一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法，采用并行曝光控制技術(shù)，屬于直寫式光刻機(jī)曝光【技術(shù)領(lǐng)域】。首先對A工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作，后將A工件臺移動至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光；同時對B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作，后將B工件臺移動至曝光起始位置，等待掃描曝光；A工件臺完成掃描曝光后，退出A工件臺，并對A工件臺進(jìn)行下板、上新板、對準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作，同時開始對B工件臺進(jìn)行掃描曝光流程。本發(fā)明大幅降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性，多個工件臺在各自的工作區(qū)域內(nèi)互不干擾，使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒蹋瑯O大地縮短了曝光時間。此外本發(fā)明提高了曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率，在保證光刻精度的同時，不會增加任何耗時。
【專利說明】一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種直寫光刻方法，具體是一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法，屬于直寫式光刻機(jī)曝光【技術(shù)領(lǐng)域】。
【背景技術(shù)】
[0002]直寫式光刻技術(shù)是近年來發(fā)展較快的、以替代傳統(tǒng)的掩膜板式光刻技術(shù)的影像直接轉(zhuǎn)移技術(shù)，在半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域中有著越來越重要的地位。該技術(shù)可以縮短工藝流程，并降低制造成本。目前市場上的主流直寫式光刻機(jī)大多以單工件臺方式進(jìn)行掃描曝光。在單工件臺系統(tǒng)中，用于曝光的基板的上板、對準(zhǔn)、曝光、下板是依次進(jìn)行的。依據(jù)目前的結(jié)構(gòu)系統(tǒng)，各操作流程已經(jīng)達(dá)到耗時的上限，很難再縮短某個操作步驟的操作時間，即單工件臺的直寫式光刻機(jī)由于各操作流程的連續(xù)性，已很難再提高產(chǎn)能。于是便有了雙工件臺掃描技術(shù)，一個工件臺進(jìn)行掃描曝光，另一個工件臺進(jìn)行上下板、對準(zhǔn)等操作，可大幅提高設(shè)備產(chǎn)能。
[0003]目前采用雙工件臺設(shè)計的直寫式光刻機(jī)，都是垂直安裝方式進(jìn)行設(shè)計的。即兩個工件臺為上下結(jié)構(gòu)，由于兩個工件臺在垂直方向上的落差，要求聚焦模塊和對準(zhǔn)模塊必須要上下移動，這樣增加了結(jié)構(gòu)設(shè)計難度，并且頻繁的上下移動，會導(dǎo)致對準(zhǔn)精度的降低及增加對準(zhǔn)耗時。過于緊湊的上下工件臺結(jié)構(gòu)也導(dǎo)致真空系統(tǒng)難于安裝，基板本身的翹曲以及工件臺在高速運動中所導(dǎo)致的基板移動都會降低曝光品質(zhì)及良率。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0004]針對上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問題，本發(fā)明提供一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法，大幅降低結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性，使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒蹋瑯O大地縮短曝光時間，提高曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率，在保證光刻精度的同時，不會增加任何耗時。
[0005]為了實現(xiàn)上述目的，本多工件臺協(xié)作直寫光刻方法所采用的具體步驟如下:
[0006]1)、首先對A工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作，完成后將A工件臺移動至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光；
[0007]2)、在A工件臺進(jìn)行掃描曝光的同時，對B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作；
[0008]3)、B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作完成后，將B工件臺移動至曝光起始位置，等待掃描曝光；
[0009]4)、A工件臺完成掃描曝光后，退出A工件臺，并對A工件臺進(jìn)行下板、上新板、對準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作，同時開始對B工件臺進(jìn)行掃描曝光流程；
[0010]5)、上述步驟循環(huán)往復(fù)進(jìn)行，形成整機(jī)操作的上下板、對準(zhǔn)與掃描曝光流程的同步進(jìn)行。
[0011]進(jìn)一步，所述A工件臺與B工件臺并排平行地安裝在兩個掃描軸上，在曝光過程中分別隨各自的掃描軸進(jìn)行移動，分別完成對準(zhǔn)、掃描曝光動作。
