滲透劑，前述陰離子性或非離子性滲透劑均可使用。作為使一方獲得斥水性的斥水劑，例如可使用氟系斥水劑、蠟系斥水劑。
對(duì)于前述由親水性面和疏水性面形成的研磨布，其親水性和疏水性可以用該兩個(gè)面的吸水高度度量。即，在后述的方法及條件下，使研磨布的一個(gè)端部浸在水中并保持垂直，此時(shí)的親水性面的吸水高度以20mm/小時(shí)以上為宜，最好是40～90mm/小時(shí)，而疏水性面的吸水高度以5mm/小時(shí)為宜，最好是0～2mm/小時(shí)以下。而且在親水性面上，10分鐘后的吸水高度以10～60mm為宜，最好是20～50mm。即使在進(jìn)行研磨時(shí)加入研磨膏的場(chǎng)合，研磨布也不會(huì)一次吸收大量的研磨膏，故能夠有效地高效率地使用研磨膏。
作為本發(fā)明的研磨布，最好是，研磨面具有親水性層，該親水性層的厚度以500μm以下為宜，400μm以下則更好，而最好是350μm以下。從實(shí)用性考慮，下限為100μm。
作為本發(fā)明的研磨布，最好是研磨面的表面經(jīng)過(guò)起毛處理。以經(jīng)過(guò)起毛處理的表面進(jìn)行研磨，可使得在被研磨片材上形成均勻的同心圓槽的效果更容易得到發(fā)揮。還能夠減少異常損傷的發(fā)生。研磨面表面的起毛處理，可以采用其自身的公知方法進(jìn)行。
為得到表面起毛的研磨布，只要對(duì)例如纖維母材中填充高分子彈性體而得到的復(fù)合布進(jìn)行起毛處理即可。此時(shí)最好是，對(duì)復(fù)合布用有機(jī)硅化合物進(jìn)行處理以提高纖維起毛的效果。作為該有機(jī)硅化合物，只要是在通常纖維布料的起毛處理中為提高纖維的滑順性而使用的一般有機(jī)硅化合物即可。
根據(jù)本發(fā)明人的研究獲知，在使用有機(jī)硅化合物對(duì)纖維布料進(jìn)行起毛處理的場(chǎng)合，在該布料中將殘存有機(jī)硅化合物，該殘存的有機(jī)硅化合物在進(jìn)行研磨處理時(shí)脫落，以及，該附著的有機(jī)硅化合物在媒體表面形成磁性層時(shí)會(huì)使磁性層從其附著部位剝離。
為了防止有機(jī)硅化合物從研磨布上脫落而造成危害，最好是經(jīng)過(guò)洗滌將研磨布中的有機(jī)硅化合物充分去除，使其含量按照硅原子計(jì)量達(dá)到每一研磨布300ppm以下，最好是200ppm以下。
我們還知道，要使有機(jī)硅化合物的含量降低到前述范圍內(nèi)，最好是在進(jìn)行起毛處理后，對(duì)研磨布使用含有濃度為0.5～10g/升而最好是1～7g/升的聚氧乙烯烷基醚的水溶液進(jìn)行洗滌。在這里，作為聚氧乙烯烷基醚，以氧乙烯鏈中的重復(fù)單位為2～25且烷基的碳的數(shù)量為4～25者為宜。
下面，對(duì)使用本發(fā)明的研磨布研磨磁記錄盤(pán)片的方法，結(jié)合硬盤(pán)制造時(shí)的紋理加工進(jìn)行說(shuō)明。這種方法是使用本發(fā)明的研磨用布和含有磨粒的研磨膏進(jìn)行的。通常的紋理加工條件可應(yīng)用于該方法中，舉一個(gè)例子來(lái)說(shuō)，含有磨粒的研磨膏的磨粒濃度為0.1～1重量％，研磨膏液的供給量為4～15ml/分，盤(pán)片轉(zhuǎn)速為100～500rpm，研磨布的進(jìn)給量為1～10ml/秒，油缸推壓壓力為49～294kPa，研磨時(shí)間為5～30秒。
在這里，最好是，含有磨粒的研磨膏與研磨用布具有同種離子性，或某一方為非離子性。在例如某一方為陰離子性而另一方為陽(yáng)離子性的場(chǎng)合，會(huì)出現(xiàn)在研磨布的表面發(fā)生研磨膏分離、影響紋理加工穩(wěn)定性的傾向。
與研磨布一起使用的磨粒，使用的是氧化鋁、二氧化硅、氧化鈰、氧化鋯、氮化硅、單晶或多晶金剛砂等，顆粒直徑分別為0.05～0.5μm。
特別是使用研磨表面具有親水性層、其內(nèi)側(cè)為疏水性的復(fù)合結(jié)構(gòu)的研磨布進(jìn)行紋理加工而得到的硬盤(pán)，其表面粗糙度的平均值至峰頂之間的距離(Rp)小于平均值至谷底之間的距離(Rv)，可實(shí)現(xiàn)記錄數(shù)據(jù)的進(jìn)一步高密度化。更具體地說(shuō)，當(dāng)設(shè)最高峰頂?shù)狡骄抵g的距離為Rp、最低谷底至平均值之間的距離為Rv時(shí)，所得到的硬盤(pán)以其Rv/Rp＞1.5為宜，Rv/Rp＞3.0則更好。
