一種間歇懸浮式厚膠顯影方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備與方法技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯影方法。
【背景技術(shù)】
[0002]顯影分為正膠顯影和負(fù)膠顯影。正膠顯影是將感光部分的光刻膠溶出，留下未感光部分的膠層；負(fù)膠顯影是將未感光部分的光刻膠溶除，留下感光部分的膠膜。顯影的質(zhì)量非常重要。如果顯影不足，就會(huì)使圖形邊緣的陡直度變差，影響光刻質(zhì)量；另一方面，如果產(chǎn)生過(guò)顯影，則光刻膠膜發(fā)生軟化、膨脹，顯影液從襯底表面滲透，發(fā)生鉆溶，使圖形邊緣變壞，甚至引起浮膠現(xiàn)象。對(duì)于膠層較薄的晶片，可以采用傳統(tǒng)手工的方式和全自動(dòng)顯影設(shè)備進(jìn)行顯影。對(duì)于膠層較厚的晶片，顯影時(shí)問(wèn)較長(zhǎng)。如果采用傳統(tǒng)手工方式，顯影效果往往受到操作者經(jīng)驗(yàn)的制約，同時(shí)，很難批量化生產(chǎn)。如果采用薄膠自動(dòng)顯影設(shè)備進(jìn)行顯影，因?yàn)轱@影時(shí)間較長(zhǎng)，顯影液噴灑到晶片上進(jìn)行顯影后，經(jīng)過(guò)漂洗等方法，很難再進(jìn)行回收，這樣勢(shì)必消耗大量的顯影液，造成浪費(fèi)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述問(wèn)題，本發(fā)明旨在提出一種能夠節(jié)約材料的間歇懸浮式厚膠顯影方法。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案在于:
一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，包括以下步驟:
步驟1:機(jī)械手從送片盒取來(lái)曝光后的晶片，經(jīng)校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)校準(zhǔn)后，置于顯影腔體中；步驟2:安裝有顯影液噴頭的擺臂擺動(dòng)至顯影晶片上方，打開(kāi)顯影液噴頭，噴灑少量顯影液后關(guān)閉顯影液噴頭，晶片進(jìn)行顯影；
步驟3:10min后，再次打開(kāi)顯影液噴頭，噴灑新的顯影液，繼續(xù)進(jìn)行顯影；根據(jù)膠層的厚度，上述工藝步驟可重復(fù)若干次，效果更好；
步驟4:顯影結(jié)束后，安裝有漂洗液和去離子水噴頭的擺臂擺動(dòng)至顯影后的晶片上方，對(duì)晶片進(jìn)行清洗；
步驟5:清洗結(jié)束后，承片臺(tái)電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)，將晶片甩干；
步驟6:機(jī)械手將顯影完的晶片從顯影腔體中取出，置于熱板中進(jìn)行堅(jiān)膜；
步驟7:最后，機(jī)械手從熱板中取出，置于收片盒中；單個(gè)晶片的顯影方法結(jié)束；
步驟8:機(jī)械手繼續(xù)從送片盒取片，進(jìn)行下一片的顯影，直至整盒晶片顯影完畢。
[0005]優(yōu)選地，所述的顯影技術(shù)采用雙顯影腔，多層熱板的結(jié)構(gòu)。
[0006]本發(fā)明的技術(shù)效果在于:
本文介紹了一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，采用本顯影方法，對(duì)采用SU.8光刻膠進(jìn)行涂膠，膠層厚度大于30um的晶片進(jìn)行顯影。顯影后的晶片在顯微鏡下觀察，圖形邊緣整齊，沒(méi)有皺膠和膠發(fā)黑，沒(méi)有浮膠，硅片表面無(wú)劃傷。顯影后的晶片進(jìn)行電鍍方法，經(jīng)過(guò)對(duì)電鍍凸點(diǎn)的分析，本顯影方法可獲得很好的顯影效果。
【具體實(shí)施方式】
[0007]一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，包括以下步驟:
步驟1:機(jī)械手從送片盒取來(lái)曝光后的晶片，經(jīng)校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)校準(zhǔn)后，置于顯影腔體中；步驟2:安裝有顯影液噴頭的擺臂擺動(dòng)至顯影晶片上方，打開(kāi)顯影液噴頭，噴灑少量顯影液后關(guān)閉顯影液噴頭，晶片進(jìn)行顯影；
