本發(fā)明實施例涉及半導體制造領域，尤其涉及一種光學鄰近修正方法及系統(tǒng)、掩膜版、設備及存儲介質。

背景技術：

1、在現(xiàn)有的技術中，半導體都要經(jīng)過光刻流程，光刻流程就是光線通過掩膜對抗蝕劑進行曝光，掩膜上的圖案被轉移而形成抗蝕圖案的過程。如果掩膜圖案的尺寸非常小，掩膜圖案的尺寸會接近形成抗蝕圖案的光線的波長，從而產(chǎn)生光學臨近效應(opticalproximity?effect，ope)，掩膜上的圖案就會在轉移時變形，而且掩膜圖案上相鄰圖案區(qū)域的光刻質量受光學臨近效應的影響越來越大。

2、一般光學臨近效應的消除方法采用光學臨近修正(optical?proximitycorrections，opc)，光學臨近修正對半導體某一特定層形成修正圖案進行修正?，F(xiàn)在半導體設計中引入了臨界尺寸(critical?dimension，cd)，會限制光刻時的焦深(depth?offocus，dof)，開始影響光刻過程。

技術實現(xiàn)思路

1、本發(fā)明實施例解決的問題是提供一種光學鄰近修正方法及系統(tǒng)、掩膜版、設備及存儲介質，提高光學鄰近修正的修正精度。

2、為解決上述問題，本發(fā)明實施例提供一種光學鄰近修正方法，包括：提供當層版圖層的第一目標圖形和前層版圖層的第二目標圖形，第二目標圖形在當層版圖層中的投影與第一目標圖形具有重疊部分；根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，派生圖形位于虛擬版圖層中；結合第一目標圖形和派生圖形，對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理。

3、可選的，根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，包括：將第二目標圖形投影于當層版圖層中；根據(jù)第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與第一目標圖形，得到派生圖形。

4、可選的，當層版圖層中還包括位于第一目標圖形的邊界且與第一目標圖形相接觸的邊界圖形；根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，還包括：根據(jù)第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與第一目標圖形，得到派生圖形之前，根據(jù)邊界圖形的尺寸，對第二目標圖形在當層版圖層中的投影進行擴大處理，獲取擴大后的投影作為投影圖形。

5、可選的，根據(jù)第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與第一目標圖形，得到派生圖形，包括：獲取第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與第一目標圖形的交集，作為初始派生圖形；或者，根據(jù)特定位置將第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形拆分為不同種類的特征部分；獲取第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與第一目標圖形的交集，作為初始派生圖形；對初始派生圖形進行拆分，將同一種類的特征部分作為派生圖形。

6、可選的，特定位置包括沿水平方向延伸的邊緣、沿垂直方向延伸的邊緣、拐角和頂面中的多種。

7、可選的，采用and布爾運算獲取第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與第一目標圖形的交集。

8、可選的，結合第一目標圖形和派生圖形對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理，包括：結合第一目標圖形和派生圖形獲取第一目標圖形對應的模擬曝光圖形以及對應的修正后圖形；結合第一目標圖形和派生圖形對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理后，修正方法還包括：判斷模擬曝光圖形是否符合修正需求；當模擬曝光圖形不符合修正需求時，以修正后圖形作為第一目標圖形返回執(zhí)行根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形獲取派生圖形；當模擬曝光圖形符合修正需求時，完成光學鄰近修正處理。

9、可選的，通過判斷模擬曝光圖形的邊緣放置誤差是否達到修正標準，判斷模擬曝光圖形是否符合修正需求，當模擬曝光圖形的邊緣放置誤差達到修正標準時，判斷模擬曝光圖形符合修正需求；當模擬曝光圖形的邊緣放置誤差未達到修正標準時，判斷模擬曝光圖形不符合修正需求。

10、可選的，結合第一目標圖形和派生圖形，獲取第一目標圖形對應的模擬曝光圖形，包括：獲取第一目標圖形的第一空間像；獲取派生圖形的第二空間像；將第一空間像和第二空間像疊加，獲取目標空間像；根據(jù)目標空間像，獲取對應的模擬曝光圖形。

11、可選的，采用光學模型獲取第一目標圖形的第一空間像；采用光學模型獲取派生圖形的第二空間像；采用光阻模型根據(jù)目標空間像獲取對應的模擬曝光圖形。

12、可選的，當層版圖層具有第一掩膜版參數(shù)；根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，還包括：設置派生圖形對應的虛擬版圖層的第二掩膜版參數(shù)；獲取第一目標圖形的第一空間像中，根據(jù)第一掩膜版參數(shù)獲取第一空間像；獲取派生圖形的第二空間像中，根據(jù)第二掩膜版參數(shù)獲取第二空間像。

13、可選的，第一掩膜版參數(shù)和第二掩膜版參數(shù)均包括：傳輸率、掩膜偏差和角切中的一種或多種。

14、可選的，提供前層版圖層的第二目標圖形中，第二目標圖形為柵極圖形。

15、相應的，本發(fā)明實施例還提供一種光學鄰近修正系統(tǒng)，包括：圖形提供單元，用于提供當層版圖層的第一目標圖形和前層版圖層的第二目標圖形，第二目標圖形在當層版圖層中的投影與第一目標圖形具有重疊部分；派生圖形獲取單元，用于根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，派生圖形位于虛擬版圖層中；光學鄰近修正單元，用于結合第一目標圖形和派生圖形，對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理。

