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黑色糊組合物、等離子顯示面板的上板及其制造方法

文檔序號(hào):2936092閱讀:140來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:黑色糊組合物、等離子顯示面板的上板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及等離子顯示面板的上板及其制造方法。具體的,本發(fā)明涉及一種能夠改進(jìn)黑色矩陣(black matrix)特性的黑色糊(blackpaste)以及使用其的等離子顯示面板。
背景技術(shù)
等離子顯示面板(PDP)是一種能夠利用等離子放電的發(fā)光現(xiàn)象顯示圖像或信息的平板顯示裝置。PDP通常根據(jù)面板結(jié)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)方法劃分為直流(DC)型或交流(AC)型。
PDP在由阻擋條分開的每一單元中產(chǎn)生等離子放電。因此,PDP是這樣的一種顯示裝置,其利用當(dāng)每一單元中的氣體(例如He、Xe等)的等離子放電所產(chǎn)生的紫外線通過(guò)激發(fā)單元中的熒光體而返回到基態(tài)時(shí)由于能量差而產(chǎn)生可見光的發(fā)光現(xiàn)象。
PDP具有多種優(yōu)點(diǎn),例如結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,由于其結(jié)構(gòu)單元而易于制造,高亮度,高發(fā)光效能,存儲(chǔ)容量效果,以及超過(guò)160°的寬視角。此外,PDP還能夠用于40英寸及以上的寬屏。
圖1A至1F是示出現(xiàn)有技術(shù)中形成一般PDP的上板的步驟的剖面圖。
首先,如圖1A中所示,在已通過(guò)例如濺射、離子鍍、化學(xué)淀積或電沉積的工藝形成由ITO構(gòu)成的透明電極110的狀態(tài)下,在上基片100上施加黑色糊組合物122。
該黑色糊組合物122是RuO化合物。
然后,如圖1B中所示施加電極材料132。
隨后,在其上施加了電極材料132的上基片100上淀積具有特定開口162的第一掩模160。如圖1C中所示,該第一掩模160在與總線電極130對(duì)應(yīng)的位置上具有開口162。
通過(guò)從第一掩模160的上部輻照UV燈一定時(shí)間周期,使該第一掩模曝光。
然后,在去除了第一掩模160后,利用顯影器使上基片100顯影。
結(jié)果,如圖1D中所示,在其他部分上的電極材料132和黑色糊組合物122被去除,僅留下對(duì)應(yīng)UV燈的固化部分。然后,對(duì)其進(jìn)行燒結(jié)處理。
并且,在其上形成第一黑色矩陣120和總線電極130的上基片100上施加介質(zhì)層材料,并干化以形成上介質(zhì)層140,如圖1E所示。
之后,再次將黑色糊組合物122施加在上介質(zhì)層140的頂部上。通過(guò)對(duì)其進(jìn)行顯影和燒結(jié)處理,在每一放電單元中形成第二黑色矩陣150,如圖1F所示。
隨后,通過(guò)在其上形成有第二黑色矩陣150的上介質(zhì)層140的頂部上再形成一個(gè)以上的介質(zhì)層(未示出)或者保護(hù)層(未示出),完成該P(yáng)DP上板的制造工藝。
在經(jīng)上述步驟制造PDP的上板的情況下,通過(guò)兩個(gè)步驟形成該第一和第二黑色矩陣120和150。也就是說(shuō),為形成設(shè)置在透明電極110和總線電極120之間的該第一黑色矩陣120,施加黑色糊組合物122,并接著進(jìn)行曝光、顯影和燒結(jié)工藝。
