一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置及其制備方法，涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，能夠解決貼附AR膜(抗反射膜)導(dǎo)致的抗反射效果不佳,只針對(duì)較窄范圍波長(zhǎng)的光，等問(wèn)題。制備所述顯示基板的方法包括在襯底基板的第一表面制作黑矩陣，并由黑矩陣橫縱交叉界定出多個(gè)顯示單元；在襯底基板的第二表面上形成光刻膠；對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置處的光刻膠進(jìn)行固化處理；將對(duì)應(yīng)黑矩陣位置處的光刻膠去除；對(duì)襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理。
【專利說(shuō)明】
一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜晶體管-液晶顯示器)作為一種平板顯示器，因其具有體積小、功耗低、無(wú)輻射以及制作成本相對(duì)較低等特點(diǎn)，而越來(lái)越多地被應(yīng)用于高性能顯示領(lǐng)域當(dāng)中。
[0003]TFT-1XD如圖1a所示，由陣列基板10和彩膜基板10’構(gòu)成。在陣列基板10和彩膜基板10’之間設(shè)置有液晶層12。此外，在彩膜基板10’的上表面設(shè)置有偏振片13。通過(guò)控制液晶層12中的液晶分子的排列方向以對(duì)光線強(qiáng)弱進(jìn)行控制，并在彩膜基板10’的濾光作用，實(shí)現(xiàn)彩色圖像顯示。
[0004]在制作TFT-LCD的過(guò)程中，為了消除外界光源對(duì)顯示效果的影響?，F(xiàn)有技術(shù)中，一般在偏振片13的表面貼附AR(Ant1-RefleCtive，防反射)膜16。其中，構(gòu)成所述AR膜14的材料與構(gòu)成偏光片13的材料的折射率不同。這樣一來(lái)，從同一點(diǎn)入射至AR膜的光線,在空氣與AR膜14界面上發(fā)生反射的反射光，與其在AR膜14與偏光片13表面的界面上發(fā)生反射的反射光會(huì)相干疊加，干涉相消，從而減小了反射。
[0005]然而，AR膜的厚度與其能夠消除的光線的波長(zhǎng)有關(guān)。例如，當(dāng)AR膜的厚度接近紅光在AR膜中波長(zhǎng)的四分之一時(shí)，AR膜能夠?qū)θ肷涞慕咏t光波長(zhǎng)的光線的反射光進(jìn)行消除。因此，AR膜只能實(shí)現(xiàn)較窄范圍波長(zhǎng)的零反射，并不能對(duì)可見(jiàn)光中的所有波長(zhǎng)的光線的反射光進(jìn)行消除。所以降低了抗反射的效果。此外，如果為了提高抗反射的效果，在偏光片13上設(shè)置多個(gè)不同厚度的AR膜，雖然能夠有效的減少可見(jiàn)光的反射對(duì)顯示效果的影響，但與此同時(shí)會(huì)增加顯示器的厚度，不利于顯示器超薄化的設(shè)計(jì)。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置及其制備方法，能夠解決貼附AR膜只能實(shí)現(xiàn)較窄范圍波長(zhǎng)的零反射的問(wèn)題。
[0007]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0008]本發(fā)明實(shí)施例的一方面，提供一種顯不基板的制備方法，包括在襯底基板的第一表面形成黑矩陣，以及由所述黑矩陣橫縱交叉界定出多個(gè)顯示單元的方法，還包括:
[0009]在所述襯底基板的第二表面上形成光刻膠；其中，所述第一表面與所述第二表面相對(duì)設(shè)置；
[0010]對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理；
[0011]將對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述光刻膠去除；
[0012]對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理。
[0013]本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種顯不基板，包括襯底基板，以及位于襯底基板第一表面上的黑矩陣以及由所述黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元；在襯底基板第二表面對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的部分凹凸不平；其中，所述第一表面與所述第二表面相對(duì)設(shè)置。
[0014]本發(fā)明實(shí)施例的另一方面，提供一種顯示裝置，包括如上所述的顯示基板。
[0015]本發(fā)明實(shí)施例的又一方面，提供一種顯示裝置的制備方法，包括形成顯示基板的方法，所述顯示基板包括襯底基板、位于襯底基板第一表面上的黑矩陣以及由所述黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元，還包括:
