技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種基于衍射的套刻測量標(biāo)記、套刻測量方法和測量裝置，其中所述基于衍射的套刻測量標(biāo)記包括:第一基準(zhǔn)光柵和第二基準(zhǔn)光柵；位于第一基準(zhǔn)光柵的延伸方向上，且相對于其在第一方向的正向上偏移的第三基準(zhǔn)光柵，位于第二基準(zhǔn)光柵的延伸方向上，且相對于其在第一方向的負(fù)向上偏移的第四基準(zhǔn)光柵；位于第一基準(zhǔn)光柵上方，且相對于其在第一方向的正向上偏移的第一比較光柵；位于第二基準(zhǔn)光柵上方，且相對于其在第一方向的負(fù)向上偏移的第二比較光柵；位于第三基準(zhǔn)光柵上方，且相對于其在第一方向的負(fù)向上偏移的第三比較光柵；位于第四基準(zhǔn)光柵上方，且相對于其在第一方向的正向上偏移的第四比較光柵。本發(fā)明的套刻測量標(biāo)記提高了套刻測量的精度。

技術(shù)研發(fā)人員：蔣運濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.01.11
技術(shù)公布日：2017.07.18