發(fā)明的作用本發(fā)明的研磨布由纖維母材和高分子彈性體構(gòu)成，靠高分子聚合物得到增強(qiáng)從而防止纖維脫落。此外，構(gòu)成纖維質(zhì)母材的纖維形成了極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束，纖維束的中心部的極細(xì)纖維的平均直徑(d1)為外周部的極細(xì)纖維的平均直徑(d2)的1.5倍以上。本發(fā)明中，是靠這種關(guān)系使研磨布的強(qiáng)度與精密研磨性得到兼顧的。若中心部的極細(xì)纖維與外周部同樣細(xì)，則不能保證研磨布的強(qiáng)度。特別是在硬盤(pán)的紋理加工那樣做成帶狀使用的場(chǎng)合，若加工時(shí)因張力作用導(dǎo)致研磨布的寬度減小則表面將變得不平整，將無(wú)法進(jìn)行均勻的加工。作為構(gòu)成本發(fā)明的研磨布的纖維母材的纖維束，由于中心部的極細(xì)纖維直徑較粗，因此提高了微小磨粒在研磨布上的附著性，而且還提高了將磨屑等產(chǎn)生噪音的原因的微小灰塵除去的效果。
實(shí)施例下面，通過(guò)實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步的說(shuō)明，但本發(fā)明并限于這些實(shí)施例。實(shí)施例中凡未特別加以說(shuō)明的，百分比(％)和比例均表示重量％和重量比。實(shí)施例中的測(cè)定值是分別以下述方法進(jìn)行測(cè)定的。
(1)極細(xì)纖維的平均直徑按以下方法求出極細(xì)纖維斷面的直徑。
首先以制成的研磨布作為試片，將其浸在水中待其充分排放空氣吸水之后，使用日本切片機(jī)研究所制造的帶EF-10型電子式試品冷卻裝置的RM-S型切片機(jī)在凍結(jié)成-20℃的狀態(tài)下以鋒利的切刀將其切斷。然后在室溫下將試品解凍，保持其切斷面不動(dòng)，以120℃溫度干燥30分鐘。之后使用日本電子デ-タム公司制造的JFC-1500型離子·司帕塔凌古裝置蒸鍍金，使用JSM-6100型掃描式電子顯微鏡對(duì)垂直于研磨布表面切斷且呈圓形或近似圓形的橢圓形的纖維束斷面選出5根以4000倍倍率拍攝切斷面的照片。利用該照片對(duì)纖維束內(nèi)的極細(xì)纖維斷面的直徑進(jìn)行測(cè)定。
將存在于從切斷面的纖維束最大直徑的中點(diǎn)至纖維束最外周的距離的1/2的范圍內(nèi)的極細(xì)纖維定義為中心部的極細(xì)纖維，將存在于從側(cè)面至所能夠觀察到的最外層的極細(xì)纖維定義為外周部的極細(xì)纖維，在作為被測(cè)對(duì)象的極細(xì)纖維其根數(shù)較少的場(chǎng)合選擇全數(shù)、而較多的場(chǎng)合隨機(jī)選擇中心部的極細(xì)纖維20根、外周部的極細(xì)纖維50根，對(duì)它們的直徑進(jìn)行測(cè)定而求出一個(gè)纖維束的平均值。再?gòu)?根纖維束最終計(jì)算出平均值，求出用于研磨布的纖維束的中心部極細(xì)纖維的平均直徑d1、外周部極細(xì)纖維的平均直徑d2。
(2)100％伸長(zhǎng)模量對(duì)于高分子彈性體的100％伸長(zhǎng)模量，按照J(rèn)IS-K6550的方法，裁切出試片并使用島津制作所制造的島津オ-トゲラフ AGS-500G以50mm/min的拉伸速度進(jìn)行測(cè)定，將伸長(zhǎng)100％時(shí)的作用力作為100％伸長(zhǎng)模量。
(3)厚度及厚度的離散度(CV值)沿研磨布的長(zhǎng)度方向隨機(jī)測(cè)定500個(gè)點(diǎn)處的厚度，根據(jù)該數(shù)據(jù)求出厚度的平均值與標(biāo)準(zhǔn)差，按照下式求出標(biāo)準(zhǔn)差值(CV值)。
CV值(％)＝(標(biāo)準(zhǔn)差/平均值)×100厚度使用的是用可讀到百分之一的厚度計(jì)在載荷11.8kPa的條件下測(cè)出的值。
(4)抗拉強(qiáng)度按照J(rèn)IS-K6550的方法，裁切出試片并使用島津制作所制造的島津オ-トゲラフ AGS-500G以50mm/min的拉伸速度測(cè)出抗拉強(qiáng)度。
