本發(fā)明屬于光刻膠領(lǐng)域，具體涉及一種耐刻蝕性的酚醛系正型光刻膠。

背景技術(shù)：

光刻膠是微電子技術(shù)發(fā)展最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料，又稱光致抗蝕劑，是通過紫外光、電子束、離子束、準(zhǔn)分子激光束、X射線等曝光源的照射或輻射，使其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻的薄膜材料。光刻膠膜經(jīng)過曝光顯影形成光刻圖形后，會進(jìn)行干法或濕法刻蝕。沒有膠膜覆蓋的部分襯底材料被直接刻蝕，而有膠膜覆蓋的襯底表面則受光刻膠膜保護(hù)而免被刻蝕。耐蝕刻性能是光刻膠非常重要的評價指標(biāo)，優(yōu)良的耐刻蝕性可以保障刻蝕工藝中光刻膠能保護(hù)襯底表面不受損壞，并有效的簡化刻蝕工藝，大大提高刻蝕成品良率。

酚醛系正型光刻膠因其具有感光度高、產(chǎn)出率高、工藝寬容度高、去膠容易等顯著優(yōu)點，廣泛應(yīng)用于MEMS、LED、IC、LCD等光刻制程中。但現(xiàn)有酚醛系正型光刻膠在耐刻蝕性能方面的表現(xiàn)非常一般，在深度刻蝕工藝中通常采用加大光刻膠膜厚以及提高刻蝕前的光刻膠堅膜溫度以期提高其耐刻蝕性，但效果并不理想，且高溫對光刻膠的耐溫性要求也更高。另有報道的采用在光刻膠圖案與被蝕刻的襯底之間涂布一層具有高抗蝕刻性的無機或有機層，也即“抗蝕劑下層”或“硬掩膜”，以達(dá)到耐刻蝕目的的，如CN103906740A、CN105612459A，但該方案的不足在于二層膜或多層膜工藝操作復(fù)雜，效率低，制作成本高，國內(nèi)在常規(guī)干法刻蝕工藝中基本沒有使用的。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是克服現(xiàn)有的缺陷，提供了一種高耐刻蝕性的酚醛體系正型光刻膠，在深度刻蝕中避免了多層膜工藝，且有效的降低了光刻膠膜厚、增大了堅膜溫度的工藝寬容度，使工藝流程更為簡單。

為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供了如下的技術(shù)方案：

一種耐刻蝕性的酚醛系正型光刻膠，主要成分為酚醛樹脂、光敏化合物和溶劑，其特點在于，所述酚醛系正型光刻膠中含0.5～30 wt%的可溶于所述溶劑的金屬化合物。優(yōu)選地，所述酚醛系正型光刻膠中含1～20 wt%的可溶于所述溶劑的金屬化合物。更優(yōu)選地，所述酚醛系正型光刻膠中含2～10 wt%的可溶于所述溶劑的金屬化合物。

優(yōu)選地，所述金屬化合物是由選自包括鎂、鈣、鋇、鈦、鋯、鉿、釩、鉻、鉬、鎢、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鎘、銦、錫、銻中的至少一種與選自包括烷基、烯基、烷氧基、酰氧基、β-二酮類配體、C≡O(shè)、鹵素、硝基、硝酸根中的至少一種所形成的配合物或鹽。

