專利名稱：一種液晶分子的排列方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于制作液晶顯示器件領(lǐng)域，可用于各種液晶器件，如AM-LCD(有源矩陣液晶顯示器)、TN-LCD(扭曲向列相液晶顯示器)、STN-LCD(超扭曲向列相液晶顯示器)、GH-LCD(賓主效應(yīng)液晶顯示器)、ECB-LCD(電控雙折射效應(yīng)液晶顯示器)等。
目前，在各種模式的液晶顯示器件中，大多需要對(duì)液晶分子作取向處理。液晶分子的排列控制不僅對(duì)于液晶物性的研究，而且在液晶顯示元件的構(gòu)成上也是一種必需的技術(shù)(參見《液晶器件手冊(cè)》，P247-265，黃錫珉等譯，航空工業(yè)出版社)。液晶分子取向處理的方法有很多，當(dāng)前使用的主要有兩種，一是傾斜蒸鍍SiO2、MgF等無機(jī)膜使液晶分子取向；二是摩擦高分子有機(jī)膜層使液晶分子在上面定向排列(參見《液晶の基礎(chǔ)と應(yīng)用》，P69-77(1991)，松本正一、角田市良著，日本株式會(huì)社工業(yè)調(diào)查會(huì))。這兩種方法都有許多自身的無法克服的缺點(diǎn)1.蒸鍍SiO2、MgF等無機(jī)取向膜，受設(shè)備條件限制，蒸鍍面積較小，成本高，難以實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)。
2.傾斜蒸鍍和摩擦工藝產(chǎn)生的表面溝槽不易控制，難以得到精良的取向質(zhì)量。
3.摩擦有機(jī)膜方法易產(chǎn)生機(jī)械劃傷，影響顯示質(zhì)量。
4.摩擦有機(jī)膜方法易產(chǎn)生灰塵和靜電等許多不利因素，對(duì)TFT-LCD器件質(zhì)量影響尤其嚴(yán)重。
本發(fā)明的目的是提供一種液晶分子的排列方法，可避免上述缺點(diǎn)。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明在形成電極的ITO玻璃表面上均勻涂敷一層聚酰亞胺薄膜，以激光器作為刻蝕光源，用雙平面反射鏡干涉裝置，在聚酰亞胺薄膜上刻蝕出規(guī)整溝槽，使液晶分子定向排列。
由公式ΔL＝λ/2sinθ(ΔL為溝槽寬度，λ為光波長(zhǎng)，θ為鏡面夾角)改變激光器功率可控制溝槽的深淺，以確定預(yù)傾角度。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于1.可以很好地控制液晶分子的取向效果。
2.工藝過程中不接觸取向?qū)?，有效地防止了機(jī)械損傷。
3.工藝過程中不產(chǎn)生靜電和灰塵，有利于提高器件的顯示質(zhì)量，特別適合于TFT-LCD。
4.可實(shí)現(xiàn)0°-20°的預(yù)傾角，適合批量生產(chǎn)。
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作詳細(xì)描述。
圖1是本發(fā)明的示意圖。
圖中(1)-激光器；(2)，(3)-反射鏡；(4)-聚酰亞胺薄膜；(5)-玻璃基片。
實(shí)施例1、TN-LCD將聚酰亞胺溶液涂敷在已有圖形的ITO玻璃基片(5)上，200℃烘烤一小時(shí)成聚酰亞胺薄膜(4)，以20W氬離子激光器(1)為刻蝕光源進(jìn)行刻蝕，成盒后得到預(yù)傾角為3°的正性TN液晶顯示器件。
實(shí)施例2、STN-LCD以40W氬離子激光器為刻蝕光源進(jìn)行刻蝕，其余條件同實(shí)施例1，成盒后得到預(yù)傾角為15°的STN液晶顯示器件。
實(shí)施例3、TFT-LCD在有源矩陣的ITO玻璃基片上制備取向?qū)?，取向處理，其余條件同實(shí)施例1，成盒后得到TFT-LCD顯示器件。
權(quán)利要求
1.一種液晶分子的排列方法，其特征是在形成電極的ITO玻璃表面上均勻涂敷一層聚酰亞胺薄膜，以激光器作為刻蝕光源，用雙平面反射鏡干涉裝置，在聚酰亞胺薄膜上刻蝕出規(guī)整溝槽，使液晶分子定向排列。
全文摘要
本發(fā)明屬于制作液晶顯示器件領(lǐng)域，在形成電極的ITO玻璃表面上均勻涂敷一層聚酰亞胺薄膜，以激光器作為刻蝕光源，用雙平面反射鏡干涉裝置，在聚酰亞胺薄膜上刻蝕出規(guī)整溝槽，使液晶分子定向排列。可用于各種液晶顯示器件，如AM-LCD(有源矩陣液晶顯示器)、TN-LCD(扭曲向列相液晶顯示器)、STN-LCD(超扭曲向列相液晶顯示器)、GH-LCD(賓主效應(yīng)液晶顯示器)、ECB-LCD(電控雙折射效應(yīng)液晶顯示器)等。
文檔編號(hào)G02F1/13GK1144911SQ9510682
公開日1997年3月12日 申請(qǐng)日期1995年6月6日 優(yōu)先權(quán)日1995年6月6日
發(fā)明者荊海, 黃錫珉, 馬凱, 馬仁祥, 朱希玲, 馬振軍, 于濤, 郭建新, 吳聲 申請(qǐng)人:中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春物理研究所