步驟3:10min后，再次打開(kāi)顯影液噴頭，噴灑新的顯影液，繼續(xù)進(jìn)行顯影；根據(jù)膠層的厚度，上述工藝步驟可重復(fù)若干次，效果更好；
步驟4:顯影結(jié)束后，安裝有漂洗液和去離子水噴頭的擺臂擺動(dòng)至顯影后的晶片上方，對(duì)晶片進(jìn)行清洗；
步驟5:清洗結(jié)束后，承片臺(tái)電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)，將晶片甩干；
步驟6:機(jī)械手將顯影完的晶片從顯影腔體中取出，置于熱板中進(jìn)行堅(jiān)膜；
步驟7:最后，機(jī)械手從熱板中取出，置于收片盒中；單個(gè)晶片的顯影方法結(jié)束；
步驟8:機(jī)械手繼續(xù)從送片盒取片，進(jìn)行下一片的顯影，直至整盒晶片顯影完畢。
[0008]其中，顯影技術(shù)采用雙顯影腔，多層熱板的結(jié)構(gòu)。
[0009]利于上述方法對(duì)其進(jìn)行顯影。顯影后的晶片在顯微鏡下觀察，顯影徹底，圖形邊緣整齊，一致性好；同時(shí)，沒(méi)有發(fā)現(xiàn)皺膠和浮膠的現(xiàn)象，說(shuō)明沒(méi)有過(guò)顯影。通過(guò)對(duì)電鍍凸點(diǎn)的觀察，發(fā)現(xiàn)顯影后圖形邊緣的陡直度很好，顯影質(zhì)量較高。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，其特征在于:包括以下步驟: 步驟1:機(jī)械手從送片盒取來(lái)曝光后的晶片，經(jīng)校準(zhǔn)機(jī)構(gòu)校準(zhǔn)后，置于顯影腔體中；步驟2:安裝有顯影液噴頭的擺臂擺動(dòng)至顯影晶片上方，打開(kāi)顯影液噴頭，噴灑少量顯影液后關(guān)閉顯影液噴頭，晶片進(jìn)行顯影； 步驟3:10min后，再次打開(kāi)顯影液噴頭，噴灑新的顯影液，繼續(xù)進(jìn)行顯影；根據(jù)膠層的厚度，上述工藝步驟可重復(fù)若干次，效果更好； 步驟4:顯影結(jié)束后，安裝有漂洗液和去離子水噴頭的擺臂擺動(dòng)至顯影后的晶片上方，對(duì)晶片進(jìn)行清洗； 步驟5:清洗結(jié)束后，承片臺(tái)電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)，將晶片甩干； 步驟6:機(jī)械手將顯影完的晶片從顯影腔體中取出，置于熱板中進(jìn)行堅(jiān)膜； 步驟7:最后，機(jī)械手從熱板中取出，置于收片盒中；單個(gè)晶片的顯影方法結(jié)束； 步驟8:機(jī)械手繼續(xù)從送片盒取片，進(jìn)行下一片的顯影，直至整盒晶片顯影完畢。2.如權(quán)利要求1一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，其特征在于:所述的顯影技術(shù)采用雙顯影腔，多層熱板的結(jié)構(gòu)。
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明涉及電子工業(yè)專(zhuān)用設(shè)備與方法技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種顯影方法。一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，包括以下步驟：1.將晶片置于顯影腔體中；2.對(duì)晶片進(jìn)行顯影；3.重復(fù)顯影；4.清洗；5.甩干；6.堅(jiān)膜；7.將晶片置于收片盒中；8.重復(fù)操作。本發(fā)明介紹了一種間歇懸浮式厚膠顯影方法，采用本顯影方法，對(duì)采用SU.8光刻膠進(jìn)行涂膠，膠層厚度大于30μm的晶片進(jìn)行顯影。顯影后的晶片在顯微鏡下觀察，圖形邊緣整齊，沒(méi)有皺膠和膠發(fā)黑，沒(méi)有浮膠，硅片表面無(wú)劃傷。顯影后的晶片進(jìn)行電鍍方法，經(jīng)過(guò)對(duì)電鍍凸點(diǎn)的分析，本顯影方法可獲得很好的顯影效果。
【IPC分類(lèi)】G03F7/30
【公開(kāi)號(hào)】CN105549344
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410600576
【發(fā)明人】王耀斌
【申請(qǐng)人】陜西盛邁石油有限公司
【公開(kāi)日】2016年5月4日
【申請(qǐng)日】2014年10月31日