(5)寬度減小率裁切成40mm(寬度方向)×150mm(長(zhǎng)度方向)的試片，使用島津制作所制造的島津オ-トゲラフ AGS-500G以50mm/min的拉伸速度一直拉伸到載荷達(dá)到20N(5N/cm)為止，測(cè)出此時(shí)的寬度，求出寬度減小率(％)。
(6)吸水速度以及正面?zhèn)扔H水性層厚度的測(cè)定將研磨布在溫度20℃、濕度60％的保濕器中放置12小時(shí)以上，將其作為試片。在保持溫度20℃、濕度60％的室內(nèi)將試片靜置在平坦表面上，從試片上方2cm高處用微量吸量管滴下15μl水。測(cè)定從滴下后到布料吸收結(jié)束為止的時(shí)間，以用秒數(shù)表示的值作為吸水速度。
此外，在滴下的水完全被試片吸收后，使用キ-エンス公司制造的VH-800型數(shù)字顯微鏡觀察水滴滲透部分的斷面并測(cè)出一直到水滴所滲透的部分為止的層厚。以N＝10的平均值作為1親水層的厚度。
(7)吸水高度將研磨布裁切成25(橫)mm×250(縱)mm的試片，在溫度20℃、濕度60％的保濕器中放置12小時(shí)以上。在燒杯中放入深度達(dá)5cm以上的純水，將制成的試片垂直固定并使試片的端部20mm浸入水中。1小時(shí)后或者10分鐘后測(cè)出水在正面和背面通過(guò)毛細(xì)現(xiàn)象被吸上來(lái)的高度。將對(duì)3片進(jìn)行測(cè)定后的平均值作為評(píng)定數(shù)據(jù)。
(8)硅含量的測(cè)定使用理學(xué)電機(jī)公司制造的3080E型熒光X射線分析裝置進(jìn)行測(cè)定。精確地稱量出100mg的研磨布，作為測(cè)定樣本。將所測(cè)出的硅的量以重量比(ppm)表示。
(9)磁記錄盤(pán)片表面的平均粗糙度(Ra)、峰頂值(Rp)、谷底值(Rv)
對(duì)經(jīng)過(guò)紋理加工的磁記錄盤(pán)片，使用表面粗糙度測(cè)定器(VeecoInstrument Inc制TMS-2000)進(jìn)行測(cè)定并繪成曲線圖，以該曲線圖為基礎(chǔ)，按照J(rèn)IS-B0601所記載的方法算出。即，當(dāng)對(duì)測(cè)出的表面粗糙度用測(cè)定長(zhǎng)度方向x從0到L變化時(shí)的函數(shù)F(x)表示時(shí)，利用以下公式(1)進(jìn)行計(jì)算而得到。
公式(1)中，<F(x)>是x＝0～L時(shí)的函數(shù)F(x)的平均值。Ra=1L∫0L|F(x)-<F(x)>|dx]]>而Rp和Rv分別是自表面粗糙度的平均值至峰頂和谷底的差，可用下式表示。
Rp＝最高峰頂-平均值Rv＝最低谷底-平均值實(shí)施例1將49.1份的260℃溫度下測(cè)得其熔融指數(shù)為90的聚乙烯、50份的熔融指數(shù)為18的尼龍6、0.9份的聚乙二醇以顆粒狀態(tài)進(jìn)行混合。其次，將該混合顆粒送入壓出機(jī)進(jìn)行紡絲。熔融部及螺旋端部的溫度為260℃，紡絲組件及紡絲模的溫度為250℃，紡絲模的孔的直徑為0.3mm。進(jìn)而，使各混合紡絲纖維延伸，使之機(jī)械卷縮后將其切斷。所得到的混合紡絲纖維(主絲)是細(xì)度6.6dtex、長(zhǎng)度51mm的纖維原料。其次，使纖維原料從梳理機(jī)中通過(guò)而成為纖維股，經(jīng)過(guò)針刺處理制成絡(luò)合纖維股。使該纖維股從140℃的加熱區(qū)中通過(guò)，以壓延輥進(jìn)行壓力加工而得到相對(duì)重量670g/m2、厚度1.9mm的纖維母材。
另一方面，使聚丁二醇/聚丁烯己二酸酯(各自的分子量2000)＝60/40、二苯甲烷二異氰酸酯、聚乙二醇進(jìn)行反應(yīng)，得到100％伸長(zhǎng)模量為10.8MPa的聚氨酯樹(shù)脂(高分子彈性體)。在該聚氨酯樹(shù)脂中添加凝固調(diào)整劑、二甲替甲酰胺(DMF)，制作出固態(tài)成分為15％的浸漬溶液。