所述的烷基可以是直鏈、具有支鏈或環(huán)狀的碳數(shù)1～10的烷基，例如：甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、1-甲基-正丁基、2-甲基-正丁基、3-甲基-正丁基、1,1-二甲基-正丙基、1,2-二甲基-正丙基、2,2-二甲基-正丙基、1-乙基-正丙基、正己基、1-甲基-正戊基、2-甲基-正戊基、3-甲基-正戊基、4-甲基-正戊基、1,1-二甲基-正丁基、1,2-二甲基-正丁基、1,3-二甲基-正丁基、2,2-二甲基-正丁基、2,3-二甲基-正丁基、3,3-二甲基-正丁基、1-乙基-正丁基、2-乙基-正丁基、1,1,2-三甲基-正丙基、1,2,2-三甲基-正丙基、1-乙基-1-甲基-正丙基及1-乙基-2-甲基-正丙基、環(huán)丙基、環(huán)丁基、1-甲基-環(huán)丙基、2-甲基-環(huán)丙基、環(huán)戊基、1-甲基-環(huán)丁基、2-甲基-環(huán)丁基、3-甲基-環(huán)丁基、1,2-二甲基-環(huán)丙基、2,3-二甲基-環(huán)丙基、1-乙基-環(huán)丙基、2-乙基-環(huán)丙基、環(huán)己基、1-甲基-環(huán)戊基、2-甲基-環(huán)戊基、3-甲基-環(huán)戊基、1-乙基-環(huán)丁基、2-乙基-環(huán)丁基、3-乙基-環(huán)丁基、1,2-二甲基-環(huán)丁基、1,3-二甲基-環(huán)丁基、2,2-二甲基-環(huán)丁基、2,3-二甲基-環(huán)丁基、2,4-二甲基-環(huán)丁基、3,3-二甲基-環(huán)丁基、1-正丙基-環(huán)丙基、2-正丙基-環(huán)丙基、1-異丙基-環(huán)丙基、2-異丙基-環(huán)丙基、1,2,2-三甲基-環(huán)丙基、1,2,3-三甲基-環(huán)丙基、2,2,3-三甲基-環(huán)丙基、1-乙基-2-甲基-環(huán)丙基、2-乙基-1-甲基-環(huán)丙基、2-乙基-2-甲基-環(huán)丙基及2-乙基-3-甲基-環(huán)丙基等。

所述的烯基可以是直鏈、具有支鏈或環(huán)狀的碳數(shù)2～10的烯基，例如：乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-甲基-1-乙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、2-甲基-1-丙烯基、2-甲基-2-丙烯基、1-乙基乙烯基、1-甲基-1-丙烯基、1-甲基-2-丙烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、1-正丙