本發(fā)明是關(guān)于一種激光曝光設(shè)備及方法，尤指能夠適用于傳統(tǒng)顯像型液態(tài)防焊油墨(或稱綠漆)的激光直接曝光設(shè)備及方法。

背景技術(shù)：

一般而言，印刷電路板(Printed Circuit Board，PCB)的表面通常會形成有一防焊層，以保護(hù)電路板的線路不被氧化，此防焊層的制備多是采用光蝕刻技術(shù)(Photo Lithography)，其制程簡述如下：

首先，如圖13所示，取得一已完成線路的電路板9，其上形成有至少一焊墊90。其次，如圖14所示，于該電路板9上涂布一層制作綠漆的光阻材料91。接著，將該電路板9放進(jìn)烘箱烘烤，以去除大部分的溶劑。烘烤后，再將該電路板9架上底片(或稱光罩)并放進(jìn)傳統(tǒng)的超高壓汞燈曝光機(jī)進(jìn)行曝光，其中未被光罩覆蓋住的部分(也就是受光的部分)，將因鍵結(jié)而稍微硬化。隨后，將曝光后的電路板送入顯影機(jī)以堿液沖洗，未鍵結(jié)硬化的綠漆將被沖掉，留下剩余的綠漆91’，并露出焊墊90，如圖15所示。最后，再將電路板9放進(jìn)烘箱，使綠漆完全硬化，完成電路板上綠漆的制作。

如上所述，傳統(tǒng)的曝光制程是利用超高壓汞燈所發(fā)出的包含多波段的紫外線(波長320nm至410nm)對光阻材料進(jìn)行曝光，進(jìn)而使曝光部分聚合固化，形成具有高光澤度的綠漆。近來，另一種利用激光進(jìn)行的直接描畫的技術(shù)(Laser Direct Imaging,LDI)，即不需要底片的無光罩曝光方式，正在廣泛地被使用，以取代傳統(tǒng)利用光罩的汞燈曝光模式。此種激光直接曝光方式雖是選用波長為350nm至410nm的激光作為光源，但由于是選用單一波長(例如405nm)的激光，與超高壓汞燈等的曝光相比，激光直接曝光所制成的綠漆嚴(yán)重失去光澤性，無法與傳統(tǒng)汞燈曝光的效果相比，不符合客戶要求。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

有鑒于此，本發(fā)明的目的是提供一種能提升綠漆光澤度的線型激光直接曝光設(shè)備及方法，其能沿用傳統(tǒng)顯像型液態(tài)防焊油墨的綠漆材料，且所制作出來的綠漆光澤度能媲美傳統(tǒng)汞燈曝光所制作出來的綠漆光澤度。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提出一種激光直接曝光設(shè)備，激光直接曝光設(shè)備大致包括一機(jī)臺、一激光裝置及一減氧裝置。該機(jī)臺具有一臺面，供放置一待曝光基板，其中該臺面暴露于大氣環(huán)境中。該激光裝置設(shè)于該機(jī)臺，用以輸出激光束，以在該待曝光基板的表面進(jìn)行掃描。該減氧裝置與該激光裝置同步，用以只對該激光裝置正在掃描的區(qū)域持續(xù)地輸出惰性的氣體，以確保該待曝光基板的正在被掃描的區(qū)域是在減氧環(huán)境下進(jìn)行曝光。

更進(jìn)一步地，該減氧裝置包括一氣體供應(yīng)源及一腔體。該氣體供應(yīng)源用以提供該惰性的氣體。該腔體連接該氣體供應(yīng)源，且具有至少一進(jìn)氣口及一出氣口。該腔體的進(jìn)氣口供該氣體供應(yīng)源的惰性的氣體注入該腔體內(nèi)；該腔體的出氣口對著該待曝光基板的表面，以使該腔體內(nèi)的惰性的氣體得以吹向該待曝光基板的表面，建造該減氧環(huán)境。

