濾光器以及光設(shè)備的制造方法
【專利說明】濾光器以及光設(shè)備
[0001]本申請是申請日為2011年8月9日、申請?zhí)枮?01110227662.9、發(fā)明名稱為“濾光器、濾光器的制造方法以及光設(shè)備”的專利申請的分案申請，其全部內(nèi)容結(jié)合于此作為參考。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明涉及濾光器、濾光器的制造方法以及光設(shè)備等。
【背景技術(shù)】
[0003]在專利文獻(xiàn)I中披露了由具有隔著規(guī)定間隙地相對的一對光學(xué)膜的法布里-珀羅標(biāo)準(zhǔn)具濾波器(以下有時(shí)稱為標(biāo)準(zhǔn)具濾波器或僅稱為標(biāo)準(zhǔn)具)構(gòu)成的濾光器。
[0004]專利文獻(xiàn)I所述的標(biāo)準(zhǔn)具濾波器具有保持相互平行的第一基板和第二基板、形成在第一基板上的第一光學(xué)膜(第一反射膜)以及以規(guī)定間隙與第一光學(xué)膜相對的形成在第一基板上的第二光學(xué)膜(第二反射膜)。第一光學(xué)膜和第二光學(xué)膜各自形成反射鏡，通過使光在反射鏡之間多重干涉，從而可以根據(jù)間隙的長度(間隙量)僅使規(guī)定的波長范圍的光透過。并且，通過可變地控制間隙量，可以變換透過的光的波長范圍。
[0005]并且，在專利文獻(xiàn)I記載的標(biāo)準(zhǔn)具濾波器中，第一基板和第二基板的接合使用了含有硅氧烷(S1-O)鍵的接合膜。標(biāo)準(zhǔn)具濾波器的波長分離精度與間隙量的精度有很大關(guān)系。因此，為了提高標(biāo)準(zhǔn)具濾波器的性能，需要高精度地控制第一光學(xué)膜和第二光學(xué)膜之間的間隙長度。
[0006]為了在促進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)具濾波器的小型化的同時(shí)實(shí)現(xiàn)波長分解能力的提高，例如需要通過納米級(jí)高精度地控制第一光學(xué)膜和第二光學(xué)膜之間間隙的技術(shù)。因此，在通過含有硅氧烷鍵的接合膜接合第一基板和第二基板時(shí)，不使各基板傾斜、確保各基板間的平行度是非常重要的。
[0007]但是，為了利用接合膜接合各基板，需要例如通過照射紫外線或氧等離子體處理等使形成在各基板上的接合膜活化，進(jìn)行各基板的位置匹配(對準(zhǔn))，然后進(jìn)行向各基板施加負(fù)荷的處理，在這些工序中，有時(shí)基板可能發(fā)生一些傾斜。
[0008]使基板傾斜的原因可能是例如在各基板上局部形成接合膜時(shí)的對準(zhǔn)偏離(接合膜對準(zhǔn)偏離)或在接合各基板的工序中的基板對準(zhǔn)偏離。并且，接合膜的邊緣部容易傾斜或形成圓度等，這也可能成為基板傾斜的原因。
[0009]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0010]專利文獻(xiàn)
[0011]專利文獻(xiàn)1:日本特開2009-134028號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0012]根據(jù)本發(fā)明的至少一個(gè)方式，例如在通過基板的粘合形成的濾光器上，可以抑制基板的傾斜，確保設(shè)置在各基板上的光學(xué)膜之間的平行度。