[0016]在所述襯底基板的第二表面形成光刻膠，其中，所述第一表面與所述第二表面相對(duì)設(shè)置；
[0017]對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理；
[0018]將對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述光刻膠去除；
[0019]對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理。
[0020]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置及其制備方法。其中，所述顯示基板的制備方法包括，首先，在襯底基板的第一表面形成黑矩陣，并由黑矩陣橫縱交叉界定出多個(gè)顯示單元；然后，在襯底基板上與所述第一表面相對(duì)設(shè)置的第二表面上形成光刻膠；由于顯示面板的顯示區(qū)域?qū)?yīng)顯示單元的位置，因此接下來(lái)可以對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置處的光刻膠進(jìn)行固化處理，使其對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置的襯底基板進(jìn)行保護(hù)；然后，將對(duì)應(yīng)黑矩陣位置處未固化的光刻去除，以使得襯底基板第二表面上對(duì)應(yīng)黑矩陣的位置未被光刻膠覆蓋；之后，對(duì)襯底基板的第二表面上未被光刻膠覆蓋的區(qū)域進(jìn)行毛化處理，使其表面凹凸不平；這樣一來(lái)，可見(jiàn)光照射至顯示面板上對(duì)應(yīng)黑矩陣的非顯示區(qū)域時(shí)，通過(guò)上述凹凸不平的而表面，可以使得所有入射至該表面的可見(jiàn)光發(fā)生漫反射，從而可以消除非顯示區(qū)域的反射光。雖然襯底基板對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的位置未經(jīng)過(guò)刻蝕處理，但是由于顯示區(qū)域出射的用于顯示的光線強(qiáng)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于反射光線的強(qiáng)度，因此該區(qū)域的反射光線對(duì)顯示效果造成的影響甚微。因此，本發(fā)明提供的實(shí)施例能夠在保證顯示面板正常顯示的前提下，消除了入射至非顯示區(qū)域的所有可見(jiàn)光的反射光線，并且無(wú)需增加顯示面板的厚度，從而提升了畫(huà)面品質(zhì)及產(chǎn)品的質(zhì)量。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0022]圖1a為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種顯示裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖1b為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種陣列基板的俯視結(jié)構(gòu)不意圖；
[0024]圖1c為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種顯不基板的俯視結(jié)構(gòu)不意圖；
[0025]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的制備方法流程圖；
[0026]圖3a_圖3d為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板制備過(guò)程中各個(gè)階段的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示基板的制備方法流程圖；
[0028]圖5a_圖5b為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示基板制備過(guò)程中各個(gè)階段的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的制備方法示意圖；
[0030]圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的制備方法流程圖；
[0031]圖8a_圖8d為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置制備過(guò)程中各個(gè)階段的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示裝置的制備方法流程圖；
[0033]圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示裝置的制備方法示意圖；
[0034]圖11為本發(fā)明實(shí)施例提供的另一種顯示裝置的制備方法示意圖。