較佳地，該激光裝置的激光束也是從該腔體的出氣口射出，而對該待曝光基板進(jìn)行曝光。

較佳地，該腔體呈圓柱形，且該腔體與該激光裝置的激光束同軸。

在另一較佳實施例中，該激光裝置用以輸出線形的激光。對此，該減氧裝置包括一氣體供應(yīng)源及一腔體。該氣體供應(yīng)源用以提供該惰性的氣體。該腔體連接該氣體供應(yīng)源，且具有至少一進(jìn)氣口及一出氣口。該腔體的進(jìn)氣口供該氣體供應(yīng)源的惰性的氣體注入該腔體內(nèi)；該腔體的出氣口正對著該待曝光基板的表面，以使該腔體內(nèi)的惰性的氣體得以吹向該待曝光基板的表面，建造該減氧環(huán)境。

較佳地，該激光裝置包括間隔排列的多個激光二極管，該些激光二極管所輸出的多道激光共同形成該線形的激光；該減氧裝置更包括一分流板，該分流板設(shè)于該腔體的出氣口且具有多個導(dǎo)流孔，多個導(dǎo)流孔分別對應(yīng)該些激光二極管，以使該些激光二極管的多道激光得以分別從該分流板的導(dǎo)流孔射出，進(jìn)而對該待曝光基板進(jìn)行曝光。

較佳地，該減氧裝置更包括一框體，該框體的底面壓制于該分流板的周緣，以將該分流板固定于該腔體的出氣口。

在又一較佳實施例中，該減氧裝置包括一氣體供應(yīng)源、一腔體、一框體、一分流板及一透光板。該氣體供應(yīng)源具有至少一氣體管路，以供應(yīng)該惰性的氣體。該腔體具有一出氣口及至少一進(jìn)氣口，該腔體的出氣口設(shè)于該腔體的底部且正對著該待曝光基板的表面，該激光裝置設(shè)于該腔體的頂部。該框體環(huán)設(shè)于該腔體的出氣口，且具有至少一進(jìn)氣口。該分流板蓋住該腔體的出氣口，且具有多個導(dǎo)流孔，多個導(dǎo)流孔分別對應(yīng)該些激光二極管，以使該些激光二極管的多道激光得以分別從該分流板的導(dǎo)流孔射出，進(jìn)而對該待曝光基板進(jìn)行曝光。該透光板罩設(shè)于該框體的頂面，且與該框體及該分流板共同形成一內(nèi)室，其中該些激光二極管的多道激光能夠穿透該透光板進(jìn)入該內(nèi)室，并分別從該分流板的導(dǎo)流孔射出。此外，該氣體供應(yīng)源的氣體管路穿經(jīng)該腔體的進(jìn)氣口以及該框體的進(jìn)氣口，以將該惰性的氣體直接輸送至該內(nèi)室并從該分流板的該些導(dǎo)流孔吹向該待曝光基板的表面，建造該減氧環(huán)境。

本發(fā)明還提供一種提升防焊油墨光澤度的激光直接曝光的方法，其包括下列步驟：(a).將一涂有一層顯像型液態(tài)防焊油墨的待曝光基板放置于大氣環(huán)境中的一臺面上；(b).提供一激光裝置及與該激光裝置連動的一減氧裝置，其中該減氧裝置能夠同步且持續(xù)地只對該激光裝置正在掃描的區(qū)域輸出惰性的氣體，以將該正在掃描的區(qū)域所處的環(huán)境從該大氣環(huán)境轉(zhuǎn)變成一減氧環(huán)境；(c).使該激光裝置逐步地掃描該涂有防焊油墨的基板的各個區(qū)域，其中該激光裝置的激光的波長介于350nm至410nm；以及(d).在該激光裝置掃描的過程中，同步使該減氧裝置只對該激光裝置正在掃描的區(qū)域持續(xù)地通入該惰性的氣體，以確保該正被掃描的區(qū)域上的顯像型液態(tài)防焊油墨是在減氧環(huán)境被曝光。

經(jīng)過實驗證實，待曝光基板上的防焊油墨在刻意營造的貧氧或無氧的環(huán)境下(也就是減氧環(huán)境)進(jìn)行激光直接曝光后所產(chǎn)生的綠漆的光澤度比在正?？諝猸h(huán)境下(也就是沒有減氧的環(huán)境)的光澤度顯然提升，甚至媲美傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)的曝光效果。因此，本發(fā)明的激光直接曝光設(shè)備雖然使用單一波長仍可在不改變綠漆材料下取代傳統(tǒng)的超高壓汞燈曝光機(jī)，而不會造成產(chǎn)制的綠漆光澤度不足的問題。