其次，將上述纖維母材浸在聚氨酯濃度為15％的浸漬溶液中，用擠壓輥擠壓后，使之在水中濕式凝固，并進(jìn)行脫溶劑處理。對(duì)得到的材料用熱風(fēng)進(jìn)行干燥，得到作為由纖維母材和填充于其空隙中的高分子彈性體構(gòu)成的復(fù)合體的浸含聚氨酯的材料。該高分子彈性體呈多孔體形成。在85℃的熱甲苯中對(duì)該材料反復(fù)進(jìn)行浸漬-擠壓操作，使纖維中的作為“?！背煞值木垡蚁┤芙庖詫⑵涑亩蔀闃O細(xì)纖維。在所得到的浸含聚氨酯的極細(xì)纖維母材中，作為高分子彈性體的聚氨酯樹(shù)脂其與纖維的比例(R/F)為35/65。最初的混合紡絲纖維(主絲)成為由尼龍極細(xì)纖維構(gòu)成的纖維束，作為纖維束內(nèi)的極細(xì)纖維斷面的纖維直徑，按照前述測(cè)定法測(cè)出的中心部的平均纖維直徑為1.10μm，外周部的平均纖維直徑為0.31μm，纖維束內(nèi)的極細(xì)纖維的根數(shù)約為650根。
在所得到的浸含聚氨酯的極細(xì)纖維母材的正面與背面，使用凹輥大約按5g/m2涂布DMF并進(jìn)行干燥。在經(jīng)過(guò)處理后的表面，在存在于極細(xì)纖維束之間的空隙中存在有高分子彈性體。該高分子彈性體是被DMF再次溶解的聚氨酯。之后，對(duì)兩面使用裝有320目砂紙的研磨機(jī)進(jìn)行研磨使其起毛，減薄到1/2的厚度，制成厚度為0.65mm的起毛布。
該布制成的研磨布的20％伸長(zhǎng)時(shí)的應(yīng)力為27.1N/cm，抗拉強(qiáng)度為87.6N/cm，對(duì)寬度為4.0cm的研磨布在20N載荷下進(jìn)行拉伸時(shí)正中部位的寬度減小2.0mm，研磨布表面未見(jiàn)不平整，完全能夠承受使用中受到的拉伸。
將得到的研磨布裁成4cm寬，用于對(duì)作為磁記錄盤(pán)片的鋁質(zhì)盤(pán)片進(jìn)行紋理加工。研磨劑含有0.1μm的多晶金剛砂磨粒，含有陰離子性的分散劑。硬盤(pán)的表面粗糙度良好，達(dá)到Ra＝3.5埃。
所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表1。
比較例1以在260℃溫度下測(cè)得熔融指數(shù)為90的聚乙烯作為復(fù)合纖維的“?！背煞?，熔融指數(shù)為18的尼龍6作為復(fù)合纖維的“島”成分，以“島”成分0.056dtex、“島”數(shù)38根、配比為聚乙烯(“?！背煞?尼龍6(“島”成分)＝40∶60進(jìn)行復(fù)合紡絲，得到細(xì)度5.3dtex、纖維長(zhǎng)51mm的復(fù)合纖維。除了對(duì)實(shí)施例1的混合紡絲纖維用該復(fù)合纖維進(jìn)行替代之外與實(shí)施例1同樣地制成研磨布。所得到的研磨布中的纖維束的外周部極細(xì)纖維和中心部極細(xì)纖維二者的直徑同為2.4μm。
繼而與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行紋理加工，經(jīng)過(guò)紋理加工的盤(pán)片的表面平均粗糙度Ra為18埃，未得到實(shí)施例1那種程度的均勻的表面。所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表1。
實(shí)施例2除了替代實(shí)施例1中所使用的15％固態(tài)成分的聚氨酯樹(shù)脂的浸漬液而使用5％固態(tài)成分的浸漬液之外與實(shí)施例1同樣地制成研磨布。該研磨布的高分子彈性體(聚氨酯樹(shù)脂)與纖維母材的比例為5/95。
該研磨布與通過(guò)實(shí)施例1得到的一樣，由極細(xì)纖維構(gòu)成。但是，與實(shí)施例1的研磨布相比，毛茸長(zhǎng)，表面的均勻性稍差，厚度的離散度為3.8，抗拉強(qiáng)度為8N/cm。
之后，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行紋理加工時(shí)，很少出現(xiàn)劃傷。所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表1。
比較例2將50份的聚乙烯和50份的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯以顆粒狀態(tài)進(jìn)行混合。其次，將該混合顆粒送入壓出機(jī)進(jìn)行紡絲。熔融部及螺旋端部的溫度為290℃，紡絲組件及紡絲模的溫度為285℃，紡絲模的孔的直徑為0.3mm。進(jìn)而，使各混合紡絲纖維延伸，使之機(jī)械卷縮后將其切斷，制成混合紡絲纖維的主絲為6.6dtex的纖維原料。之后，使之從梳理機(jī)中通過(guò)而成為纖維股，經(jīng)過(guò)針刺處理而得到相對(duì)重量為670g/m2的纖維母材。