[0035]【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】:
[0036]10-陣列基板；10’ _彩膜基板；11_顯不基板；100-亞像素；101-像素電極；110-襯底基板；A-襯底基板的第一表面；B-襯底基板的第二表面；111-黑矩陣；112_顯示單元；12_液晶層；13_偏振片；14-AR膜；20_光刻膠；21_掩膜版；C_掩膜版的透光區(qū)域；D-掩膜版的不透光區(qū)域；22_刻蝕溶液。

【具體實(shí)施方式】
[0037]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0038]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板11的制備方法，包括在襯底基板110的第一表面A形成黑矩陣111以及由黑矩陣111交叉界定出多個(gè)顯示單元112的方法，如圖2所示，還可以包括:
[0039]S101、如圖3a所不,在襯底基板110的第二表面B上形成光刻膠20 ;其中，第一表面A與第二表面B相對(duì)設(shè)置。
[0040]S102、如圖3b所示，對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元112位置處的光刻膠20進(jìn)行固化處理，以使得該位置處的光刻膠20固化。
[0041]S103、將對(duì)應(yīng)黑矩陣111位置處的光刻膠20去除。
[0042]S104、如圖3c所示，對(duì)對(duì)應(yīng)黑矩陣111位置處的襯底基板01的第二表面B進(jìn)行毛化處理，使得第二表面B未被光刻膠覆蓋的部分凹凸不平。
[0043]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板的制備方法，包括:首先，在襯底基板的第一表面形成黑矩陣，并由黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元；然后，在襯底基板上與所述第一表面相對(duì)設(shè)置的第二表面上形成光刻膠；由于顯示面板的顯示區(qū)域?qū)?yīng)顯示單元的位置，因此接下來(lái)可以對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置處的光刻膠進(jìn)行固化處理，使其對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置的襯底基板進(jìn)行保護(hù)；然后，將對(duì)應(yīng)黑矩陣位置處未固化的光刻膠去除，以使得襯底基板第二表面上對(duì)應(yīng)黑矩陣的位置未被光刻膠覆蓋；之后，對(duì)襯底基板的第二表面上未被光刻膠覆蓋的區(qū)域進(jìn)行毛化處理，使其表面凹凸不平；這樣一來(lái)，可見(jiàn)光照射至顯示面板上對(duì)應(yīng)黑矩陣的非顯示區(qū)域時(shí)，通過(guò)上述凹凸不平的而表面，可以使得所有入射至該表面的可見(jiàn)光發(fā)生漫反射，從而可以消除非顯示區(qū)域的反射光。最后，剝離對(duì)應(yīng)顯示單元位置處的光刻膠，以使得顯示面板能夠正常顯示。雖然襯底基板對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的位置未經(jīng)過(guò)刻蝕處理，但是由于顯示區(qū)域出射的用于顯示的光線強(qiáng)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于反射光線的強(qiáng)度，因此該區(qū)域的反射光線對(duì)顯示效果造成的影響甚微。因此，本發(fā)明提供的實(shí)施例能夠在保證顯示面板正常顯示的前提下，消除了入射至非顯示區(qū)域的所有可見(jiàn)光的反射光線，并且無(wú)需增加顯示面板的厚度，從而提升了畫(huà)面品質(zhì)及廣品的質(zhì)量。
[0044]需要說(shuō)明的是，第一、上述顯示基板11可以為設(shè)置有黑矩陣111和彩色膜層的彩膜基板10’，也可以是設(shè)置有黑矩陣111和彩色膜層的陣列基板10。本發(fā)明對(duì)顯示基板11不作限制。
[0045]第二、由陣列基板10 (俯視圖如圖1b所示)由多條橫縱交叉的柵線Gate和數(shù)據(jù)線Date界定形成多個(gè)亞像素100。每個(gè)亞像素100內(nèi)設(shè)置有一個(gè)像素電極101。
[0046]顯示基板11，例如彩膜基板10’(俯視圖如圖1c所示)，包括黑矩陣111以及由橫縱交叉的黑矩陣111界定出的多個(gè)顯示單元112，顯示單元112內(nèi)設(shè)置有彩色膜層，其顏色可以為紅色(R)、綠色(G)或藍(lán)色⑶。
[0047]其中，顯示單元112與圖1b所示的陣列基板10上亞像素100中的像素電極101一一對(duì)應(yīng)。顯示基板11和陣列基板10對(duì)盒之后形成多個(gè)像素單元，每個(gè)像素單元包括紅(R)、綠(G)、藍(lán)⑶三種不同顏色的亞像素100。