附圖說明

以下附圖僅旨在于對本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中：

圖1是本發(fā)明激光直接曝光設(shè)備的第一較佳實施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是圖1的激光直接曝光設(shè)備的局部放大示意圖。

圖3是圖2的激光直接曝光設(shè)備的局部斷面示意圖。

圖4是本發(fā)明激光直接曝光設(shè)備的第二較佳實施例的局部立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖5是圖4的激光直接曝光設(shè)備的局部斷面示意圖。

圖6是本發(fā)明線型激光直接曝光設(shè)備的第三較佳實施例的立體結(jié)構(gòu)示意圖。

圖7是圖6的線型激光直接曝光設(shè)備的局部放大示意圖。

圖8是圖7的線型激光直接曝光設(shè)備的立體分解示意圖。

圖9是圖7的線型激光直接曝光設(shè)備的局部斷面示意圖。

圖10是本發(fā)明線型激光直接曝光設(shè)備的第四較佳實施例的局部放大示意圖。

圖11是圖10的線型激光直接曝光設(shè)備的立體分解示意圖。

圖12是圖10的線型激光直接曝光設(shè)備的局部斷面示意圖。

圖13至圖15是顯示公知的印刷電路板的綠漆的制造過程。

主要元件標(biāo)號說明：

100、200、300、400 曝光設(shè)備

1 機(jī)臺

10 臺面

2、6 激光裝置

20 鏡組

21、61 激光束

3、5、7、8 減氧裝置

30、50、70、80 腔體

301、701、801 進(jìn)氣口

302、501、702、802 出氣口

303 入光口

31、51、71、81 氣體管路

4 基板

703、803 側(cè)板

72、82 分流板

720、820 導(dǎo)流孔

73、83 框體

830 進(jìn)氣口

84 透光板

85 內(nèi)室

具體實施方式

為了對本發(fā)明的技術(shù)特征、目的和效果有更加清楚的理解，現(xiàn)對照附圖說明本發(fā)明的具體實施方式。

圖1顯示本發(fā)明的激光直接曝光設(shè)備100的第一較佳實施例，其大致包括一機(jī)臺1、一激光裝置2及一減氧裝置3。該機(jī)臺1具有一臺面10，供放置一待曝光基板4。其中，該臺面10暴露于大氣環(huán)境中，使得其上的該基板4亦會暴露于大氣環(huán)境中。

參閱圖1及圖2，該激光裝置2(例如：二極管激光)設(shè)于該機(jī)臺1，用以輸出一激光束21(圖3)，以在該基板4的表面進(jìn)行掃描，其波長可選自350nm至410nm，以通用于傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)所使用的傳統(tǒng)顯像型液態(tài)防焊油墨或綠漆。該減氧裝置3用以在一待曝光基板4的其中一表面區(qū)域建造一減氧環(huán)境，以使該激光裝置2通過直接掃描而得以在減氧環(huán)境下對該基板4進(jìn)行全面曝光。換言之，該減氧裝置3能同步地在該激光裝置2正在掃描的區(qū)域持續(xù)地通入一惰性的氣體，例如氮?dú)?，以確保該基板4的每一正在掃描的區(qū)域是在減氧環(huán)境下進(jìn)行曝光。

在印刷電路板的綠漆制程中，該待曝光基板4是指已涂布有防焊油墨的電路板。一般而言，防焊油墨是由光起始劑、寡聚物、反應(yīng)性稀釋單體及其他添加劑等所組成。光起始劑的主要功能是在于吸收紫外光后，若光能大于分子結(jié)合能，分子會解離而產(chǎn)生活化自由基進(jìn)而引發(fā)交聯(lián)聚合反應(yīng)。而在另一方面，空氣中的氧氣會與自由基反應(yīng)而形成過氧自由基(peroxyl radicals)，其過氧自由基會阻礙聚合反應(yīng)的進(jìn)行，使得反應(yīng)終止或不完全。據(jù)此，本發(fā)明激光直接曝光設(shè)備及方法即是刻意在待曝光基板4的表面營造一減氧環(huán)境，并在當(dāng)下輸出激光束，使該基板4進(jìn)行激光直接曝光。