此外,為形成設(shè)置在每個(gè)放電單元中的第二黑色矩陣150,施加黑色糊組合物122,并隨后進(jìn)行曝光、顯影和燒結(jié)工藝。
因此,制造工藝變得復(fù)雜,且增加了制造成本及制造時(shí)間。
而且,用作該黑色糊組合物122的RuO化合物非常昂貴,因而增加了制造成本。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種包含MnCo2O4的黑色糊組合物,以及通過(guò)利用該黑色糊組合物形成黑色矩陣而具有總線電極和透明電極間低接觸電阻和高黑率(black rate)的黑色矩陣,并能夠降低制造成本的PDP的上板。
本發(fā)明的另一目的是提供一種黑色糊組合物和利用該黑色糊組合物的PDP的上板,其中通過(guò)同時(shí)形成總線電極和黑色矩陣簡(jiǎn)化了制造工藝并降低了制造成本。
根據(jù)本發(fā)明的黑色矩陣的黑色糊組合物包括大約5到25重量份的耐熱黑色顏料(pigment);大約5到20重量份的玻璃粉;大約25至30重量份的粘合劑;大約5到15重量份的光聚合單體;大約1到10重量份的光聚合引發(fā)劑;以及大約20至35重量份的溶劑。
根據(jù)本發(fā)明的PDP的上板包括上基片;設(shè)置在上基片的預(yù)定位置上的透明電極;設(shè)置在透明電極的預(yù)定位置上的總線電極;以及設(shè)置在透明電極和總線電極間的黑色矩陣。該黑色矩陣包括耐熱黑色顏料;以及玻璃粉,其中玻璃粉耐熱黑色顏料的含量比在大約1∶0.5和大約1∶3之間的范圍內(nèi)。
根據(jù)本發(fā)明的PDP的上板的制造方法包括將黑色糊組合物施加在其上形成了透明電極的基片上;干化該將黑色糊組合物,曝光該黑色糊組合物的特定區(qū)域以形成第一黑色矩陣;將電極材料施加到該黑色糊組合物上;使該電極材料干化;使該黑色糊組合物和電極材料的特定區(qū)域曝光,以形成第二黑色矩陣和總線電極;顯影該黑色糊組合物和電極材料;以及通過(guò)燒結(jié)該黑色糊組合物和電極材料形成總線電極以及第一和第二黑色矩陣。該黑色糊組合物包括大約5到25重量份的耐熱黑色顏料;大約5到20重量份的玻璃粉;大約25到30重量份的粘合劑;大約5到15重量份的光聚合單體;大約1到10重量份的光聚合引發(fā)劑;以及大約20至35重量份的溶劑。
根據(jù)本發(fā)明,在該黑色糊組合物以及利用其制成的PDP的上板中,總線電極和透明電極之間的接觸電阻是低的,該黑色矩陣具有高的黑率(black rate),并降低了制造成本,這是因?yàn)樵摵谏仃囉砂琈nCo2O4的該黑色糊來(lái)形成。
此外,根據(jù)本發(fā)明,在該黑色糊和PDP的上板中,同時(shí)形成總線電極和黑色矩陣,并且因此簡(jiǎn)化了上板的制造工藝,并降低了制造成本。


圖1A至圖1F是示出形成現(xiàn)有技術(shù)中PDP的上板的步驟的剖面圖;圖2是示出根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的PDP的剖面圖;和圖3A至圖3F是示出形成圖2的PDP的上板的步驟的剖面圖。
具體實(shí)施例方式
從下面結(jié)合附圖的具體說(shuō)明中,將更清楚地理解本發(fā)明。
圖2是一剖面圖、示出了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的等離子顯示面板。
在圖2中,PDP的結(jié)構(gòu)被劃分為上板200和下板300。