繼而，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行聚氨酯樹(shù)脂的浸漬、極細(xì)纖維化、起毛等過(guò)程，制成研磨布。所得到的布中的纖維束的中心部極細(xì)纖維和外周部極細(xì)纖維的直徑分別為0.32μm和0.23μm。研磨布的抗拉強(qiáng)度為25N/cm，寬度減小8.5mm，厚度的離散性為4.0％，是一種強(qiáng)度低、表面不平整的研磨布。
使用該研磨布與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行紋理加工的結(jié)果，出現(xiàn)較多的劃傷，盤(pán)片的表面平均粗糙度Ra也達(dá)到10埃，未得到實(shí)施例1那種程度的均勻的表面。所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表1。
實(shí)施例3除了未使用砂紙進(jìn)行研磨之外，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行制作而制成非起毛型研磨布。
將得到的研磨布與實(shí)施例1同樣地用于紋理加工。硬盤(pán)的表面平均粗糙度Ra良好，達(dá)到了4.0埃。
所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表2。
實(shí)施例4與實(shí)施例1同樣地制成起毛布。之后，作為陰離子系滲透劑使用二辛基磺基琥珀酸鈉的1％水溶液，浸涂在該起毛布上，一直擠壓到擠壓率為70％為止。然后，以120℃、5分鐘為條件進(jìn)行熱風(fēng)干燥，制成研磨布。
經(jīng)過(guò)處理的研磨布的吸水速度為5秒。
使用該經(jīng)過(guò)陰離子系滲透劑處理的研磨布與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了紋理加工。研磨劑在研磨布上的滲透速度比實(shí)施例1快，未出現(xiàn)劃傷等缺陷，經(jīng)過(guò)紋理加工的表面平均粗糙度Ra也良好，達(dá)到3.1埃。
所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表2。
實(shí)施例5除了將實(shí)施例1的聚氨酯樹(shù)脂(高分子彈性體)的100％伸長(zhǎng)模量10.5MPa改為27.5MPa之外，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行制作，制成研磨布。
將得到的研磨布與實(shí)施例1同樣地用于紋理加工。硬盤(pán)的表面平均粗糙度Ra良好，為3.8埃。所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表2。
實(shí)施例6與實(shí)施例1同樣地得到浸含聚氨酯的極細(xì)纖維母材。
在得到的母材的正面與背面使用凹輥大約按5g/m2涂布DMF，并進(jìn)行干燥。其次，用軋液機(jī)壓軋?jiān)撃覆氖蛊浈伐毳?ト FZS(松本油脂制藥公司制造的氨基改性硅，固態(tài)成分濃度20％)的1％水溶液達(dá)到吸液率＝70％，然后進(jìn)行干燥。之后，對(duì)兩個(gè)面使用裝有400目砂紙的研磨機(jī)正反面各研磨兩次使之起毛并減薄，制成厚度為0.8mm的起毛布。