[0048]此外，亞像素100中除了像素電極101以外的非顯示區(qū)域與顯示基板11上的黑矩陣111的位置相對(duì)應(yīng)，以使得黑矩陣111能夠?qū)⑽挥陉嚵谢?0上的控制電路(例如TFT區(qū)域)進(jìn)行遮擋，防止光線照射至上述控制電路，造成線路的損壞。
[0049]第三、上述襯底基板110可以采用玻璃或者石英石構(gòu)成。
[0050]第四、毛化處理，是指將襯底基板110上對(duì)應(yīng)非顯示區(qū)域的表面進(jìn)行粗糙化處理，使其表面凹凸不平，導(dǎo)致入射至該表面的可見(jiàn)光，反射后的方向不一致(發(fā)生漫反射)，從而消除反射光線對(duì)顯示效果的影響。其中，毛化處理可以采用噴砂、打磨工藝，或者溶液刻蝕工藝等工藝。由于溶液刻蝕工藝操作簡(jiǎn)單，對(duì)顯示面板的損傷小，本發(fā)明優(yōu)選溶液刻蝕工藝。以下實(shí)施例均是以采用刻蝕溶液22進(jìn)行毛化處理為例進(jìn)行的說(shuō)明。
[0051]具體的，溶液刻蝕工藝可以是，通過(guò)高壓氣體，將刻蝕溶液22噴灑于襯底基板110的第二表面B，對(duì)第二表面B未被光刻膠20覆蓋的區(qū)域(即第二表面B上對(duì)應(yīng)黑矩陣位置的部分)進(jìn)行刻蝕。
[0052]優(yōu)選的，可以上述刻蝕溶液22中添加氣泡，使得噴灑于襯底基板110的第二表面B的刻蝕溶液22分布不均勻，以形成凹凸不平的表面。從而可以防止刻蝕溶液22均勻的覆蓋部分第二表面B時(shí)，形成較平滑的刻蝕面，降低漫反射的效果。具體的，可以通過(guò)在刻蝕溶液22中加入干燥的空氣、氫氣或氮?dú)庖孕纬蓺馀荨?br> [0053]第五、在毛化處理之后，可以對(duì)顯示基板11進(jìn)行沖洗，避免殘留的刻蝕溶液22對(duì)襯底基板110的侵蝕。
[0054]第六、上述固化處理可以通過(guò)高溫、高壓固化工藝，或者曝光或顯影工藝實(shí)現(xiàn)。對(duì)于曝光或顯影工藝而言，當(dāng)采用在曝光條件下發(fā)生固化的光刻膠(正膠)時(shí)，上述固化處理可以是指曝光工藝。因此當(dāng)襯底基板110的第二表面B上形成的光刻膠20為正膠時(shí)，可以對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元112位置處的光刻膠20進(jìn)行曝光，以使得該位置處的光刻膠20固化。而對(duì)對(duì)應(yīng)黑矩陣111位置處的光刻膠20進(jìn)行顯影工藝，以去除該位置處未固化的光刻膠20。
[0055]此外，當(dāng)采用在顯影工藝中發(fā)生固化的光刻膠(負(fù)膠)時(shí)，上述固化處理可以是顯影工藝。因此當(dāng)襯底基板110的第二表面B上形成的光刻膠20為負(fù)膠時(shí)，可以對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元112位置處的光刻膠20進(jìn)行顯影工藝，以使得該位置處的光刻膠20固化。而對(duì)對(duì)應(yīng)黑矩陣111位置處的光刻膠20進(jìn)行曝光工藝，以去除該位置處未固化的光刻膠20。
[0056]本發(fā)明對(duì)固化處理不做限制，但以下實(shí)施例均是以光刻膠20為正膠為例進(jìn)行的說(shuō)明。
[0057]以下通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)顯示基板的制備方法進(jìn)行詳細(xì)的描述。
[0058]實(shí)施例一
[0059]S201、在上述步驟SlOl之后，如圖4和圖5a所示，在光刻膠20的表面設(shè)置掩膜版21。其中，掩膜版21的透光區(qū)域C對(duì)應(yīng)顯示單元112的位置，掩膜版21的不透光區(qū)域D對(duì)應(yīng)黑矩陣111的位置。
[0060]S202、對(duì)光刻膠20進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)掩膜版21透光區(qū)域A的光刻膠20固化，從而可以對(duì)襯底基板110表面對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的部分進(jìn)行保護(hù)，避免毛化處理將其表面粗糙化。
[0061]S203、在襯底基板110為玻璃基板的情況下，可以在氫氟酸溶液中充入干燥的空氣以形成具有氣泡的刻蝕溶液22，并如圖5b所示，將該刻蝕溶液22通過(guò)高壓氣體噴灑于襯底基板110的第二表面B，形成如圖3d所示的凹凸不平的表面。
[0062]S204、如圖3d所示,剝離對(duì)應(yīng)顯示單元112位置處的光刻膠20。
[0063]需要說(shuō)明的是，當(dāng)光刻膠20是白色透明的時(shí)，由于不會(huì)對(duì)顯示造成影響，因此可以不用進(jìn)行步驟S204。如果光刻膠20不是白色透明的，或者為了減小顯示器的厚度可以進(jìn)行上述步驟S204，以剝離光刻膠20。
[0064]實(shí)施例二