[0013](I)本發(fā)明的濾光器的一個(gè)方式是包括:具有支撐部的第一基板；被所述支撐部支撐的第二基板；設(shè)置在所述第一基板上的第一光學(xué)膜；設(shè)置在所述第二基板上、與所述第一光學(xué)膜相對的第二光學(xué)膜；設(shè)置在所述支撐部支撐所述第二基板的支撐面的整個(gè)區(qū)域上的第一接合膜；以及設(shè)置在所述第二基板的被支撐面之中至少與所述支撐面的整個(gè)區(qū)域相對的區(qū)域上的第二接合膜，所述第一基板和所述第二基板通過所述第一接合膜和所述第二接合膜在所述支撐部接合而固定。
[0014]在本方式中，第二基板被第一基板所具有的支撐部支撐。支撐部可以通過加工第一基板本身形成。
[0015]并且，在支撐部上的支撐面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)上設(shè)置了第一接合膜。即，用第一接合膜覆蓋支撐部的支撐面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)，支撐部22的支撐面上的第一接合膜的表面(第二基板側(cè)的面)形成為沒有層差的平坦的面即平坦面。并且，在第二基板的被支撐面中的至少與支撐面的整個(gè)區(qū)域相對的區(qū)域(相對面)上設(shè)置了第二接合膜。
[0016]在此，第二基板的被支撐面例如在設(shè)計(jì)上是預(yù)定被支撐部支撐的面，實(shí)際上可以說成是包括被支撐部支撐的面在內(nèi)的平坦的面。被支撐面例如除了實(shí)際上被支撐部支撐的區(qū)域以外，還可以包括設(shè)置在其附近的位置偏移余量區(qū)域。
[0017]在被支撐面中的至少與支撐面的整個(gè)區(qū)域相對的區(qū)域上設(shè)置了第二接合膜。gp，在第二基板的被支撐面中的從第二基板的厚度方向看的俯視圖中與支撐部的支撐面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)重合的區(qū)域被第二接合膜覆蓋，第二接合膜的表面(第一基板側(cè)的面)形成為無層差的平坦的面即平坦面。
[0018]S卩，在本方式中，在設(shè)置在整個(gè)支撐面上的第一接合膜的平坦的面與與該第一接合膜的平坦的面相對的第二接合膜的平坦的面相接觸的狀態(tài)下，使第一接合膜與第二接合膜接合，從而實(shí)現(xiàn)第一基板和第二基板的固定、即第一基板和第二基板的粘合。在本方式中，由于利用整個(gè)支撐面支撐第二基板的同時(shí)，通過各接合膜的平坦的面之間的接觸在支撐面上穩(wěn)定地支撐第二基板，所以抑制了第二基板相對第一基板傾斜。
[0019]設(shè)置在第一基板上的第一光學(xué)膜與設(shè)置在第二基板上的第二光學(xué)膜之間的間隙需要用納米級(jí)高精度地設(shè)定。為了實(shí)現(xiàn)這樣高精度的間隙控制，重要的是高精度地確保各光學(xué)膜彼此相對的面(相對面)之間的平行度。根據(jù)本方式，保持水平的各基板能夠依然保持其平行度地粘合，從而可以高精度地實(shí)現(xiàn)第一光學(xué)膜和第二光學(xué)膜之間的微小間隙。
[0020](2)在本發(fā)明的濾光器的其他方式中，設(shè)置在上述第一基板上的上述支撐部通過從所述凹部的底面在所述第一基板的厚度方向比所述第一基板的形成有所述凹部的面突出規(guī)定距離的突起部構(gòu)成，在從所述第一基板的厚度方向看的俯視圖中，所述突起部設(shè)置在所述第一光學(xué)膜的周圍，所述支撐部的所述突起部在所述第一光學(xué)膜側(cè)的第一邊緣部及第一側(cè)面以及在與所述第一光學(xué)膜相反側(cè)的第二邊緣部及第二側(cè)面被所述第一接合膜覆至
ΠΠ O