為了對(duì)整個(gè)起毛布進(jìn)行斥水處理，浸涂氟系樹(shù)脂F(xiàn)-90C(大日本油墨工業(yè)株式會(huì)社制造)，以厚度的70％的間隙進(jìn)行擠壓并進(jìn)行干燥。布料上F-90C的固態(tài)成分附著量為0.5％。按照J(rèn)IS-K6328所記載的斥水試驗(yàn)測(cè)得此時(shí)的斥水度為100。在該斥水布料的表面，使用70目的凹輥涂布二辛基磺基琥珀酸鈉的5％甲醇溶液，并進(jìn)行干燥。該處理反復(fù)進(jìn)行兩次從而得到表面經(jīng)過(guò)親水處理的研磨布?？估瓘?qiáng)度為86.7N/cm，當(dāng)對(duì)寬度4.0cm的研磨布以20N載荷進(jìn)行拉伸時(shí)，正中部位寬度減小2.1mm，研磨布表面也未見(jiàn)不平整，完全能夠承受使用中受到的拉伸。此外，該研磨布的吸水高度為10分鐘時(shí)正面為2.6cm、背面為0.0cm，1小時(shí)時(shí)正面為5.0cm、背面為0.0cm，隨著時(shí)間的推移緩慢進(jìn)行吸水。正面?zhèn)扔H水性層的厚度為315μm。硅含量為3150ppm。
使用所得到的研磨布與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了紋理加工。研磨劑在研磨材料上的滲透速度也達(dá)到最佳，劃傷等缺陷很少。此外，進(jìn)行紋理加工后Rv/Rp＝4.0且Rp＜Rv，Ra也良好，達(dá)到了3.2埃。
所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表3。
實(shí)施例7與實(shí)施例6同樣地制成起毛布。再將得到的起毛布，在含有4g/升松本油脂制藥公司制造的商品名SSK-4(聚氧乙烯烷基醚類(lèi))、2g/升氫氧化鈉的溶液中，以40比1的浴比，使用液流染色機(jī)在60℃下清洗40分鐘。
之后，與實(shí)施例6同樣地對(duì)得到的起毛布整個(gè)進(jìn)行斥水處理，表面進(jìn)行親水處理，從而得到研磨布?？估瓘?qiáng)度為86.7N/cm，對(duì)寬4.0cm的研磨布以20N載荷進(jìn)行拉伸時(shí)，正中部位的寬度減小2.1mm，研磨布表面未見(jiàn)不平整，完全能夠承受使用中受到的拉伸。此外，該研磨布的吸水高度為10分鐘時(shí)正面為2.4cm、背面為0.0cm，1小時(shí)時(shí)正面為5.0cm、背面為0.0cm，隨著時(shí)間的推移緩慢進(jìn)行吸水。正面?zhèn)扔H水性層的厚度為315μm。并且由于進(jìn)行了清洗，硅含量為30ppm，與實(shí)施例6的3150ppm相比顯著降低。
使用所得到的研磨布與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行了紋理加工。研磨劑在研磨材料上的滲透速度也達(dá)到最佳，并且不存在劃傷等缺陷，硬盤(pán)的Rv/Rp＝4.0且Rp＜Rv，并且Ra良好，達(dá)到了3.2埃。并且在此之后，得到在表面形成了磁性層的硬盤(pán)。所得到的硬盤(pán)是磁性層不虛浮的良好的硬盤(pán)。
所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表3。
實(shí)施例8除了未使用砂紙進(jìn)行研磨之外，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行制作而制成非起毛型研磨布。該研磨布的吸水高度為10分鐘時(shí)正面為2.0cm、背面為0.0cm，1小時(shí)時(shí)正面為4.8cm、背面為0.0cm，隨著時(shí)間的推移緩慢進(jìn)行吸水。正面?zhèn)扔H水性層的厚度為320μm。
將得到的研磨布與實(shí)施例1同樣地用于紋理加工。盡管出現(xiàn)劃傷有所增多的傾向，但硬盤(pán)的Rv/Rp＝3.5且Rp＜Rv，表面平均粗糙度Ra也良好，達(dá)到了1.9埃。
所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表3。
比較例3以在260℃溫度下測(cè)得熔融指數(shù)為90的聚乙烯作為復(fù)合纖維的“海”成分，熔融指數(shù)為18的尼龍6作為復(fù)合纖維的“島”成分，以“島”成分0.056dtex、“島”數(shù)38根、配比為聚乙烯(“?！背煞?尼龍6(“島”成分)＝40∶60進(jìn)行復(fù)合紡絲，得到細(xì)度5.3dtex、纖維長(zhǎng)51mm的復(fù)合纖維。除了對(duì)實(shí)施例6的混合紡絲纖維以該復(fù)合纖維進(jìn)行替代之外與實(shí)施例6同樣地制成研磨布。所得到的研磨布中的纖維束的外周部極細(xì)纖維和中心部極細(xì)纖維二者的直徑同為2.4μm。此外，研磨布的吸水高度為正面4.0cm、背面0.0cm。
