技術(shù)編號：12120980
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光刻膠領(lǐng)域，具體涉及一種耐刻蝕性的酚醛系正型光刻膠。背景技術(shù)光刻膠是微電子技術(shù)發(fā)展最為關(guān)鍵的基礎(chǔ)材料，又稱光致抗蝕劑，是通過紫外光、電子束、離子束、準(zhǔn)分子激光束、X射線等曝光源的照射或輻射，使其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻的薄膜材料。光刻膠膜經(jīng)過曝光顯影形成光刻圖形后，會進(jìn)行干法或濕法刻蝕。沒有膠膜覆蓋的部分襯底材料被直接刻蝕，而有膠膜覆蓋的襯底表面則受光刻膠膜保護(hù)而免被刻蝕。耐蝕刻性能是光刻膠非常重要的評價(jià)指標(biāo)，優(yōu)良的耐刻蝕性可以保障刻蝕工藝中光刻膠能保護(hù)襯底表面不受損壞，并有效的簡化刻蝕...
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