基乙烯基、1-甲基-1-丁烯基、1-甲基-2-丁烯基、1-甲基-3-丁烯基、2-乙基-2-丙烯基、2-甲基-1-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、2-甲基-3-丁烯基、3-甲基-1-丁烯基、3-甲基-2-丁烯基、3-甲基-3-丁烯基、1,1-二甲基-2-丙烯基、1-異丙基乙烯基、1,2-二甲基-1-丙烯基、1,2-二甲基-2-丙烯基、1-環(huán)戊烯基、2-環(huán)戊烯基、3-環(huán)戊烯基、1-己烯基、2-己烯基、3-己烯基、4-己烯基、5-己烯基、1-甲基-1-戊烯基、1-甲基-2-戊烯基、1-甲基-3-戊烯基、1-甲基-4-戊烯基、1-正丁基乙烯基、2-甲基-1-戊烯基、2-甲基-2-戊烯基、2-甲基-3-戊烯基、2-甲基-4-戊烯基、2-正丙基-2-丙烯基、3-甲基-1-戊烯基、3-甲基-2-戊烯基、3-甲基-3-戊烯基、3-甲基-4-戊烯基、3-乙基-3-丁烯基、4-甲基-1-戊烯基、4-甲基-2-戊烯基、4-甲基-3-戊烯基、4-甲基-4-戊烯基、1,1-二甲基-2-丁烯基、1,1-二甲基-3-丁烯基、1,2-二甲基-1-丁烯基、1,2-二甲基-2-丁烯基、1,2-二甲基-3-丁烯基、1-甲基-2-乙基-2-丙烯基、1-s-丁基乙烯基、1,3-二甲基-1-丁烯基、1,3-二甲基-2-丁烯基、1,3-二甲基-3-丁烯基、1-異丁基乙烯基、2,2-二甲基-3-丁烯基、2,3-二甲基-1-丁烯基、2,3-二甲基-2-丁烯基、2,3-二甲基-3-丁烯基、2-異丙基-2-丙烯基、3,3-二甲基-1-丁烯基、1-乙基-1-丁烯基、1-乙基-2-丁烯基、1-乙基-3-丁烯基、1-正丙基-1-丙烯基、1-正丙基-2-丙烯基、2-乙基-1-丁烯基、2-乙基-2-丁烯基、2-乙基-3-丁烯基、1,1,2-三甲基-2-丙烯基、1-叔丁基乙烯基、1-甲基-1-乙基-2-丙烯基、1-乙基-2-甲基-1-丙烯基、1-乙基-2-甲基-2-丙烯基、1-異丙基-1-丙烯基、1-異丙基-2-丙烯基、1-甲基-2-環(huán)戊烯基、1-甲基-3-環(huán)戊烯基、2-甲基-1-環(huán)戊烯基、2-甲基-2-環(huán)戊烯基、2-甲基-3-環(huán)戊烯基、2-甲基-4-環(huán)戊烯基、2-甲基-5-環(huán)戊烯基、2-亞甲基-環(huán)戊基、3-甲基-1-環(huán)戊烯基、3-甲基-2-環(huán)戊烯基、3-甲基-3-環(huán)戊烯基、3-甲基-4-環(huán)戊烯基、3-甲基-5-環(huán)戊烯基、3-亞甲基-環(huán)戊基、1-環(huán)己烯基、2-環(huán)己烯基及3-環(huán)己烯基、1-甲基-2,4-環(huán)戊二烯等。