在上板200中,在玻璃基片210(下文中,稱其為“上基片”)的下側(cè)上形成透明電極220、總線電極250、第一和第二黑色矩陣230和240、上介質(zhì)層260以及保護(hù)層270。
透明電極220由透明導(dǎo)電材料如銦錫氧化物(下文中,稱其為“ITO”)制成,以便透射從放電單元中產(chǎn)生的光。
在透明電極220上形成總線電極250,以降低透明電極220的線路電阻(line resistance)。
總線電極250由具有高傳導(dǎo)率的銀(Ag)膏制成。由于總線電極250通常由具有高電導(dǎo)率的材料制成,因此他們降低了具有相對(duì)低電導(dǎo)率的透明電極220的驅(qū)動(dòng)電壓。
在放電單元之間設(shè)置第一黑色矩陣230,以吸收外部的光和在相鄰放電單元內(nèi)傳輸?shù)膬?nèi)部光,從而增強(qiáng)了對(duì)比度。并且,該第一矩陣230還劃分該放電單元。
第二黑色矩陣240被形成為在透明電極220和總線電極250之間的非常薄的層,從而允許電流在透明電極220和總線電極250間通過(guò),并增強(qiáng)PDP的對(duì)比度。
該第一和第二黑色矩陣230和240由黑色糊組合物制成。該黑色糊組合物包括耐熱黑色顏料、粘合劑、光聚合單體、光聚合引發(fā)劑、玻璃粉以及溶劑。
該黑色糊組合物包括大約5到25重量份的耐熱黑色顏料、大約5到20重量份的玻璃粉、大約25到30重量份的粘合劑、大約5到15重量份的光聚合單體、大約1到10重量份的光聚合引發(fā)劑、以及大約20到35重量份的溶劑。
在該黑色糊組合物中,玻璃粉∶耐熱黑色顏料的含量比可以在大約1∶0.5和大約1∶3的范圍內(nèi)。在此情況下,設(shè)想MnCo2O4的可以用作該耐熱黑色顏料。
使用在高溫下具有色彩穩(wěn)定性的黑色顏料來(lái)作為該耐熱黑色顏料。這是因?yàn)镻DP的上基片的制造工藝包括在500℃到600℃之間的高溫下的燒結(jié)工藝,因此該耐熱黑色顏料應(yīng)當(dāng)在如此的高溫下也不退色(discolored)。
詳細(xì)地說(shuō),由于在燒結(jié)工藝后形成的黑色膜很微小,MnCo2O4優(yōu)選作為該耐熱黑色顏料,并且其色彩特性良好。
具體的,優(yōu)選地將包括MnCo2O4的耐熱黑色顏料均勻地分散在溶劑中的漿液(slurry)作為所述糊狀物,這是因?yàn)槠錄](méi)有二次凝結(jié)殘余物(second coagulation remnant)。
所述漿液是通過(guò)將該耐熱黑色顏料均勻地分散在溶劑中而制備的。例如,該漿液通過(guò)利用混合器來(lái)混合和分散溶劑、分散劑和耐熱黑色顏料來(lái)制備。
此外,任何分散劑都可以用于所述漿液,只要其能夠使該耐熱黑色顏料均勻地分散即可。
在該黑色糊組合物中,使用丙烯酸(acrylic)基材料作為該粘合劑。也可以使用羧基樹脂(carboxyl resin)、包括乙烯基不飽和雙鍵的羧基光敏樹脂、或者不包括乙烯基不飽和雙鍵的羧基樹脂。該羧基光敏樹脂和該羧基樹脂可以單獨(dú)或混合使用,然而,優(yōu)選的,它們含量的總量在該黑色糊組合物總量的10%至80%。
在該黑色糊組合物中,光聚合單體被用于促進(jìn)黑色糊組合物的光固化(photo-curing),并改善顯影特性。