[0021]設(shè)置在支撐部的支撐面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)上的第一接合膜如上所述地具有平坦的面，微觀地看，在支撐部的邊緣(角)附近，容易在第一接合膜上形成傾斜或圓度。假設(shè)在該狀態(tài)下將第二基板放置在支撐部上并向第一接合膜施加負(fù)荷的情況。此時(shí)，由于在支撐部的邊緣(角)附近第一接合膜發(fā)生傾斜等，因此第二基板被牽引向支撐部的外側(cè)(與第一光學(xué)膜相反的一側(cè))或內(nèi)側(cè)(第一光學(xué)膜側(cè))，第二基板有可能發(fā)生微小的傾斜。
[0022]因此，在本方式中，不僅是支撐面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)，在支撐部的邊緣部(角部)以及側(cè)面也采用用第一接合膜覆蓋的結(jié)構(gòu)。即，支撐部由從所述凹部的底面在所述第一基板的厚度方向比所述第一基板的形成有所述凹部的面突出規(guī)定距離的突起部(凸部)構(gòu)成。突起部在第一光學(xué)膜側(cè)具有第一邊緣部和第一側(cè)面，并且在與第一光學(xué)膜相反的一側(cè)具有第二邊緣部和第二側(cè)面。并且，突起部的第一邊緣部和第一側(cè)面以及第二邊緣部和第二側(cè)面都被第一接合膜覆蓋。
[0023]根據(jù)該結(jié)構(gòu)，第一接合膜向支撐部的外側(cè)(與第一光學(xué)膜相反的一側(cè))或內(nèi)側(cè)(第一光學(xué)膜側(cè))突出相當(dāng)于其膜厚的量。即使在邊緣部第一接合膜產(chǎn)生傾斜或圓度，該傾斜或圓度也產(chǎn)生在該突出部分上，因此不影響支撐面上的第一接合膜的表面平坦性。因此可保持支撐面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)上的第一接合膜的表面平坦性。即，在支撐部的邊緣部附近也實(shí)現(xiàn)了各接合膜的平坦的面之間的接觸形成的接合。因此可以進(jìn)一步降低第二基板傾斜的可能性。
[0024](3)在本發(fā)明的濾光器的其他方式中，上述第二接合膜設(shè)置在上述第二基板的上述第一基板側(cè)的表面的整個(gè)區(qū)域上。
[0025]在本方式中，在第二基板的第一基板側(cè)的表面的整個(gè)區(qū)域(整個(gè)面)上設(shè)置了第二接合膜。由于第二接合膜形成在第二基板的整個(gè)面上，從而形成抗位置偏移的結(jié)構(gòu)。在接合第一基板和第二基板時(shí)，即使任一個(gè)基板的位置相對任另一個(gè)基板偏移，在第一接合膜上也肯定存在第二接合膜，該位置偏移不會(huì)成為問題。并且，在第二基板的制造工序中，無需對第二接合膜圖案化，因此還具有可以減少制造時(shí)的負(fù)荷的優(yōu)點(diǎn)。
[0026](4)在本發(fā)明的濾光器的其他方式中，上述第一接合膜設(shè)置在上述第一基板的上述第二基板側(cè)的表面的整個(gè)區(qū)域上。
[0027]在本方式中，第一接合膜形成在第一基板的第二基板側(cè)的表面的整個(gè)面上。因此，可以在構(gòu)成支撐體的突起部的支撐面(上面)上以及突起部的第一邊緣部上、第二邊緣部上、第一側(cè)面上、第二側(cè)面上形成第一接合膜。并且，由于無需第一接合膜的圖案化，因此可以減輕第一基板的制造工序中的負(fù)荷。
[0028](5)在本發(fā)明的濾光器的其他方式中，上述第一接合膜設(shè)置在從上述第一基板的厚度方向看的俯視圖中與上述第一光學(xué)膜不重合的區(qū)域上，上述第二接合膜設(shè)置在從上述第二基板的厚度方向看的俯視圖中與上述第二光學(xué)膜不重合的區(qū)域。