[0012]與現(xiàn)有的直寫光刻方法相比，本多工件臺協(xié)作直寫光刻方法大幅降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性，兩個工件臺在各自的工作區(qū)域內(nèi)互不干擾，一個工件臺在掃描曝光的過程中，另一個工件臺進(jìn)行上下板、對準(zhǔn)等操作流程，使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒?，極大地縮短了曝光時間。此外本多工件臺協(xié)作直寫光刻方法提高了曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率，在保證光刻精度的同時，不會增加任何耗時。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0013]圖1為本發(fā)明的工作流程圖；
[0014]圖2為本發(fā)明的一種工作原理圖；
[0015]圖3為本發(fā)明的另一種工作原理圖。
【具體實施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對本發(fā)明做進(jìn)一步說明。
[0017]如圖1所示，本多工件臺協(xié)作直寫光刻方法所采用的具體步驟如下:
[0018]1)、首先對A工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作，完成后將A工件臺移動至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光；
[0019]2)、在A工件臺進(jìn)行掃描曝光的同時，對B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作；
[0020]3)、B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作完成后，將B工件臺移動至曝光起始位置，等待掃描曝光；
[0021]4)、A工件臺完成掃描曝光后，退出A工件臺，并對A工件臺進(jìn)行下板、上新板、對準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作，同時開始對B工件臺進(jìn)行掃描曝光流程；
[0022]5)、上述步驟循環(huán)往復(fù)進(jìn)行，形成整機(jī)操作的上下板、對準(zhǔn)與掃描曝光流程的同步進(jìn)行。
[0023]如圖2和圖3所示，所述A工件臺與B工件臺并排平行地安裝在兩個掃描軸上，在曝光過程中分別隨各自的掃描軸進(jìn)行移動，分別完成對準(zhǔn)、掃描曝光動作。所述工作流程循環(huán)往復(fù)進(jìn)行，形成乒乓式的作業(yè)流程，以達(dá)到操作流程并行進(jìn)行的目的。
[0024]如圖2所示，當(dāng)A工件臺在進(jìn)行正常的掃描曝光的同時，B工件臺進(jìn)行前一塊基板的下板，當(dāng)前基板的上板并進(jìn)行對準(zhǔn)準(zhǔn)備工作，然后B工件臺移動至曝光起始位置等待曝光。
[0025]如圖3所不，當(dāng)A工件臺曝光完成后，光路系統(tǒng)隨步進(jìn)軸移動至B工件臺臺面之上，開始對B工件臺進(jìn)行掃描曝光。同時，A工件臺退出至安全位置進(jìn)行下板、上下一塊基板、對準(zhǔn)等工作，然后移動到曝光起始位置等待曝光。
[0026]綜上所述，本多工件臺協(xié)作直寫光刻方法大幅降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性，兩個工件臺在各自的工作區(qū)域內(nèi)互不干擾，一個工件臺在掃描曝光的過程中，另一個工件臺進(jìn)行上下板、對準(zhǔn)等操作流程，使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒?，極大地縮短了曝光時間。此外本多工件臺協(xié)作直寫光刻方法提高了曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率，在保證光刻精度的同時，不會增加任何耗時。
【權(quán)利要求】
1.一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法，其特征在于，具體步驟如下: 1)、首先對A工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作，完成后將A工件臺移動至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光； 2)、在A工件臺進(jìn)行掃描曝光的同時，對B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作； 3)、B工件臺進(jìn)行上板、對準(zhǔn)操作完成后，將B工件臺移動至曝光起始位置，等待掃描曝光; 4)、A工件臺完成掃描曝光后，退出A工件臺，并對A工件臺進(jìn)行下板、上新板、對準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作，同時開始對B工件臺進(jìn)行掃描曝光流程； 5)、上述步驟循環(huán)往復(fù)進(jìn)行，形成整機(jī)操作的上下板、對準(zhǔn)與掃描曝光流程的同步進(jìn)行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多工件臺協(xié)作直寫光刻方法，其特征在于， 所述A工件臺與B工件臺并排平行地安裝在兩個掃描軸上，在曝光過程中分別隨各自的掃描軸進(jìn)行移動，分別完成對準(zhǔn)、掃描曝光動作。
【文檔編號】G03F7/20GK104375389SQ201410539501
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2014年10月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月13日
【發(fā)明者】曹旸, 李陽 申請人:江蘇影速光電技術(shù)有限公司