16、相應的，本發(fā)明實施例還提供一種掩膜版，包括利用本發(fā)明實施例提供的光學鄰近修正方法獲得的圖形。

17、相應的，本發(fā)明實施例還提供一種設備，包括至少一個存儲器和至少一個處理器，所述存儲器存儲有一條或多條計算機指令，其中，所述一條或多條計算機指令被所述處理器執(zhí)行以實現(xiàn)本發(fā)明實施例提供的光學鄰近修正方法。

18、相應的，本發(fā)明實施例還提供一種存儲介質，所述存儲介質存儲有一條或多條計算機指令，所述一條或多條計算機指令用于實現(xiàn)本發(fā)明實施例提供的光學鄰近修正方法。

19、與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明實施例的技術方案具有以下優(yōu)點：

20、本發(fā)明實施例提供的光學鄰近修正方法中，提供當層版圖層的第一目標圖形和前層版圖層的第二目標圖形，第二目標圖形在當層版圖層中的投影與第一目標圖形具有重疊部分，根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，派生圖形位于虛擬版圖層中，結合第一目標圖形和派生圖形，對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理；第二目標圖形在當層版圖層中的投影與第一目標圖形具有重疊部分，則第一目標圖形的曝光尺寸會受到第二目標圖形的影響，因此，根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形獲取派生圖形，并結合第一目標圖形和派生圖形對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理，能夠將第二目標圖形對第一目標圖形的影響考慮在內，有利于對第一目標圖形進行更為精準的光學鄰近修正處理，提高光學鄰近修正方法的修正精度。

技術特征：

1.一種光學鄰近修正方法，其特征在于，包括：

2.如權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，根據(jù)所述第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，包括：

3.如權利要求2所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述當層版圖層中還包括位于所述第一目標圖形的邊界且與所述第一目標圖形相接觸的邊界圖形；

4.如權利要求2所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，根據(jù)所述第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與所述第一目標圖形，得到所述派生圖形，包括：

5.如權利要求4所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述特定位置包括沿水平方向延伸的邊緣、沿垂直方向延伸的邊緣、拐角和頂面中的多種。

6.如權利要求4所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，采用and布爾運算獲取所述第二目標圖形在當層版圖層中的投影圖形與所述第一目標圖形的交集。

7.如權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，結合所述第一目標圖形和派生圖形對所述第一目標圖形進行光學鄰近修正處理，包括：結合所述第一目標圖形和派生圖形獲取所述第一目標圖形對應的模擬曝光圖形以及對應的修正后圖形；

8.如權利要求7所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，通過判斷所述模擬曝光圖形的邊緣放置誤差是否達到修正標準，判斷所述模擬曝光圖形是否符合修正需求，當所述模擬曝光圖形的邊緣放置誤差達到修正標準時，判斷所述模擬曝光圖形符合修正需求；當所述模擬曝光圖形的邊緣放置誤差未達到修正標準時，判斷所述模擬曝光圖形不符合修正需求。

9.如權利要求7所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，結合所述第一目標圖形和派生圖形，獲取所述第一目標圖形對應的模擬曝光圖形，包括：獲取所述第一目標圖形的第一空間像；

10.如權利要求9所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，采用光學模型獲取所述第一目標圖形的第一空間像；

11.如權利要求9所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述當層版圖層具有第一掩膜版參數(shù)；

12.如權利要求11所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，所述第一掩膜版參數(shù)和第二掩膜版參數(shù)均包括：傳輸率、掩膜偏差和角切中的一種或多種。

13.如權利要求1所述的光學鄰近修正方法，其特征在于，提供前層版圖層的第二目標圖形中，所述第二目標圖形為柵極圖形。

14.一種光學鄰近修正系統(tǒng)，其特征在于，包括：

15.一種掩膜版，其特征在于，包括：利用如權利要求1-13任一項所述的光學鄰近修正方法獲得的圖形。

16.一種設備，其特征在于，包括至少一個存儲器和至少一個處理器，所述存儲器存儲有一條或多條計算機指令，其中，所述一條或多條計算機指令被所述處理器執(zhí)行以實現(xiàn)如權利要求1-13任一項所述的光學鄰近修正方法。

17.一種存儲介質，其特征在于，所述存儲介質存儲有一條或多條計算機指令，所述一條或多條計算機指令用于實現(xiàn)如權利要求1-13任一項所述的光學鄰近修正方法。

技術總結
一種光學鄰近修正方法及系統(tǒng)、掩膜版、設備及存儲介質，光學鄰近修正方法包括：提供當層版圖層的第一目標圖形和前層版圖層的第二目標圖形，第二目標圖形在當層版圖層中的投影與第一目標圖形具有重疊部分；根據(jù)第一目標圖形和第二目標圖形，獲取派生圖形，派生圖形位于虛擬版圖層中；結合第一目標圖形和派生圖形，對第一目標圖形進行光學鄰近修正處理。本發(fā)明有利于對第一目標圖形進行更為精準的光學鄰近修正處理，提高光學鄰近修正方法的修正精度。

技術研發(fā)人員：徐軒岳,陳蓓,胡月
受保護的技術使用者：中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/2