接下來(lái)與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行紋理加工。經(jīng)過(guò)紋理加工的硬盤(pán)的表面粗糙度Ra為9.5埃，未得到實(shí)施例1或?qū)嵤├?那種程度的均勻的表面。所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表4。
實(shí)施例9除了將基于實(shí)施例1而在實(shí)施例6中使用的15％固態(tài)成分的聚氨酯樹(shù)脂的浸漬液改用5％固態(tài)成分的浸漬液之外，與實(shí)施例6同樣地進(jìn)行制作，得到研磨布。作為該研磨布的高分子彈性體的聚氨酯樹(shù)脂與纖維母材的比例為5/95。
該研磨布與實(shí)施例6同樣地由極細(xì)纖維構(gòu)成。但是由于高分子彈性體較少，因而表面的形態(tài)不能得到保持，與從實(shí)施例6得到的相比，毛茸長(zhǎng)，表面的均勻性差，厚度的離散度也大。
其次，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行紋理加工，而加工時(shí)出現(xiàn)研磨布因吸水而容易變長(zhǎng)的傾向。所得到的研磨布及磁記錄盤(pán)片的物理性能示于表4。
實(shí)施例10除了將基于實(shí)施例1而在實(shí)施例6中使用的15％固態(tài)成分的聚氨酯樹(shù)脂的浸漬液改用30％固態(tài)成分的浸漬液之外，與實(shí)施例6同樣地進(jìn)行制作，制作出研磨布。作為該研磨布的高分子彈性體的聚氨酯樹(shù)脂與纖維母材的比例為70/30。而且該研磨布的吸水高度為正面4.0cm，背面0.0cm。
其次，與實(shí)施例1同樣地進(jìn)行紋理加工，表面露出較多的聚氨酯，出現(xiàn)一些劃傷。但是，經(jīng)過(guò)紋理加工的硬盤(pán)達(dá)到Rv/Rp＝2.4且Rp＜Rv，而且表面平均粗糙度良好，為4.5埃。
表1

表2

表3

表4

權(quán)利要求
1.一種研磨布，以由纖維母材和在其中填充高分子彈性體而成的復(fù)合布構(gòu)成，其特征是，所說(shuō)纖維母材(1)由20～3000根極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束構(gòu)成，(2)所說(shuō)纖維束，其存在于從垂直于長(zhǎng)度方向的截面的中心至半徑的1/2的周?chē)鸀橹沟闹行牟康臉O細(xì)纖維的平均直徑(D1)為0.3～10μm，存在于從半徑的1/2的周?chē)镣庵転橹沟耐庵懿康臉O細(xì)纖維的平均直徑(D2)為0.05～1μm，并且，D1/D2的比值為1.5以上。
2.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)研磨布，其高分子彈性體/纖維母材的比例按照重量在10/90～60/40的范圍內(nèi)。
3.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)研磨布，在構(gòu)成所說(shuō)纖維母材的纖維束之間所存在的空隙中實(shí)質(zhì)性地存在高分子彈性體。
4.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)纖維母材是由50～2000根極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束構(gòu)成。
5.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)纖維束，其存在于中心部的極細(xì)纖維的平均直徑(D1)為0.5～2μm且存在于所說(shuō)外周部的極細(xì)纖維的平均直徑(D2)為0.1～0.7μm。
6.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)纖維母材是由所說(shuō)纖維束構(gòu)成的無(wú)紡布結(jié)構(gòu)體。
7.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)高分子彈性體，其100％伸長(zhǎng)模量為9～40MPa。