所述的烷氧基為碳數(shù)1～10的烷氧基，例如：甲氧基、乙氧基、正丙氧基、異丙氧基、正丁氧基、異丁氧基、仲丁氧基、叔丁氧基、正戊氧基、1-甲基-正丁氧基、2-甲基-正丁氧基、3-甲基-正丁氧基、1,1-二甲基-正丙氧基、1,2-二甲基-正丙氧基、2，2-二甲基-正丙氧基、1-乙基-正丙氧基、正己基氧基、1-甲基-正戊氧基、2-甲基-正戊氧基、3-甲基-正戊氧基、4-甲基-正戊氧基、1,1-二甲基-正丁氧基、1,2-二甲基-正丁氧基、1,3-二甲基-正丁氧基、2,2-二甲基-正丁氧基、2,3-二甲基-正丁氧基、3,3-二甲基-正丁氧基、1-乙基-正丁氧基、2-乙基-正丁氧基、1,1,2-三甲基-正丙氧基、1,2,2-三甲基-正丙氧基、1-乙基-1-甲基-正丙氧基及1-乙基-2-甲基-正丙氧基等。

所述的酰氧基為碳數(shù)1～10的?；趸?，例如：甲酰氧基、乙酰氧基、正丙基羰基氧基、異丙基羰基氧基、環(huán)丙基羰基氧基、正丁基羰基氧基、異丁基羰基氧基、s-丁基羰基氧基、叔丁基羰基氧基、環(huán)丁基羰基氧基、1-甲基-環(huán)丙基羰基氧基、2-甲基-環(huán)丙基羰基氧基、正戊基羰基氧基、1-甲基-正丁基羰基氧基、2-甲基-正丁基羰基氧基、3-甲基-正丁基羰基氧基、1,1-二甲基-正丙基羰基氧基、1,2-二甲基-正丙基羰基氧基、2,2-二甲基-正丙基羰基氧基、1-乙基-正丙基羰基氧基、環(huán)戊基羰基氧基、1-甲基-環(huán)丁基羰基氧基、2-甲基-環(huán)丁基羰基氧基、3-甲基-環(huán)丁基羰基氧基、1,2-二甲基-環(huán)丙基羰基氧基、2,3-二甲基-環(huán)丙基羰基氧基、1-乙基-環(huán)丙基羰基氧基、2-乙基-環(huán)丙基羰基氧基、正己基羰基氧基、1-甲基-正戊基羰基氧基、2-甲基-正戊基羰基氧基、3-甲基-正戊基羰基氧基、4-甲基-正戊基羰基氧基、1,1-二甲基-正丁基羰基氧基、1,2-二甲基-正丁基羰基氧基、1,3-二甲基-正丁基羰基氧基、2,2-二甲基-正丁基羰基氧基、2,3-二甲基-正丁基羰基氧基、3,3-二甲基-正丁基羰基氧基、1-乙基-正丁基羰基氧基、2-乙基-正丁基羰基氧基、1,1,2-三甲基-正丙基羰基氧基、1,2,2-三甲基-正丙基羰基氧基、1-乙基-1-甲基-正丙基羰基氧基、1-乙基-2-甲基-正丙基羰基氧基、環(huán)己基羰基氧基、1-甲基-環(huán)戊基羰基氧基、2-甲基-環(huán)戊基羰基氧基、3-甲基-環(huán)戊基羰基氧基、1-乙基-環(huán)丁基羰基氧基、2-乙基-環(huán)丁基羰基氧基、3-乙基-環(huán)丁基羰基氧基、1,2-二甲基-環(huán)丁基羰基氧基、1,3-二甲基-環(huán)丁基羰基氧基、2,2-二甲基-環(huán)丁基羰基氧基、2,3-二甲基-環(huán)丁基羰基氧基、2,4-二甲基-環(huán)丁基羰基氧基、3,3-二甲基-環(huán)丁基羰基氧基、1-正丙基-環(huán)丙基羰基氧基、2-正丙基-環(huán)丙基羰基氧基、1-異丙基-環(huán)丙基羰基氧基、2-異丙基-環(huán)丙基羰基氧基、1,2,2-三甲基-環(huán)丙基羰基氧基、1,2,3-三甲基-環(huán)丙基羰基氧基、2,2,3-三甲基-環(huán)丙基羰基氧基、1-乙基-2-甲基-環(huán)丙基羰基氧基、2-乙基-1-甲基-環(huán)丙基羰基氧基、2-乙基-2-甲基-環(huán)丙基羰基氧基及2-乙基-3-甲基-環(huán)丙基羰基氧基等。

上述的β-二酮類配體具有如下結(jié)構(gòu)式：

，可列舉的如乙酰丙酮、二叔戊酰甲烷、苯甲酰丙酮、二苯甲酰甲烷、4-叔丁基-4‘-甲氧基二苯甲酰甲烷、六氟乙酰丙酮、三氟乙酰丙酮、苯甲酰三氟丙酮、2-噻吩甲酰三氟丙酮、β-萘甲酰三氟丙酮等。

上述的鹵素可列舉的如：氟、氯、溴、碘。

本發(fā)明所述的酚醛樹脂是指由例如苯酚、鄰甲酚、間甲酚、對甲酚、二甲苯酚、三甲基苯酚、叔丁基苯酚、乙基苯酚、2-萘酚、1,3-二羥基萘酚等酚類的一種或二種以上與醛類在酸性或堿性催化劑存在下縮聚而成的樹脂性聚合物。具體地可以采用已知的被用于傳統(tǒng)酚醛系正型光刻膠的酚醛樹脂。

本發(fā)明所述的光敏化合物可以采用已知的被用于傳統(tǒng)酚醛系正型光刻膠的光敏化合物，包括重氮鹽、銨鹽、碘鎓鹽、锍鹽、鏻鹽、鉮鹽、氧鎓鹽、鹵代有機化合物、醌二疊氮化合物、二（磺?；┲氐淄榛衔铩㈨炕衔?、有機酸酯化合物、有機酸酰亞胺化合物中的至少一種。