附帶說明的是，上述的減氧環(huán)境指的是刻意除去空氣中少量或多量的氧氣所營造的貧氧或無氧的環(huán)境，其具體的作法是通過持續(xù)通入惰性的氣體(例如氮?dú)饣蜮g氣)以驅(qū)逐空氣中的氧氣。因此，本發(fā)明激光直接曝光設(shè)備的減氧裝置是在大氣環(huán)境下利用持續(xù)通入惰性的氣體的方式，以只在該基板的其中一表面區(qū)域建造該減氧環(huán)境，如圖1所示。

參閱圖3，該減氧裝置3包括一氣體供應(yīng)源(未圖示)及一腔體30(或稱為集氣腔體)。在本較佳實施例中，該氣體供應(yīng)源供應(yīng)的是氮?dú)猓缂兌?9.5％的普通氮?dú)饣蚴羌兌?9.995％的高純度氮?dú)?。該腔體30的頂部界定有兩進(jìn)氣口301，且底部界定有一出氣口302。該腔體30是通過兩氣體管路31連接至該氣體供應(yīng)源。如此，該氣體供應(yīng)源的氮?dú)饪蓮脑撉惑w30的進(jìn)氣口301注入該腔體30內(nèi)；而該腔體30的出氣口302是對著該待曝光基板4的表面，以使該腔體30內(nèi)的氮?dú)獾靡源迪蛟摶?的表面，驅(qū)逐表面上的空氣或氧氣，借以建造一貧氧或無氧的環(huán)境。

再參閱圖3，本較佳實施例的腔體30的兩進(jìn)氣口301的中央界定有一入光口303，該入光口303是正對下方的出氣口302。該激光裝置2的一鏡組20恰設(shè)于該腔體30的入光口303，以與該腔體30連接，使得該腔體30得以與該激光裝置2連動。此外，該激光裝置2的激光束21是被安排穿過該鏡組20而從該腔體30的入光口303進(jìn)入該腔體30，并從該腔體30的出氣口302射出。換言之，該激光裝置2的激光束21亦是與氮?dú)庖粯邮菑脑撉惑w30的出氣口302射出，而對該待曝光基板4進(jìn)行曝光。如此，無論該激光裝置2掃描到該基板4的哪個表面區(qū)域，該減氧裝置3的腔體30會同步移動到該表面區(qū)域的上方對其下方的區(qū)域進(jìn)行減氧，以確保最終該基板4的所有被掃描的區(qū)域皆是在貧氧或無氧環(huán)境下進(jìn)行曝光，借以降低綠漆的光硬化反應(yīng)時的氧氣抑制效應(yīng)。

為驗證本發(fā)明的激光直接曝光的效果，今以傳統(tǒng)的汞燈曝光機(jī)曝光為對照組，并選用波長405nm的二極管激光在(1).一般空氣環(huán)境中、(2)注入普通氮?dú)獾臏p氧環(huán)境中及(3).注入高純度氮?dú)獾臏p氧環(huán)境中，進(jìn)行激光直接曝光為實驗組做實驗。經(jīng)光澤度計量測發(fā)現(xiàn)，傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)曝光后的綠漆的光澤度為96.86光澤單位(Gloss Unit，GU)；而在一般空氣環(huán)境中曝光后的綠漆的光澤度降為31.64GU；而在注入普通氮?dú)饧案呒兌鹊獨(dú)獾臏p氧環(huán)境中曝光后的綠漆的光澤度分別為78.29GU及79.29GU。經(jīng)過數(shù)據(jù)分析后可以發(fā)現(xiàn)，在不改變綠漆材料的情況下，相較于傳統(tǒng)的汞燈曝光機(jī)，使用單一波長的激光直接曝光設(shè)備通過以氮?dú)庵圃斓呢氀趸驘o氧環(huán)境可以將綠漆光澤度提高到傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)的百分之八十，且附著度和表面硬度經(jīng)測試也均符合一般電路板綠漆的規(guī)格。換言之，本發(fā)明的激光直接曝光設(shè)備雖然使用單一波長仍可在不改變綠漆材料下可以取代傳統(tǒng)的超高壓汞燈曝光機(jī)，而不會造成產(chǎn)制的綠漆光澤度不足的問題。