8.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，所說(shuō)纖維束以由聚酰胺形成的極細(xì)纖維構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，厚度為0.3～1.2mm且厚度的標(biāo)準(zhǔn)差值(CV)為3以下。
10.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，具有寬度為5～300mm的帶狀形態(tài)。
11.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，抗拉強(qiáng)度在10N/cm以上。
12.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，具有在施加5N/cm載荷時(shí)寬度減小20％以下的帶狀形態(tài)。
13.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，至少一個(gè)表面的吸水速度為80秒以下。
14.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，另一個(gè)表面具有親水性層且該層的厚度為500μm以下。
15.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，一側(cè)表面的吸水高度為20mm/小時(shí)以上，其相反一側(cè)表面的吸水高度為5mm/小時(shí)以下。
16.如權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布，一側(cè)表面經(jīng)過(guò)起毛處理。
17.一種研磨布，以由纖維母材和在其中填充高分子彈性體而成的復(fù)合布構(gòu)成，其特征是，所說(shuō)纖維母材(1)由20～3000根極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束構(gòu)成，(2)所說(shuō)纖維束，其存在于從垂直于長(zhǎng)度方向的截面的中心至半徑的1/2的周?chē)鸀橹沟闹行牟康臉O細(xì)纖維的平均直徑(D1)為0.3～10μm，存在于從半徑的1/2的周?chē)镣庵転橹沟耐庵懿康臉O細(xì)纖維的平均直徑(D2)為0.05～1μm，并且D1/D2的比值為1.5以上，所說(shuō)研磨布，(a)一側(cè)表面的吸水高度為20mm/小時(shí)以上，其相反一側(cè)表面的吸水高度為5mm/小時(shí)以下，并且(b)一側(cè)表面經(jīng)過(guò)起毛處理。
18.一種磁記錄盤(pán)片的研磨方法，其特征是，在將含有從氧化鋁、二氧化硅、氧化鈰、氧化鋯、氮化硅、單晶和多晶金剛砂構(gòu)成的組中選擇的至少一種磨粒且含有直徑為0.05～0.5μm的磨粒的研磨膏向磁記錄盤(pán)片表面供給的同時(shí)使用權(quán)利要求1所說(shuō)的研磨布對(duì)該盤(pán)片的表面進(jìn)行研磨。
全文摘要
一種研磨布，以由纖維母材和其中填充高分子彈性體而成的復(fù)合布構(gòu)成，其特征是，該纖維母材(1)由20～3000根極細(xì)纖維結(jié)束而成的纖維束構(gòu)成，(2)該纖維束，其存在于從垂直于長(zhǎng)度方向的截面的中心至半徑的1/2處為止的中心部的極細(xì)纖維的平均直徑(D1)為0.3～10μm，存在于從半徑的1/2處至外周為止的外周部的極細(xì)纖維的平均直徑(D2)為0.05～1μm，并且，D1/D2的比值為1.5以上。根據(jù)本發(fā)明，可提供一種特別是適合在硬盤(pán)的制造中用于盤(pán)片的紋理加工的、能夠高精度進(jìn)行表面終加工且具有優(yōu)異的強(qiáng)度的研磨布。
文檔編號(hào)B24B37/24GK1398213SQ01804562
公開(kāi)日2003年2月19日 申請(qǐng)日期2001年11月30日 優(yōu)先權(quán)日2000年12月5日
發(fā)明者田中學(xué), 鈴木義行, 北脅秀亮, 三村正久 申請(qǐng)人:帝人株式會(huì)社