50光聚合單體的例子是2-羥乙基丙烯酸酯,2-羥丙基丙烯酸酯,二乙二醇二丙烯酸酯,三乙二醇二丙烯酸酯,聚乙二醇二丙烯酸酯,聚氨基甲酸酯二丙烯酸酯,三甲基丙烷三丙烯酸酯,五赤蘚醇三丙烯酸酯,五赤蘚醇四丙烯酸酯,三丙烯酸酯退化的三甲基丙烷環(huán)氧乙烷,三丙烯酸酯退化的三甲基丙烷環(huán)氧丙烷,二季戊四醇五丙烯酸酯,二季戊四醇六丙烯酸酯,和對(duì)應(yīng)于上述各種丙烯酸酯的甲基丙烯酸酯;和與多元酸,例如,苯二甲酸,己二酸,順丁烯二酸,衣康酸(atconic acid),琥珀酸,偏苯三酸,對(duì)苯二甲酸形成的單-,二-,三-,或多酯,和羥基烷基(甲基)丙烯酸酯。此外,上述各種光聚合單體可以單獨(dú)使用或兩種或多種組合使用。特別是,優(yōu)選的,光聚合單體是在一個(gè)分子上具有另外兩個(gè)丙烯酸基團(tuán)或甲基丙烯酸基團(tuán)的多官能單體。
另外,光聚合引發(fā)劑可以選自以下的一種或多種苯偶姻烷基酯,例如,苯偶姻,苯偶姻甲基酯,苯偶姻乙酯和苯偶姻異丙酯;苯乙酮類,例如,苯乙酮,2.2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮,2.2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮,1.1-二氯苯乙酮;氨基苯乙酮類,例如,2-甲基-1-[4-(甲基硫代)苯基]-2-嗎啉基丙烷-1-酮,2-芐基-2-二甲基氨基-1-[4-嗎啉基苯基]-丁烷-1-酮;蒽醌類,例如,2-甲基蒽醌,2-乙基蒽醌,2-t-丁基蒽醌,1-氯蒽醌;噻噸酮(tioxanthone)類,例如,2.4-二甲基噻噸酮,2.4-二乙基噻噸酮,2-氯噻噸酮,2.4-二異丙基噻噸酮;縮酮類,例如,苯乙酮二甲基縮酮,芐基二甲基縮酮(benxyldimethylketal);苯甲酮;氧化膦類,例如,(2.6-二甲氧基苯甲?;?-2.4.4-戊基氧化膦,雙(2.4.6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦,2.4.6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦,乙基-2.4.6-三甲基苯甲?;交鶃嗢⑺狨ィ缓瓦^(guò)氧化物。
此外,可以在不破壞黑色糊組合物的特性的范圍內(nèi)混合玻璃粉、硅石粉(silica powder)等。
在玻璃粉被添加到該黑色糊組合物的情況下,在曝光和顯影后形成的膜能夠易于在600℃或以下燒結(jié)。優(yōu)選的,使用包括從由氧化鉛、氧化鉍、氧化鋰或者氧化鋅構(gòu)成的組中選擇的至少其一作為主要成分的玻璃粉。
而且,溶劑能夠被混合作為在該黑色糊組合物的制造工藝中的稀釋劑,以用于粘性控制(viscosity control)、通過(guò)干化的薄膜制造以及接觸曝光。
該溶劑可以是選自由下列構(gòu)成的組中的一種或多種酮,例如甲乙酮、環(huán)己酮;芳香烴,例如甲苯、二甲苯、四甲基苯;二醇醚,例如溶纖劑、甲基溶纖劑、卡必醇、甲基卡必醇、丁基卡必醇、丙二醇單甲基酯、二丙二醇單甲基酯、二丙二醇單乙基酯、三乙二醇單乙酯;乙酸酯,例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸溶纖劑、乙酸丁酯溶纖劑(butylcellosolveacetate)、乙酸卡必醇酯、乙酸丁基卡必醇酯、丙二醇單甲基乙酸酯;醇,例如乙醇、丙醇、乙二醇、丙二醇;脂肪烴,例如辛烷、癸烷;和石油溶劑,例如石油醚、石腦油、具有氫的石腦油、溶劑石腦油。
上介質(zhì)層260與由金屬材料制成的總線電極250直接接觸,并且可以由PbO基玻璃或非Pb基玻璃制成,以避免與總線電極250發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。該上介質(zhì)層260限制放電電流以維持輝光放電,且在等離子放電時(shí)所產(chǎn)生的電荷被疊加(laminate)。
保護(hù)層270防止在等離子放電時(shí)上介質(zhì)層260由于濺射而被損壞,并還增加二次電子的放電效率。保護(hù)層270由氧化鎂(MgO)制成。