圖4及圖5是局部地顯示本發(fā)明的激光直接曝光設(shè)備200的第二較佳實施例，其大體上相同于第一較佳實施例100，同樣包括一激光裝置2及一減氧裝置5，但該減氧裝置5的腔體50(或稱為集氣腔體)與第一較佳實施例100的腔體30在型態(tài)上有所差異。

該激光裝置2(例如：二極管激光)，用以輸出一激光束21，其波長可選自350nm至410nm，以通用于傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)所使用的傳統(tǒng)顯像型液態(tài)防焊油墨或綠漆。該減氧裝置5用以在一待曝光基板4的表面建造一減氧環(huán)境，以使該激光裝置2得以在減氧環(huán)境下對該基板4進(jìn)行曝光。

該減氧裝置5包括一氣體供應(yīng)源(未圖示)及一腔體50。該腔體50呈圓柱形，且其側(cè)面界定有一進(jìn)氣口(未圖示)，而底面界定有一出氣口501。該腔體50是通過一氣體管路51連接至該氣體供應(yīng)源。如此，該氣體供應(yīng)源的氮?dú)饪蓮脑撉惑w50的進(jìn)氣口注入該腔體50內(nèi)；而該腔體50的出氣口501對著該待曝光基板4的表面，以使該腔體50內(nèi)的氮?dú)獾靡源迪蛟摶?的表面，驅(qū)逐表面上的空氣或氧氣，借以建造一貧氧或無氧的環(huán)境。

特別的是，圓柱形的該腔體50與該激光裝置2的激光束21(或稱為輸出光束)同軸，使得該激光束21同樣從該腔體50的出氣口501射出，而對該待曝光基板4進(jìn)行曝光。如此，可確保該基板4的表面是在貧氧或無氧環(huán)境下進(jìn)行曝光，借以降低綠漆的光硬化反應(yīng)時的氧氣抑制效應(yīng)。

圖6顯示本發(fā)明的線型激光直接曝光設(shè)備300的第三較佳實施例，其大致包括一機(jī)臺1、一線型激光裝置6及一減氧裝置7。該機(jī)臺1具有一臺面10，供放置一待曝光基板4。其中，該臺面10暴露于大氣環(huán)境中，使得其上的該基板4亦暴露于大氣環(huán)境中。

參閱圖6及圖7，該線型激光裝置6設(shè)于該機(jī)臺1，用以輸出斷面呈線形的激光(有別于激光點)，以在該基板4的表面進(jìn)行掃描，其波長可選自350nm至410nm，以通用于傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)所使用的傳統(tǒng)顯像型液態(tài)防焊油墨或綠漆。該減氧裝置7用以在一待曝光基板4的其中一表面區(qū)域建造一減氧環(huán)境，以使該線型激光裝置6通過直接掃描而得以在減氧環(huán)境下對該基板4進(jìn)行全面曝光。換言之，該減氧裝置7能同步地在該線型激光裝置6只對正在掃描的區(qū)域持續(xù)地通入一惰性的氣體，例如氮?dú)猓源_保該基板4的每一正在掃描的區(qū)域是在減氧環(huán)境下進(jìn)行曝光。

參閱圖7及圖8，在本第三較佳實施例中，該減氧裝置7包括一氣體供應(yīng)源(未圖示)、一腔體70、一分流板72及一框體73。該氣體供應(yīng)源供應(yīng)的是氮?dú)?，例如純?9.5％的普通氮?dú)饣蚴羌兌?9.995％的高純度氮?dú)?。該腔體70具有一可拆卸的側(cè)板703，以方便該分流板72及該框體73組裝于該腔體70內(nèi)。此外，該腔體70的頂部界定有兩進(jìn)氣口701，且底部界定有一出氣口702。如圖9所示，該腔體70是通過兩氣體管路71連接至該氣體供應(yīng)源。如此，該氣體供應(yīng)源的氮?dú)饪蓮脑撉惑w70的進(jìn)氣口701注入該腔體70內(nèi)；而該腔體70的出氣口702對著該待曝光基板4的表面，以使該腔體70內(nèi)的氮?dú)獾靡源迪蛟摶?的表面，驅(qū)逐表面上的空氣或氧氣，借以建造一貧氧或無氧的環(huán)境。