所述光敏化合物具體可列舉的如下：二苯基碘鎓六氟磷酸酯、二苯基碘鎓三氟甲烷磺酸酯、二苯基碘鎓九氟正丁烷磺酸酯、二苯基碘鎓全氟正辛烷磺酸酯、二苯基碘鎓樟腦磺酸酯、雙(4-叔丁基苯基)碘鎓樟腦磺酸酯及雙(4-叔丁基苯基)碘鎓三氟甲烷磺酸酯、雙(三氟甲基磺酰基)重氮甲烷、雙(環(huán)己基磺?；?重氮甲烷、雙(對甲苯磺?；?重氮甲烷、雙(2,4-二甲基苯基磺?；?重氮甲烷、2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、2,1,5-重氮萘醌磺酸酯、2,3,4-三羥基二苯甲酮、1,2-苯醌二疊氮-4-磺酸、1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸等。

本發(fā)明所用的溶劑可以是能夠溶解本發(fā)明光刻膠組合物以產(chǎn)生均勻溶液的任何溶劑，可以是已用作傳統(tǒng)酚醛系正型光刻膠溶劑中的已知溶劑中的一種或多種溶劑的組合。所述溶劑可列舉如下：二乙基碳酸酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、乙酸甲基環(huán)己基酯、乙酸正壬酯、乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇單乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇苯醚醋酸酯、乙二醇二乙酸酯、丙酸乙酯、丙酸正丁酯、丙酸異戊酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸正丁酯、乳酸正戊酯、丙二酸二乙酯、鄰苯二甲酸二甲酯、鄰苯二甲酸二乙酯、N-甲基甲酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二乙基甲酰胺、乙酰胺、N-甲基乙酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基丙酰胺、N-甲基吡咯烷酮、二甲基硫、二乙基硫、噻吩、四氫噻吩、二甲基亞砜、環(huán)丁砜、1,3-丙烷磺內(nèi)酯、甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、正戊烷、異戊烷、正己烷、異己烷、正庚烷、異庚烷、苯、甲苯、二甲苯、丙酮、甲基乙基酮、乙二醇、丙二醇、乙醚、乙二醇乙醚等。

優(yōu)選地，所述酚醛系正型光刻膠含：

10～70wt%的酚醛樹脂；

0.5～20wt%的光敏化合物；

0.5～30wt%的可溶于所述溶劑的金屬化合物；

10～80wt%的溶劑。

優(yōu)選地，所述酚醛系正型光刻膠還含0.05～10wt%的助粘劑、表面活性劑、阻溶劑、增塑劑和/或防光暈劑。

一種光刻蝕的方法，包括：（1）在基底上涂布酚醛系正型光刻膠，（2）曝光、顯影，（3）刻蝕，其特點在于，在所述酚醛系正型光刻膠中溶解有0.5～30 wt%的金屬化合物。

優(yōu)選地，所述金屬化合物是由選自包括鎂、鈣、鋇、鈦、鋯、鉿、釩、鉻、鉬、鎢、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、鎘、銦、錫、銻中的至少一種與選自包括烷基、烯基、烷氧基、酰氧基、β-二酮類配體、C≡O(shè)、鹵素、硝基、硝酸根中的至少一種所形成的配合物或鹽。

本發(fā)明所述的光刻膠組合物中，金屬化合物完全溶于傳統(tǒng)酚醛系正型光刻膠，在光刻工藝中，光刻膠涂布烘干成膜后，金屬化合物均勻分布于膠膜中，經(jīng)過曝光后顯影，顯影時曝光反應(yīng)部分的金屬化合物與膠膜一起溶解于顯影液中，未曝光反應(yīng)部分的膠膜及金屬化合物一起留存在襯底表面形成光刻圖形。在后續(xù)的干法刻蝕中，等離子體對含有金屬化合物的光刻膠膜進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)雙重作用刻蝕，其中的碳氧成分形成揮發(fā)性反應(yīng)物被去除，而金屬成分則會慢慢沉積下來，并在膠膜表面形成新的保護(hù)層，起到阻礙刻蝕的作用，從而達(dá)到提高光刻膠耐刻蝕的目的。