在PDP的下板300中,在玻璃基片310(下文中,稱其為“下基片”)的上表面上設(shè)置尋址電極320、下介質(zhì)層330、阻擋條340、以及熒光體層350。
尋址電極320位于每一放電單元的中間。該尋址電極320可以具有大約70至80μm的線寬度。
下介質(zhì)層330置于下基片310和尋址電極320的整個(gè)表面上,并保護(hù)尋址電極320。
阻擋條340位于下介質(zhì)層330的頂部上,通過(guò)預(yù)定的距離與尋址電極320間隔開,并在垂直方向上形成得較長(zhǎng)。
阻擋條340是維持放電距離所需要的,并防止相鄰放電單元間的電學(xué)和光學(xué)干擾。
在阻擋條340的兩側(cè)和下介質(zhì)層330的上表面上形成熒光體層350。
熒光體層350由在等離子放電時(shí)產(chǎn)生的紫外線激發(fā),并產(chǎn)生紅(R)、綠(G)或藍(lán)(B)可見光。
下面,將詳細(xì)說(shuō)明PDP的發(fā)光機(jī)制。
當(dāng)預(yù)定的電壓(在電壓余量?jī)?nèi))被施加到透明電極220和總線電極250時(shí),如果附加的足以產(chǎn)生等離子的電壓被施加到尋址電極320,則在相鄰的總線電極250之間形成等離子。在氣體中存在一定量的自由電子,并且當(dāng)電場(chǎng)作用到該氣體時(shí)自由電子受力(F=q·E)。
如果該力所作用的電子獲得足以使電子在最外軌道中遷移的能量(第一電離能量),它們使氣體電離,并因此通過(guò)電磁力使產(chǎn)生的離子和電子移動(dòng)到兩種電極。特別的,當(dāng)離子與保護(hù)層250碰撞時(shí)產(chǎn)生二次電子,并且這些二次電子幫助產(chǎn)生等離子。
因此,需要高電壓以開始初始放電,但是一旦放電開始,隨著電子密度的增加,就需要較低的電壓。
PDP的單元中的提供的氣體通常是惰性氣體,如Ne、Xe、He等。特別的,當(dāng)具有在大約147nm和173nm之間的波長(zhǎng)的紫外線作用到熒光體層350上時(shí),可產(chǎn)生紅、綠或藍(lán)可見光。
在此時(shí)發(fā)射的可見光能根據(jù)熒光體層350的種類來(lái)確定,并因而每一放電單元成為表示每一個(gè)紅、綠或藍(lán)色的像素。
通過(guò)在每一放電單元中組合RGB來(lái)控制每一放電單元的色彩。在該示范的PDP的情況下,通過(guò)控制產(chǎn)生等離子的時(shí)間來(lái)控制該色彩。
如此產(chǎn)生的可見光通過(guò)上基片210發(fā)射到單元的外部。
下面,將說(shuō)明利用本發(fā)明的黑色糊組合物的PDP的上板的制造工藝。
圖3A-3F是示出形成圖2的PDP的上板的步驟的剖面圖。
如圖3A中所示,將黑色糊組合物232施加到在已通過(guò)濺射、離子鍍、化學(xué)氣相淀積以及電沉積工藝形成透明電極220(如ITO)的狀態(tài)下的上基片210上。然后,使該黑色糊組合物323干化已實(shí)現(xiàn)表面處理。在干化后,絕大多數(shù)的黑色糊組合物中的溶劑可以被蒸發(fā)。
接著,在其上施加了黑色糊組合物232的上基片210上設(shè)置具有一定開口410的第一掩模400。第一掩模400的該開口形成于與將形成第一黑色矩陣230的位置對(duì)應(yīng)的位置上,如圖3B所示。
然后,在第一掩模400的頂部上進(jìn)行一定時(shí)間周期的曝光。