再參閱圖9，該線型激光裝置6設(shè)于該腔體70的頂部，且正對下方的出氣口702，使得該腔體70不僅可與該線型激光裝置6連動，且該線型激光裝置6的激光恰可直接從該出氣口702射出。具體而言，該線型激光裝置6包括間隔排列的多個激光二極管(圖未示)，該些激光二極管所輸出的多道激光束61(或稱為輸出光)共同形成該線形的激光。換言之，該線型激光裝置6的該些激光束61亦是與氮?dú)庖粯邮菑脑撉惑w70的出氣口702射出，而對該待曝光基板4進(jìn)行曝光。如此，無論該線型激光裝置6掃描到該基板4的哪個表面區(qū)域，該減氧裝置7的腔體70也會同步移動到該表面區(qū)域的上方對其下方的區(qū)域進(jìn)行減氧，以確保最終該基板4的所有被掃描的區(qū)域皆是在貧氧或無氧環(huán)境下進(jìn)行曝光，借以降低綠漆的光硬化反應(yīng)時的氧氣抑制效應(yīng)。

特別的是，該分流板72罩住該腔體70的出氣口702，而該框體73的底面壓制于該分流板72的周緣，借以將該分流板72固定于該腔體70的出氣口702。其中，該分流板72界定有多個導(dǎo)流孔720，分別對應(yīng)該些激光二極管，以使該些激光二極管的多道激光束61得以分別從該分流板72的導(dǎo)流孔720射出，進(jìn)而對該待曝光基板4進(jìn)行曝光。如此，該腔體70內(nèi)的氮?dú)庖部删鶆虻貜脑撔?dǎo)流孔720噴出，提供均勻的減氧環(huán)境。

圖10至圖12是局部地顯示本發(fā)明的激光直接曝光設(shè)備400的第四較佳實施例，其大體上相同于第三較佳實施例300，包括一線型激光裝置6及一減氧裝置8，但該減氧裝置8更包括一透光板84，且搭配該透光板84的使用，本第四較佳實施例400的氮?dú)饧心Ｊ揭嗯c第三較佳實施例300的模式也有些許差異。

具體而言，該線型激光裝置6同樣設(shè)于該機(jī)臺1，用以輸出線形的激光，以在該基板4的表面進(jìn)行掃描，其波長可選自350nm至410nm，以通用于傳統(tǒng)汞燈曝光機(jī)所使用的傳統(tǒng)顯像型液態(tài)防焊油墨或綠漆。該減氧裝置8用以在一待曝光基板4的其中一表面區(qū)域建造一減氧環(huán)境，以使該線型激光裝置6通過直接掃描而得以在減氧環(huán)境下對該基板4進(jìn)行全面曝光。換言之，該減氧裝置8能同步地在該線型激光裝置6只對正在掃描的區(qū)域持續(xù)地通入一惰性的氣體，例如氮?dú)?，以確保該基板4的每一正在掃描的區(qū)域是在減氧環(huán)境下進(jìn)行曝光。

該減氧裝置8包括一氣體供應(yīng)源(未圖示)、一腔體80、一分流板82、一框體83及前述的透光板84。該氣體供應(yīng)源供應(yīng)的是氮?dú)?，例如純?9.5％的普通氮?dú)饣蚴羌兌?9.995％的高純度氮?dú)?。該腔體80的頂部界定有兩進(jìn)氣口801，且底部界定有一出氣口802。該腔體80的出氣口802設(shè)于該腔體80的底部且正對著該待曝光基板4的表面。此外，該腔體80具有一可拆卸的側(cè)板803，以方便該分流板82、該框體83及該透光板84組裝于該腔體80內(nèi)。

