光阻脫除劑和電子元件及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明是有關(guān)于一種光阻脫除劑，且特別是有關(guān)于一種含有仲或叔醇胺、含有極 性溶劑更含有醇醚類(lèi)化合物的光阻脫除劑。
[0002] 先前技術(shù)
[0003] -般來(lái)說(shuō)，半導(dǎo)體積體電路的制程基本上是通過(guò)以下步驟進(jìn)行：在基板上形成材 料層；將光阻涂布在該材料層上；選擇性地對(duì)光阻進(jìn)行曝光及顯影，以形成圖案；以光阻圖 案作為遮罩，對(duì)該材料層進(jìn)行蝕刻，進(jìn)而將微電路圖案轉(zhuǎn)移至光阻下層；最后，使用光阻剝 除劑，將不必要的光阻層移除。
[0004] 對(duì)光阻剝除劑來(lái)說(shuō)，其高剝除能力和低腐蝕性是兩樣基本的要求。高剝除能力確 保在沖洗之后沒(méi)有光阻材料殘留在基板上；而低腐蝕性則是避免光阻下層的金屬或介電材 料受損。此外，光阻剝除劑還可能額外要求高溫穩(wěn)定性、低揮發(fā)性、儲(chǔ)存穩(wěn)定性、低毒性等特 性。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005] 本發(fā)明提供一種光阻脫除劑，可以在去除光阻的同時(shí)對(duì)光阻下層材料保持良好抗 腐蝕效果。本發(fā)明另外提供使用此種光阻脫除劑移除基板上的光阻的電子元件的制造方 法，以及由此制造方法制作的電子元件。
[0006] 本發(fā)明的光阻脫除劑包括由式1表示的醇醚類(lèi)化合物、選自式2表示的化合物、式 3表示的化合物及其混合物的極性溶劑以及由式4表示的至少一種仲醇胺或至少一種叔醇
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種光阻脫除劑，包括： 醇醚類(lèi)化合物，由式1表示； 極性溶劑，選自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物；以及 至少一種仲醇胺或至少一種叔醇胺，由式4表示； 其中
η為1~3的整數(shù)， R1為C1-C4烷基， R2各自獨(dú)立為氫或甲基， X1和X2分別為C1-C4亞烷基X2-C 4亞烯基、>Rx-COOH或>RyOH，其中Rx為C 1-C3連結(jié)基， Ry為C1-C4連結(jié)基， R3為H、C1-C4烷基或-RzOH,其中R z為C1-C4連結(jié)基， R4和R5分別為C1-C4亞烷基，且Y 1和Y2分別為H或-OH，且R3J1和Y2中的至少一者含 有-OH。
2. 如權(quán)利要求1所述的光阻脫除劑，其中水的含量小于10重量％。
3. 如權(quán)利要求1所述的光阻脫除劑，其包括該叔醇胺、該醇醚類(lèi)化合物和該極性溶劑， 且該光阻脫除劑中水的含量小于10重量％。
4. 如權(quán)利要求1所述的光阻脫除劑，其中以該光阻脫除劑的總量計(jì)，該仲醇胺或該叔 醇胺占1重量％~20重量％，該醇醚類(lèi)化合物占25重量％~50重量％，該極性溶劑占30 重量％~70重量％。
5. 如權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的光阻脫除劑，其中該極性溶劑為碳酸丙烯酯、丙二 醇或其混合物。
6. 如權(quán)利要求1所述的光阻脫除劑，其中該仲醇胺為N-甲基乙醇胺、N-乙基乙醇胺或 其混合物。
7. 如權(quán)利要求1所述的光阻脫除劑，其中該叔醇胺為三乙醇胺、二甲基乙醇胺或 1-(2-羥乙基）哌嗪或其混合物。
8. 如權(quán)利要求1所述的光阻脫除劑，其中該醇醚類(lèi)化合物為二乙二醇丁醚或二丙二醇 甲醚。
9. 一種電子元件的制造方法，包括使用權(quán)利要求1的光阻脫除劑移除形成在基板上的 光阻，其中該基板上形成有包括鋁、銅、鑰或含銦氧化物的結(jié)構(gòu)。
10. -種電子元件，由權(quán)利要求9所述的電子元件的制造方法制成。
【專(zhuān)利摘要】一種光阻脫除劑，包括由式1表示的醇醚類(lèi)化合物、選自式2表示的化合物、式3表示的化合物及其混合物的極性溶劑以及至少一種由式4表示的仲醇胺或叔醇胺，其中n為1～3的整數(shù)；R1為C1-C4烷基；R2各自獨(dú)立為氫或甲基；X1和X2可分別為C1-C4亞烷基、C2-C4亞烯基、>Rx-COOH或>RyOH，其中Rx為C1-C3連結(jié)基，Ry為C1-C4連結(jié)基；R3為H、C1-C4烷基或-RzOH，其中Rz為C1-C4連結(jié)基；R4和R5分別為C1-C4亞烷基，且Y1和Y2可分別為H或-OH，且R3、Y1和Y2中的至少一者含有-OH。
【IPC分類(lèi)】G03F7-42
【公開(kāi)號(hào)】CN104656381
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410625929
【發(fā)明人】朱翊禎, 盧厚德
【申請(qǐng)人】達(dá)興材料股份有限公司
【公開(kāi)日】2015年5月27日
【申請(qǐng)日】2014年11月7日