在使黑色糊組合物232曝光的情況下,相應(yīng)于該光的黑色糊組合物232被固化。此時(shí),通過(guò)設(shè)置在黑色糊組合物232上的第一掩模400僅特定部分的黑色糊組合物232被固化。也就是說(shuō),通過(guò)使黑色糊組合物232曝光,設(shè)置在開口410下的黑色糊組合物232被固化,而設(shè)置在沒(méi)有形成開口410的部分下的黑色糊組合物232因?yàn)闆](méi)有光通過(guò)而未被固化。
隨后,在去除第一掩模400之后,將電極材料252施加到黑色糊組合物232上,如圖3C中所示。
接著,將具有特定開口510的第二掩模500設(shè)置在上其上施加了電極材料252的上基片210上。然后,使該電極材料252干化以實(shí)現(xiàn)表面處理。
在第二掩模500中,開口510形成在與形成總線電極250和第二黑色矩陣240的位置相應(yīng)的位置上,如圖3D所示。
然后,可以在第二掩模500的頂部上對(duì)其進(jìn)行曝光。
在曝光電極材料252和黑色糊組合物232的情況下,電極材料252和黑色糊組合物232對(duì)應(yīng)于光而被固化。此時(shí),利用電極材料252和黑色糊組合物232上的第二掩模400,僅部分的黑色糊組合物232被固化。也就是說(shuō),通過(guò)使電極材料252和黑色糊組合物232曝光,設(shè)置在開口下的電極材料252和黑色糊組合物232被固化,而設(shè)置在沒(méi)有形成開口410的部分下的電極材料252和黑色糊組合物232因?yàn)闆](méi)有光通過(guò)而未被固化。
在曝光的情況下,利用曝光設(shè)備來(lái)進(jìn)行曝光。曝光通常是以利用光掩模的掩模曝光方法來(lái)進(jìn)行的,如同普通的光刻中那樣。所使用的掩??梢允秦?fù)型的或正型的。
可以進(jìn)行利用紅或藍(lán)可見激光束或氬(Ar)離子激光束的直接圖案形成,以代替使用光掩模。
可以使用多種曝光設(shè)備,例如步進(jìn)式曝光機(jī)或者接近式曝光機(jī)(proximity exposer)。對(duì)于大區(qū)域的曝光,膠或者電極材料可以被設(shè)置在玻璃或其他基片上,接著進(jìn)行曝光同時(shí)移動(dòng)基片以允許利用具有小光源的曝光機(jī)進(jìn)行大區(qū)域曝光。
能夠有效利用的有效(active)光源包括可見光、近紫外光、紫外光、電子束、X-射線以及激光束。當(dāng)然,紫外光是優(yōu)選的,并且可以使用低壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、鹵燈以及殺菌燈。當(dāng)然,優(yōu)選地為超高壓汞燈。
并且,在去除第二掩模500后進(jìn)行顯影處理。在圖3B和圖3D的工藝中,除對(duì)應(yīng)于光的固化部分之外,其他部分的電極材料252和黑色糊組合物232被去除。然后,進(jìn)行燒結(jié)處理以完成總線電極250以及第一和第二黑色矩陣230和240的形成,如圖3E中所示。
在燒結(jié)后,有機(jī)材料,如粘合劑、光聚合單體、光聚合引發(fā)劑等可以被燒盡。但是,無(wú)機(jī)微粒,如耐熱黑色顏料、玻璃粉等剩余在黑色矩陣中。
以這種方式,通過(guò)一次施加電極材料252和黑色糊組合物232的每一個(gè),曝光以及然后一次顯影/燒結(jié),完成總線電極250、第一和第二黑色矩陣230和240。
接著,將介質(zhì)材料設(shè)置到其上形成了透明電極220、總線電極250、第一和第二黑色矩陣230和240的上基片210上,以形成上介質(zhì)層260,如圖3F中所示。
然后,將MgO施加到上介質(zhì)層260上,以形成保護(hù)層270。
