機(jī)臺(tái)底座治具的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及機(jī)械領(lǐng)域，特別是，涉及一種機(jī)臺(tái)底座治具。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有D/B&H/M&G/M機(jī)臺(tái)底座治具由于設(shè)計(jì)上的不足，在吸真空過程中由于導(dǎo)通孔位置不對(duì)應(yīng)造成吸真空缺陷，而且由于底座導(dǎo)通孔數(shù)量較少，影響生產(chǎn)效率。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種機(jī)臺(tái)底座治具，有效解決了吸真空過程中位置不對(duì)應(yīng)造成的吸真空缺陷問題，大大提高了生產(chǎn)效率。
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案如下:
[0005]機(jī)臺(tái)底座治具，包括畫膠底座，所述畫膠底座包括畫膠底板、列向?qū)Ч芎托邢驅(qū)Ч?，所述列向?qū)Ч芷叫性O(shè)置在畫膠底板內(nèi)部，所述列向?qū)Ч荛g通過行向?qū)Ч苓B通；所述畫膠底板一側(cè)陣列設(shè)置有導(dǎo)通孔，所述導(dǎo)通孔垂直設(shè)置在列向?qū)Ч苌喜⑴c列向?qū)Ч苓B通；所述導(dǎo)通孔在畫膠底板開口處設(shè)有外延孔。
[0006]優(yōu)選的，所述外延孔為X型沉孔，所述導(dǎo)通孔位于X型沉孔中心。
[0007]優(yōu)選的，所述導(dǎo)通孔在畫膠底板上為5*10陣列。
[0008]優(yōu)選的，還包括封合底座，所述封合底座包括封合底板和通孔，所述通孔設(shè)置在封合底板上并與畫膠底座上的導(dǎo)通孔位置、形狀、大小相對(duì)應(yīng)。
[0009]相比現(xiàn)有技術(shù)，本實(shí)用新型的有益效果在于:本實(shí)用新型有效解決了吸真空過程中位置不對(duì)應(yīng)造成的吸真空缺陷問題，且對(duì)導(dǎo)通孔進(jìn)行重新布局，提高了機(jī)臺(tái)底座對(duì)機(jī)種的適應(yīng)性，減少生產(chǎn)過程中頻繁更換底座造成的影響，大大提高了生產(chǎn)效率。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型中畫膠底座正視圖；
[0011]圖2為本實(shí)用新型中畫膠底座透視圖；
[0012]圖3為本實(shí)用新型中畫膠底座橫向剖視圖；
[0013]圖4為本實(shí)用新型中導(dǎo)通孔示意圖；
[0014]圖5為本實(shí)用新型中封合底座示意圖；
[0015]其中，I為畫膠底板、2為導(dǎo)通孔、201為外延孔、3為列向?qū)Ч堋?為行向?qū)Ч堋?為封合底板。
【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說明。
[0017]如圖1-5所示，機(jī)臺(tái)底座治具，包括畫膠底座和封合底座，所述畫膠底座包括畫膠底板1、列向?qū)Ч?和行向?qū)Ч?，所述列向?qū)Ч?平行設(shè)置在畫膠底板I內(nèi)部，所述列向?qū)Ч?間通過行向?qū)Ч?連通；所述畫膠底板I 一側(cè)陣列設(shè)置有導(dǎo)通孔2，所述導(dǎo)通孔2垂直設(shè)置在列向?qū)Ч?上并與列向?qū)Ч?連通；所述導(dǎo)通孔2在畫膠底板I開口處設(shè)有外延孔201 ;所述封合底座包括封合底板5和通孔501，所述通孔501設(shè)置在封合底板5上并與畫膠底座上的導(dǎo)通孔2位置、形狀、大小相對(duì)應(yīng)。
[0018]在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，機(jī)臺(tái)底座治具，包括畫膠底座和封合底座，所述畫膠底座包括畫膠底板1、列向?qū)Ч?和行向?qū)Ч?，所述列向?qū)Ч?平行設(shè)置在畫膠底板I內(nèi)部，所述列向?qū)Ч?間通過行向?qū)Ч?連通；所述畫膠底板I 一側(cè)陣列設(shè)置有導(dǎo)通孔2，所述導(dǎo)通孔2垂直設(shè)置在列向?qū)Ч?上并與列向?qū)Ч?連通；所述導(dǎo)通孔2在畫膠底板I開口處設(shè)有外延孔201 ;所述外延孔201為X型沉孔，所述導(dǎo)通孔2位于X型沉孔中心；所述導(dǎo)通孔2在畫膠底板I上為5*10陣列；所述封合底座包括封合底板5和通孔501，所述通孔501設(shè)置在封合底板5上并與畫膠底座上的導(dǎo)通孔2位置、形狀、大小相對(duì)應(yīng)。
[0019]對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說，可根據(jù)以上描述的技術(shù)方案以及構(gòu)思，做出其它各種相應(yīng)的改變以及形變，而所有的這些改變以及形變都應(yīng)該屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.機(jī)臺(tái)底座治具，包括畫膠底座，其特征在于，所述畫膠底座包括畫膠底板(1)、列向?qū)Ч?3)和行向?qū)Ч?4)，所述列向?qū)Ч?3)平行設(shè)置在畫膠底板(I)內(nèi)部，所述列向?qū)Ч?3)間通過行向?qū)Ч?4)連通；所述畫膠底板(I) 一側(cè)陣列設(shè)置有導(dǎo)通孔(2)，所述導(dǎo)通孔(2)垂直設(shè)置在列向?qū)Ч?3)上并與列向?qū)Ч?3)連通；所述導(dǎo)通孔(2)在畫膠底板(I)開口處設(shè)有外延孔(201)。
2.如權(quán)利要求1所述的機(jī)臺(tái)底座治具，其特征在于，所述外延孔(201)為X型沉孔，所述導(dǎo)通孔⑵位于X型沉孔中心。
3.如權(quán)利要求1所述的機(jī)臺(tái)底座治具，其特征在于，所述導(dǎo)通孔(2)在畫膠底板⑴上為5*10陣列。
4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的機(jī)臺(tái)底座治具，其特征在于，還包括封合底座，所述封合底座包括封合底板(5)和通孔(501)，所述通孔(501)設(shè)置在封合底板(5)上并與畫膠底座上的導(dǎo)通孔(2)位置、形狀、大小相對(duì)應(yīng)。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種機(jī)臺(tái)底座治具，包括畫膠底座，所述畫膠底座包括畫膠底板、列向?qū)Ч芎托邢驅(qū)Ч?，所述列向?qū)Ч芷叫性O(shè)置在畫膠底板內(nèi)部，所述列向?qū)Ч荛g通過行向?qū)Ч苓B通；所述畫膠底板一側(cè)陣列設(shè)置有導(dǎo)通孔，所述導(dǎo)通孔垂直設(shè)置在列向?qū)Ч苌喜⑴c列向?qū)Ч苓B通；所述導(dǎo)通孔在畫膠底板開口處設(shè)有外延孔。本實(shí)用新型有效解決了吸真空過程中位置不對(duì)應(yīng)造成的吸真空缺陷問題，大大提高了生產(chǎn)效率。
【IPC分類】B23Q1-03
【公開號(hào)】CN204524809
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520031570
【發(fā)明人】董劍華
【申請(qǐng)人】群光電子(蘇州)有限公司
【公開日】2015年8月5日
【申請(qǐng)日】2015年1月16日