[0065]在上述步驟SlOl之后，如圖6所示，以黑矩陣11作為掩膜，從襯底基板110第一表面A的一側(cè)對(duì)光刻膠20進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)顯示單元112位置的光刻膠20固化，從而可以對(duì)襯底基板110表面對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的部分進(jìn)行保護(hù)，避免毛化處理將其表面粗糙化。
[0066]接下來(lái)可以采用步驟S203以及、S204，或者采用步驟S104。
[0067]實(shí)施例二相對(duì)于實(shí)施例一而言，利用黑矩陣111的不透光的特性，采用不同的曝光方向，可以省去設(shè)置掩膜版21的步驟。
[0068]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示基板，如圖3d所示，可以包括襯底基板110，以及位于襯底基板110第一表面A上的黑矩陣111，以及由黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元112。其中，在襯底基板110第二表面B對(duì)應(yīng)黑矩陣111的部分凹凸不平；其中，第一表面A與第二表面B相對(duì)設(shè)置。這樣一來(lái)，可見(jiàn)光照射至顯示面板上對(duì)應(yīng)黑矩陣的非顯示區(qū)域時(shí)，通過(guò)上述凹凸不平的表面，可以使得可見(jiàn)光發(fā)生漫反射，從而可以消除非顯示區(qū)域的反射光。此外，雖然襯底基板對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的位置表面光滑，但是由于顯示區(qū)域出射的用于顯示的光線強(qiáng)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于反射光線的強(qiáng)度，因此該區(qū)域的反射光線對(duì)顯示效果造成的影響甚微。因此，本發(fā)明提供的實(shí)施例能夠在保證顯示面板正常顯示的前提下，消除了入射至非顯示區(qū)域的所有可見(jiàn)光的反射光線，并且無(wú)需增加顯示面板的厚度，從而提升了畫(huà)面品質(zhì)及產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0069]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括如上所述的顯示基板11。具有與前述實(shí)施例提供的顯示基板11相同的結(jié)構(gòu)和有益效果，由于前述實(shí)施例已經(jīng)對(duì)顯示基板11的結(jié)構(gòu)和有益效果進(jìn)行了詳細(xì)的描述，此處不再贅述。
[0070]需要說(shuō)明的是，在本發(fā)明實(shí)施例中，顯示裝置具體可以包括液晶顯示裝置，例如該顯示裝置可以為液晶顯示器、液晶電視、數(shù)碼相框、手機(jī)或平板電腦等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或者部件。
[0071]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置的制備方法，包括形成顯示基板11的方法，所述顯示基板11可以包括襯底基板110、位于襯底基板110第一表面A上的黑矩陣111以及由黑矩陣111橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元112，如圖7所示，所述制備方法還可以包括(其中，以下實(shí)施例中，是以顯示基板11為彩膜基板10’為例進(jìn)行說(shuō)明):
[0072]S301、如圖8a所不,在襯底基板110的第二表面B形成光刻膠20。其中，第一表面A與第二表面B相對(duì)設(shè)置。
[0073]S302、如圖8b所示，對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元112位置處的光刻膠20進(jìn)行固化處理，以使得該位置處的光刻膠20固化。
[0074]S303、將對(duì)應(yīng)黑矩陣111位置處的光刻膠20去除。
[0075]S304、如圖8c所示，對(duì)對(duì)應(yīng)黑矩陣111位置處的襯底基板110的第二表面B進(jìn)行毛化處理，使得襯底基板I1的第二表面B未被光刻膠覆蓋的部分凹凸不平。
[0076]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置的制備方法，包括，首先，形成顯示基板，該顯示基板包括襯底基板、位于襯底基板第一表面上的黑矩陣以及由黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元；然后，在襯底基板的第二表面形成光刻膠，其中第一表面和第二表面相對(duì)設(shè)置；由于顯示面板的顯示區(qū)域?qū)?yīng)顯示單元的位置，因此接下來(lái)可以對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置處的光刻膠進(jìn)行固化處理，以使其對(duì)對(duì)應(yīng)顯示單元位置的襯底基板進(jìn)行保護(hù)；然后，將對(duì)應(yīng)的黑矩陣位置處的光刻膠去除，以使得襯底基板上對(duì)應(yīng)黑矩陣的位置未被光刻膠覆蓋；之后，對(duì)對(duì)應(yīng)黑矩陣位置處的襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理，使得襯底基板的第二表面未被光刻膠覆蓋的區(qū)域凹凸不平；這樣一來(lái)，可見(jiàn)光照射至顯示面板上對(duì)應(yīng)黑矩陣的非顯示區(qū)域時(shí)，通過(guò)上述凹凸不平的表面，可以使得所有入射至該表面的可見(jiàn)光發(fā)生漫反射，從而可以消除非顯示區(qū)域的反射光。