下面,將說(shuō)明對(duì)其上根據(jù)上述實(shí)施例形成該第一和第二黑色矩陣的PDP進(jìn)行預(yù)測(cè)試的結(jié)果。
參考表1,黑色糊組合物的每一部分以及對(duì)其的預(yù)測(cè)試結(jié)果如下所示。


在表1中,對(duì)照樣本1的黑色糊組合物包含大約14重量份的耐熱顏料,14重量份的玻璃粉、32重量份的粘合劑、8重量份的光聚合單體、4重量份的光聚合引發(fā)劑、以及28重量份的溶劑。
Co3O4被用作耐熱黑色顏料。丙烯酸粘合劑(acrylic binder)用作該粘合劑,而n-丁基卡必醇用作溶劑。
樣本1到樣本3的黑色糊組合物使用MnCo2O4作為耐熱黑色顏料。此外,除耐熱黑色顏料和玻璃粉外的其他成分具有與對(duì)照樣本1的該成分相同的種類和含量。
樣本1的黑色糊組合物包括大約14重量份的耐熱顏料、14重量份的玻璃粉、32重量份的粘合劑、8重量份的光聚合單體、4重量份的光聚合引發(fā)劑、以及28重量份的溶劑。
樣本2的黑色糊組合物包括大約18重量份的耐熱顏料、10重量份的玻璃粉、32重量份的粘合劑、8重量份的光聚合單體、4重量份的光聚合引發(fā)劑、以及28重量份的溶劑。
樣本3的黑色糊組合物包括大約12重量份的耐熱顏料、16重量份的玻璃粉、32重量份的粘合劑、8重量份的光聚合單體、4重量份的光聚合引發(fā)劑、以及28重量份的溶劑。
在利用該黑色糊組合物形成該第一和第二黑色矩陣后,評(píng)測(cè)PDP的特性的結(jié)果如表1中所示。
在此情況中,對(duì)照樣本1利用現(xiàn)有技術(shù)的工藝形成黑色矩陣,而樣本1至樣本3通過(guò)根據(jù)本發(fā)明的工藝形成黑色矩陣。
根據(jù)測(cè)試結(jié)果,樣本1至樣本3中黑色矩陣的厚度類似于對(duì)照樣本1的厚度。一般的,在燒結(jié)厚度大于1μm的情況下,黑色矩陣的特性不滿足標(biāo)準(zhǔn)。因此,可以確知根據(jù)本發(fā)明的樣本1至樣本3表現(xiàn)出滿意的特性。
在電阻方面,樣本1至樣本3類似于對(duì)照樣本1。在電阻非常低的情況下,該黑色矩陣的特性在標(biāo)準(zhǔn)之下。因此,可以確知根據(jù)本發(fā)明的樣本1至樣本3表現(xiàn)出滿意的特性。
透射率越低,黑色矩陣的特性提高的越多。與對(duì)照樣本1相比,可以確知樣本1至樣本3具有較低的透射率。
可以確認(rèn),利用根據(jù)本發(fā)明的黑色糊組合物制造的黑色矩陣表現(xiàn)出類似或更加改善了的特性。
從本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中,應(yīng)當(dāng)注意到根據(jù)上述教導(dǎo)本領(lǐng)域技術(shù)任意可以進(jìn)行各種修改和變化。因此,應(yīng)當(dāng)理解,在由所附權(quán)利要求劃定的本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)本發(fā)明的具體實(shí)施例可以進(jìn)行多種修改。
權(quán)利要求
1.一種用于黑色矩陣的黑色糊組合物,包括大約5到25重量份的耐熱黑色顏料;大約5到20重量份的玻璃粉;大約25至30重量份的粘合劑;大約5到15重量份的光聚合單體;大約1到10重量份的光聚合引發(fā)劑;以及大約20至35重量份的溶劑。
2.如權(quán)利要求1所述的組合物,其中該耐熱黑色顏料是MnCo2O4。
3.如權(quán)利要求1的組合物,其中該玻璃粉耐熱黑色顏料的含量比在大約1∶0.5和大約1∶3之間的范圍內(nèi)。
4.如權(quán)利要求1所述的組合物,其中該玻璃粉是從由氧化鉛、氧化鉍、氧化鋰或氧化鋅構(gòu)成的組中選擇的作為主要成分的至少一種。
