本發(fā)明屬于沖壓模具領(lǐng)域，尤其涉及一種工件自動封裝的壓合生產(chǎn)線。
背景技術(shù)：
沖壓模具是一種將材料加工成零部件的一種特殊加工工藝，其利用凹凸模具對工件施加壓力，使其分離，并產(chǎn)生塑性變形，從而獲得所需的零件，現(xiàn)在一般的沖壓模具都包括上下模，對準機構(gòu)，被連接在上木且保持上模與下模軸相對準，導向件位于上模內(nèi)用于索引定位在上下模之間的工件、沖頭構(gòu)件位于上模，其包括用于工件上沖孔的沖頭，用于形成產(chǎn)品的沖頭件和退料見用于移走產(chǎn)品，偏置件位于下模內(nèi)且與沖頭件軸向?qū)?，傳感器位于下模用于確定孔是否工件上形成或產(chǎn)品是否已從工件上移走，上述設備在使用時只能檢測工件是否沖壓完成，大部分工件在沖壓完成后都需要進行封裝，但是一般都需要工作人員手工封裝，浪費時間，而且容易在操作人員的封裝過程中造成對工件的損傷，造成不必要的損失。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種帶工件噴涂裝置的壓合生產(chǎn)線，可以將自動將沖壓完成的工件進行噴涂，一次性收件完成，提高了工作效率。
一種工件自動封裝的壓合生產(chǎn)線，包括：上料罐、沖壓模具、封裝裝置、傳動裝置、收件箱；其中，所述的沖壓模具包括上模座、下模座、凸模板、凹模板、導向柱；所述的上模座設置在下模座的正上方，上模座與下模座之間通過導向柱相連接，所述的導向柱內(nèi)側(cè)設置有滑軌，上模座內(nèi)側(cè)設置有與滑軌相契合的滑塊，上模座通過滑塊滑動安裝在導向柱上；所述的模板由凸模板和凹模板組成，所述的凸模板安裝在上模座的底部，凹模板設置在下模座的頂面；所述的上料罐通過管路與凹模板相連接，所述的封裝裝置設置在沖壓模具的后端，沖壓模具與傳動裝置首端相連接，在傳動裝置的尾端，設置有收件箱；所述的封裝裝置包括封裝膜和壓合桿，所述的封裝膜與傳動裝置呈垂直交叉，壓合桿設置在傳動裝置與封裝膜的交叉位置正上方，壓合桿與封裝膜的一端相連接。
進一步的，所述的收件箱內(nèi)部設置有存放格，在收件箱的底部設置有萬向滑輪，萬向滑輪上設置有滑輪固定扣。
進一步的，所述的凸模板通過數(shù)量至少四個的緊固螺栓固定在上模座，凹模板通過至少四個的緊固螺栓固定在下模座。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有顯著優(yōu)點和有益效果：本發(fā)明提供一種工件自動封裝的壓合生產(chǎn)線，工件完成沖壓后，通過工件放置在傳動裝置上，傳送到封裝膜與傳動裝置的交叉處，由壓合桿帶動封裝膜一周對工件進行封裝。
附圖說明
圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
其中，1、上模座；2、下模座；3、凸模板；4、凹模板；5、上料罐；6、傳動裝置；7、導向柱；8、封裝膜；9、壓合桿；10、收件箱。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本發(fā)明提供的具體實施方式、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。
一種工件自動封裝的壓合生產(chǎn)線，包括：上料罐5、沖壓模具、封裝裝置、傳動裝置6、收件箱10；其中，所述的沖壓模具包括上模座1、下模座2、凸模板3、凹模板4、導向柱7；所述的上模座1設置在下模座2的正上方，上模座1與下模座2之間通過導向柱7相連接，所述的導向柱7內(nèi)側(cè)設置有滑軌，上模座1內(nèi)側(cè)設置有與滑軌相契合的滑塊，上模座1通過滑塊滑動安裝在導向柱7上；所述的模板由凸模板3和凹模板4組成，所述的凸模板3安裝在上模座1的底部，凹模板4設置在下模座2的頂面；所述的上料罐5通過管路與凹模板4相連接，所述的封裝裝置設置在沖壓模具的后端，沖壓模具與傳動裝置首端相連接，在傳動裝置的尾端，設置有收件箱10；所述的封裝裝置包括封裝膜8和壓合桿9，所述的封裝膜8與傳動裝置6呈垂直交叉，壓合桿9設置在傳動裝置6與封裝膜8的交叉位置正上方，壓合桿9與封裝膜8的一端相連接。
進一步的，所述的收件箱10內(nèi)部設置有存放格，在收件箱10的底部設置有萬向滑輪，萬向滑輪上設置有滑輪固定扣。
進一步的，所述的凸模板3通過數(shù)量至少四個的緊固螺栓固定在上模座1，凹模板4通過至少四個的緊固螺栓固定在下模座2。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有顯著優(yōu)點和有益效果：本發(fā)明提供一種工件自動封裝的壓合生產(chǎn)線，工件完成沖壓后，通過工件放置在傳動裝置上，傳送到封裝膜與傳動裝置的交叉處，由壓合桿帶動封裝膜一周對工件進行封裝。
以上對本發(fā)明的實施例進行了詳細說明，但所述內(nèi)容僅為本發(fā)明的較佳實施例，不能被認為用于限定本發(fā)明的實施范圍。凡依本發(fā)明申請范圍所作的均等變化與改進等，均應仍歸屬于本發(fā)明的專利涵蓋范圍之內(nèi)。