與現(xiàn)有通過增加光刻膠膜厚和提高堅膜溫度來提高耐刻蝕性，以及采用涂布“抗蝕劑下層”或“硬掩膜”來提高光刻膠耐刻蝕的方法相比，采用本發(fā)明的光刻膠可以省去涂布“抗蝕劑下層”或“硬掩膜”，操作流程更為簡單，優(yōu)異的耐蝕刻性能可以有效的簡化刻蝕工藝，增加成品良率，同時降低光刻膠的使用成本。本發(fā)明所述光刻膠可廣泛應(yīng)用于需要干法刻蝕的微電子元器件生產(chǎn)的領(lǐng)域。

具體實施方式

以下對本發(fā)明的優(yōu)選實施例進(jìn)行說明，應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的優(yōu)選實施例僅用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限定本發(fā)明。

實施例1

將43g線性酚醛樹脂、10g 2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、16g 2-甲基環(huán)戊二烯三羰基錳、1g γ-氨丙基三乙氧基硅烷、100g丙二醇甲醚醋酸酯混合，充分溶解后用0.02微米孔徑的濾膜過濾，即得到光刻膠1。

本實施例中線性酚醛樹脂的結(jié)構(gòu)如下：

其中R為甲基，n=50。

實施例2

將43g線性酚醛樹脂、10g 2,1,5-重氮萘醌磺酸酯、16g丙酸鋯、1g N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、100g丙二醇甲醚醋酸酯混合，充分溶解后用0.02微米孔徑的濾膜過濾，即得到光刻膠2。

本實施例中線性酚醛樹脂的結(jié)構(gòu)如下：

其中，R1為丙基，n=30。

實施例3

將65g線性酚醛樹脂、15g 1,2-苯醌二疊氮-4-磺酸、8g三氟乙酰丙酮鐵（CAS:14526-22-8）、2g γ-氨丙基三乙氧基硅烷、40g苯、80g丙二醇甲醚醋酸酯混合，充分溶解后用0.02微米孔徑的濾膜過濾，即得到光刻膠3。

本實施例中線性酚醛樹脂的結(jié)構(gòu)如下：

其中R為甲基，n=50。

實施例4

將65g線性酚醛樹脂、10g 1,2-萘醌二疊氮-5-磺酸、8g乙酰丙酮鉻(CAS:21679-31-2)、 2g N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、40g乙醇、80g丙二醇甲醚醋酸酯混合，充分溶解后用0.02微米孔徑的濾膜過濾，即得到光刻膠4。

本實施例中線性酚醛樹脂的結(jié)構(gòu)如下：

其中，R1為丙基，n=30。

對比例1

將43g線性酚醛樹脂、10g 2,1,4-重氮萘醌磺酸酯、 1g N-(β-氨乙基)-γ-氨丙基三甲氧基硅烷、100g丙二醇甲醚醋酸酯混合，充分溶解后用0.02微米孔徑的濾膜過濾，即得到對比光刻膠。

本對比例中線性酚醛樹脂的結(jié)構(gòu)如下：

其中，R1為丙基，n=30。

測試：

將光刻膠旋涂在潔凈處理過后的氮化鎵基片上，調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速使光刻膠膜厚約為8μm，用熱板預(yù)烘（PAB）100℃/180s，通過i線曝光后，用2.38wt%TMAH進(jìn)行浸泡顯影180s，采用去離子水清洗后用烘箱后烘堅膜120℃/120s。在三氯化硼和氯氣的刻蝕氣體氛圍下進(jìn)行干法刻蝕60min，測定光刻膠的膜厚損失以及襯底的刻蝕深度，以膠厚損失/襯底刻蝕深度來計算刻蝕比，結(jié)果如下表所示。

由上述測試結(jié)果可知，本發(fā)明所述酚醛系正性光刻膠可以顯著提高光刻膠的耐刻蝕性能。

最后應(yīng)說明的是：以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，盡管參照前述實施例對本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。