5.如權(quán)利要求1所述的組合物,其中該粘合劑是丙烯酸粘合劑。
6.一種等離子顯示面板的上板,包括上基片;設(shè)置在上基片的預(yù)定位置上的透明電極;設(shè)置在透明電極的預(yù)定位置上的總線電極;以及設(shè)置在透明電極和總線電極之間的黑色矩陣,其中,該黑色矩陣包括耐熱黑色顏料;以及玻璃粉,其中該玻璃粉該耐熱黑色顏料的含量比在大約1∶0.5和大約1∶3之間的范圍內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的上板,其中該耐熱黑色顏料是MnCo2O4。
8.如權(quán)利要求6所述的上板,其中該玻璃粉是從由氧化鉛、氧化鉍、氧化鋰或氧化鋅構(gòu)成的組中選擇的作為主要成分的至少一種。
9.如權(quán)利要求6所述的上板,進(jìn)一步包括設(shè)置在總線電極上的上介質(zhì)層;以及設(shè)置在該上介質(zhì)層上以保護(hù)上介質(zhì)層的保護(hù)層。
10.一種制造等離子顯示面板的上板的方法,包括將黑色糊組合物施加在其上形成了透明電極的基片上;將該黑色糊組合物的特定區(qū)域曝光以形成第一黑色矩陣;將電極材料施加于該黑色糊組合物上;干化該電極材料;使該黑色糊組合物和電極材料的特定區(qū)域曝光,以形成第二黑色矩陣和總線電極;顯影該黑色糊組合物和電極材料;以及通過(guò)燒結(jié)該黑色糊組合物和電極材料形成總線電極以及第一和第二黑色矩陣,其中,該黑色糊組合物包括大約5到25重量份的耐熱黑色顏料;大約5到20重量份的玻璃粉;大約25到30重量份的粘合劑;大約5到15重量份的光聚合單體;大約1到10重量份的光聚合引發(fā)劑;以及大約20至35重量份的溶劑。
11.如權(quán)利要求10所述的方法,其中該耐熱黑色顏料是MnCo2O4。
12.如權(quán)利要求10所述的方法,其中該玻璃粉∶耐熱黑色顏料的含量比在大約1∶0.5和大約1∶3之間的范圍內(nèi)。
13.如權(quán)利要求10所述的方法,其中該玻璃粉是從由氧化鉛、氧化鉍、氧化鋰或氧化鋅構(gòu)成的組中選擇的作為主要成分的至少一種。
14.如權(quán)利要求10所述的方法,進(jìn)一步包括通過(guò)將用于上介質(zhì)層的材料施加到其上形成了總線電極、第一和第二黑色矩陣的基片上來(lái)形成上介質(zhì)層;以及通過(guò)將MgO施加到該上介質(zhì)層上來(lái)形成保護(hù)層。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種黑色糊組合物以及使用其的等離子顯示面板的上板。等離子顯示面板的上板包括上基片;設(shè)置在上基片的預(yù)定位置上的透明電極;設(shè)置在透明電極的預(yù)定位置上的總線電極;和設(shè)置在透明電極和總線電極之間的黑色矩陣。黑色糊組合物包括大約5到25重量份的耐熱黑色顏料;大約5到20重量份的玻璃粉;大約25至30重量份的粘合劑;大約5到15重量份的光聚合單體;大約1到10重量份的光聚合引發(fā)劑;和大約20至35重量份的溶劑。在根據(jù)本發(fā)明的黑色糊組合物和使用其的等離子顯示面板的上板中,由于黑色矩陣由包含MnCo
文檔編號(hào)H01J11/24GK1916070SQ20061011569
公開日2007年2月21日 申請(qǐng)日期2006年8月17日 優(yōu)先權(quán)日2005年8月17日
發(fā)明者崔鐘亨, 李根秀 申請(qǐng)人:Lg電子株式會(huì)社
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