[0029]如果在第一光學(xué)膜的下面具有第一接合膜，則可以料想到由于受到第一接合膜的膜厚不均勻等的影響，第一光學(xué)膜會(huì)稍微傾斜。并且，第一光學(xué)膜下的第一接合膜有可能影響反射鏡的反射特性。在第二光學(xué)膜的下面具有第二接合膜的情況下也一樣。因此，在本方式中，在第一光學(xué)膜的下面不設(shè)置第一接合膜，并且在第二光學(xué)膜的下面不設(shè)置第二接合膜。即，在從各第一基板的厚度方向看的俯視圖中，各接合膜設(shè)置在與各光學(xué)膜不具有重合的區(qū)域上。因此，各接合膜不會(huì)對各光學(xué)膜的平坦度和反射鏡的反射特性造成影響。
[0030](6)在本發(fā)明的濾光器的其他方式中，上述第一接合膜設(shè)置在上述第一光學(xué)膜上，且上述第二接合膜設(shè)置在上述第二光學(xué)膜上。
[0031]在本方式中，以覆蓋第一光學(xué)膜的方式設(shè)置第一接合膜，并且，以覆蓋第二光學(xué)膜的方式設(shè)置第二接合膜。各光學(xué)膜上的各接合膜具有作為保護(hù)各光學(xué)膜的保護(hù)膜(阻隔膜)的功能。例如，在各接合膜之間接合時(shí)，有時(shí)通過臭氧或紫外線照射等進(jìn)行活化處理。此時(shí)，如果各接合膜存在于各光學(xué)膜上，則各接合膜保護(hù)各光學(xué)膜不受臭氧或紫外線的照射。因此，各光學(xué)膜的特性劣化得到抑制。
[0032](7)在本發(fā)明的濾光器制造方法的一個(gè)方式中，所述濾光器包括:具有支撐部的第一基板；被所述支撐部支撐的第二基板；設(shè)置在所述第一基板上的第一光學(xué)膜；設(shè)置在所述第二基板上、與所述第一光學(xué)膜相對的第二光學(xué)膜；設(shè)置在所述支撐部支撐所述第二基板的支撐面的整個(gè)區(qū)域上的第一接合膜；以及設(shè)置在所述第二基板的被支撐面之中至少與所述支撐面的整個(gè)區(qū)域相對的區(qū)域上的第二接合膜，所述第一基板和所述第二基板通過所述第一接合膜和所述第二接合膜在所述支撐部接合而固定，所述濾光器的制造方法包括:形成第一基板的工序，在該工序中，在基板上形成凹部、由從所述凹部的底面在所述第一基板的厚度方向比所述第一基板的形成有所述凹部的面突出規(guī)定距離的突起部構(gòu)成的所述支撐部以及所述第一光學(xué)膜，從而形成第一基板；形成所述第二基板的工序，在該工序中，使基板具有所述被支撐面并在基板上形成所述第二光學(xué)膜，從而形成所述第二基板；形成所述第二接合膜的工序，在該工序中，當(dāng)將所述第一方向上的所述第二基板的最大對準(zhǔn)偏移量設(shè)為α并將所述第一方向上的所述第一基板的最大對準(zhǔn)偏移量也設(shè)為α?xí)r，以在所述第二基板的所述被支撐面的正的所述第一方向側(cè)設(shè)定2 α以上的第一位置偏移余量且在與所述正的第一方向的相反的負(fù)的第一方向側(cè)也設(shè)定2α以上的第二位置偏移余量的方式，在所述被支撐面的與所述支撐面的整個(gè)區(qū)域相對的區(qū)域上以及通過所述第一位置偏移余量和所述第二位置偏移余量確定的位置偏移余量區(qū)域上形成所述第二接合膜，其中，所述第一方向上的所述第二基板的最大對準(zhǔn)偏移量α包括所述第二接合膜在所述第一方向上的圖案對準(zhǔn)偏移量和所述第二基板相對于所述第一基板在所述第一方向上的基板對準(zhǔn)偏移量；形成所述第一接合膜的工序，在該工序中，在設(shè)置于所述第一基板上的所述支撐體的所述支撐面的整個(gè)區(qū)域上形成所述第一接合膜；活化所述第一接合膜的工序；活化所述第二接合膜的工序；以