雖然襯底基板對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的位置未經(jīng)過(guò)刻蝕處理，但是由于顯示區(qū)域出射的用于顯示的光線強(qiáng)度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于反射光線的強(qiáng)度，因此該區(qū)域的反射光線對(duì)顯示效果造成的影響甚微。因此，本發(fā)明提供的實(shí)施例能夠在保證顯示面板正常顯示的前提下，消除了入射至非顯示區(qū)域的所有可見(jiàn)光的反射光線，并且無(wú)需增加顯示面板的厚度，從而提升了畫(huà)面品質(zhì)及廣品的質(zhì)量。
[0077]以下通過(guò)具體的實(shí)施例對(duì)顯示裝置的制備方法進(jìn)行詳細(xì)的描述。
[0078]實(shí)施例三
[0079]S401、在上述步驟S301之后，如圖9和圖10所示，在光刻膠20的表面設(shè)置掩膜版21。其中，所述掩膜版21的透光區(qū)域C對(duì)應(yīng)顯示單元112層的位置，掩膜版21的不透光區(qū)域D對(duì)應(yīng)黑矩陣111的位置。
[0080]S402、對(duì)光刻膠20進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)掩膜版21的透光區(qū)域A的光刻膠20固化，從而可以對(duì)襯底基板110表面對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的部分進(jìn)行保護(hù)，避免毛化處理將其表面粗糙化。
[0081]S403、在襯底基板110為玻璃基板的情況下，可以在氫氟酸溶液中充入干燥的空氣以形成具有氣泡的刻蝕溶液22，并如圖5b所示，將該刻蝕溶液22通過(guò)高壓氣體噴灑于襯底基板I1遠(yuǎn)離陣列基板10的一側(cè)表面(第二表面B)，形成如圖8d所示的凹凸不平的表面。
[0082]S404、如圖8d所示，剝離對(duì)應(yīng)顯示單元112位置處的光刻膠20。
[0083]實(shí)施例四
[0084]在上述步驟S301之后，如圖11所示，以黑矩陣111作為掩膜，從襯底基板110的第一表面A —側(cè)對(duì)光刻膠20進(jìn)行曝光。以使得該位置的光刻膠20固化,從而可以對(duì)襯底基板110表面對(duì)應(yīng)顯示區(qū)域的部分進(jìn)行保護(hù)，避免毛化處理將其表面粗糙化。
[0085]接下來(lái)可以采用步驟S403、S404，或者采用步驟S304。
[0086]實(shí)施例二相對(duì)于實(shí)施例一而言，利用黑矩陣111的不透光的特性，采用不同的曝光方向，可以省去設(shè)置掩膜版21的步驟。并且實(shí)施例二可以在陣列基板10和彩膜基板10’對(duì)盒之后進(jìn)行，可以避免在對(duì)盒的過(guò)程中，機(jī)械手通過(guò)真空吸附的方法抓取彩膜基板10’時(shí)，由于彩膜基板10’的襯底基板110遠(yuǎn)離陣列基板10 —側(cè)的部分區(qū)域(對(duì)應(yīng)黑矩陣111的位置)的表面粗糙，而導(dǎo)致出現(xiàn)真空吸附不良的現(xiàn)象產(chǎn)生。
[0087]以上所述，僅為本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本【技術(shù)領(lǐng)域】的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示基板的制備方法，包括在襯底基板的第一表面形成黑矩陣，以及由所述黑矩陣橫縱交叉界定出多個(gè)顯示單元的方法，其特征在于，還包括: 在所述襯底基板的第二表面上形成光刻膠；其中，所述第一表面與所述第二表面相對(duì)設(shè)置； 對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理； 將對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述光刻膠去除； 對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理包括: 在所述光刻膠的表面設(shè)置掩膜版，所述掩膜版的透光區(qū)域?qū)?yīng)所述顯示單元的位置，所述掩膜版的不透光區(qū)域?qū)?yīng)所述黑矩陣的位置； 對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)所述掩膜版的透光區(qū)域的光刻膠固化。