該線型激光裝置6設(shè)于該腔體80的頂部，且正對下方的出氣口802，使得該腔體80不僅可與該線型激光裝置6連動，且該線型激光裝置6的激光可直接從該出氣口802射出。具體而言，該線型激光裝置6包括間隔排列的多個激光二極管(圖未示)，該些激光二極管所輸出的多道激光共同形成該線形的激光。換言之，該線型激光裝置6的該些激光束61亦是與氮?dú)庖粯邮菑脑撉惑w80的出氣口802射出，而對該待曝光基板4進(jìn)行曝光。如此，無論該線型激光裝置6掃描到該基板4的哪個表面區(qū)域，該減氧裝置8的腔體80也會同步移動到該表面區(qū)域的上方對其下方的區(qū)域進(jìn)行減氧，以確保最終該基板4的所有被掃描的區(qū)域皆是在貧氧或無氧環(huán)境下進(jìn)行曝光，借以降低綠漆的光硬化反應(yīng)時的氧氣抑制效應(yīng)。

較佳地，該分流板82蓋住該腔體80的出氣口802，且界定有多個導(dǎo)流孔820，分別對應(yīng)該些激光二極管，以使該些激光二極管的多道激光束61得以分別從該分流板82的導(dǎo)流孔820射出，進(jìn)而對該待曝光基板4進(jìn)行曝光。該框體83環(huán)設(shè)于該腔體80的出氣口802，且以其底面壓制于該分流板82的周緣，以將該分流板82固定于該腔體80的出氣口802。該透光板84罩設(shè)于該框體83的頂面，且與該框體83及該分流板82共同形成一內(nèi)室85。此外，該透光板84能夠允許該些激光二極管的激光束61穿透進(jìn)入該內(nèi)室85，進(jìn)而從該分流板82的導(dǎo)流孔820射出。

此外，本第四較佳實施例400的框體83更界定有至少一進(jìn)氣口830。該氣體供應(yīng)源的氣體管路81穿經(jīng)該腔體80的進(jìn)氣口801以及該框體83的進(jìn)氣口830，以將該惰性的氣體(氮?dú)?直接輸送至該內(nèi)室85，并從該分流板82的該些導(dǎo)流孔820均勻地吹向該待曝光基板4的表面，以建造一貧氧或無氧的環(huán)境。

綜上，本發(fā)明的激光直接曝光設(shè)備雖然使用單一波長仍可在不改變綠漆材料下可以取代傳統(tǒng)的超高壓汞燈曝光機(jī)，而不會造成產(chǎn)制的綠漆光澤度不足的問題。

本發(fā)明還提供一種激光直接曝光方法，包括下列步驟：

(a).將一涂有一層顯像型液態(tài)防焊油墨的待曝光基板4放置于大氣環(huán)境中的一臺面10上；

(b).提供一激光裝置及與該激光裝置連動的一減氧裝置，其中該減氧裝置能夠同步且持續(xù)地只對該激光裝置正在掃描的區(qū)域輸出惰性的氣體，以將該正在掃描的區(qū)域所處的環(huán)境從該大氣環(huán)境轉(zhuǎn)變成一減氧環(huán)境；

(c).使該激光裝置逐步地掃描該涂有防焊油墨的基板的各個區(qū)域，其中該激光裝置的激光的波長介于350nm至410nm；以及

(d).在該激光裝置掃描的過程中，同步使該減氧裝置只對該激光裝置正在掃描的區(qū)域持續(xù)地通入該惰性的氣體，以確保該正被掃描的區(qū)域上的顯像型液態(tài)防焊油墨是在該減氧環(huán)境被曝光。

以上所述僅為本發(fā)明示意性的具體實施方式，并非用以限定本發(fā)明的范圍。任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和原則的前提下所作的等同變化與修改，均應(yīng)屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。而且需要說明的是，本發(fā)明的各組成部分并不僅限于上述整體應(yīng)用，本發(fā)明的說明書中描述的各技術(shù)特征可以根據(jù)實際需要選擇一項單獨(dú)采用或選擇多項組合起來使用，因此，本發(fā)明理所當(dāng)然地涵蓋了與本案發(fā)明點有關(guān)的其它組合及具體應(yīng)用。