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理包括: 以所述黑矩陣作為掩膜，從所述襯底基板第一表面的一側(cè)對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置的光刻膠固化。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理包括: 在將對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述光刻膠去除之后，將刻蝕溶液噴灑于所述襯底基板的第二表面，對(duì)所述第二表面未被所述光刻膠覆蓋的區(qū)域進(jìn)行刻蝕。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述刻蝕溶液中添加有氣泡。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，在所述襯底基板為玻璃基板的情況下，所述刻蝕溶液包括氫氟酸溶液。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，在所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理的步驟之后，所述方法還包括: 剝離對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠。
8.—種顯示基板，包括襯底基板，以及位于襯底基板第一表面上的黑矩陣以及由所述黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元；其特征在于， 在襯底基板第二表面對(duì)應(yīng)所述黑矩陣的部分凹凸不平；其中，所述第一表面與所述第二表面相對(duì)設(shè)置。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求8所述的顯示基板。
10.一種顯示裝置的制備方法，包括形成顯示基板的方法，所述顯示基板包括襯底基板、位于所述襯底基板第一表面上的黑矩陣以及由所述黑矩陣橫縱交叉界定出的多個(gè)顯示單元，其特征在于，還包括: 在所述襯底基板的第二表面形成光刻膠，其中，所述第一表面與所述第二表面相對(duì)設(shè)置； 對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理； 將對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述光刻膠去除； 對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理包括: 在所述光刻膠的表面設(shè)置掩膜版，所述掩膜版的透光區(qū)域?qū)?yīng)所述顯示單元的位置，所述掩膜版的不透光區(qū)域?qū)?yīng)所述黑矩陣的位置； 對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)所述掩膜版的透光區(qū)域的光刻膠固化。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠進(jìn)行固化處理包括: 以所述黑矩陣作為掩膜，從所述襯底基板第一表面的一側(cè)對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光，以使得對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的光刻膠固化。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制備方法，其特征在于，所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理包括: 在將對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述光刻膠去除之后，將刻蝕溶液噴灑于所述襯底基板的第二表面，對(duì)所述第二表面未被所述光刻膠覆蓋的區(qū)域進(jìn)行刻蝕。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的顯示裝置的制備方法，其特征在于，在所述對(duì)對(duì)應(yīng)所述黑矩陣位置處的所述襯底基板的第二表面進(jìn)行毛化處理的步驟之后，所述方法還包括: 剝離對(duì)應(yīng)所述顯示單元位置處的所述光刻膠。
【文檔編號(hào)】G02F1/1333GK104297978SQ201410599115
【公開(kāi)日】2015年1月21日 申請(qǐng)日期:2014年10月30日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月30日
【發(fā)明者】武延兵 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司