一種顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示裝置，由于在襯底基板上形成黑矩陣圖形后直接制作彩膜層圖形，之后才對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在該第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形，接著，在經(jīng)過激光處理后的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，這樣第一修補(bǔ)材料可以被限制在已形成的彩膜層圖形中的相鄰的兩個(gè)色阻之間，通過控制第一修補(bǔ)材料的使用量，可以使第一修補(bǔ)材料不會擴(kuò)散到襯底基板的開口區(qū)域，不僅可以省去采用激光處理消除擴(kuò)散到顯示面板的開口區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的步驟，還可以節(jié)省第一修補(bǔ)材料的使用，并且，采用上述方法修復(fù)后的黑矩陣圖形的表面較平整，還可以提高顯示面板的顯示品質(zhì)。
【專利說明】—種顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示
裝直。
【背景技術(shù)】
[0002]在彩膜基板的制作過程中，一般采用構(gòu)圖工藝在襯底基板上依次形成黑矩陣圖形和彩膜層圖形等。在經(jīng)過構(gòu)圖工藝形成黑矩陣圖形后，需要對形成的黑矩陣圖形進(jìn)行檢查，判斷黑矩陣圖形中是否存在缺失區(qū)域(缺失區(qū)域是指本應(yīng)有黑矩陣圖形的區(qū)域無黑矩陣圖形的情況)或殘留區(qū)域(殘留區(qū)域是指本應(yīng)無黑矩陣圖形的區(qū)域有黑矩陣圖形的情況)。黑矩陣圖形中存在缺失區(qū)域會導(dǎo)致顯示面板產(chǎn)生漏光的問題，黑矩陣圖形中存在殘留區(qū)域會影響顯示面板的開口率，這兩種情況都會影響顯示面板的顯示品質(zhì)。
[0003]目前，在現(xiàn)有的對黑矩陣圖形中的缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)的方法中，在襯底基板上采用構(gòu)圖工藝形成黑矩陣圖形之后，一般進(jìn)行如下步驟:首先，采用激光對黑矩陣圖形101中的缺失區(qū)域102進(jìn)行清除處理，如圖1a所示；然后，在黑矩陣圖形101中的缺失區(qū)域102滴入黑色光刻膠103，如圖1b所示；接著，對擴(kuò)散到襯底基板的開口區(qū)域的黑色光刻膠103再次進(jìn)行激光清除處理，即清除如圖1c所示的斜線陰影區(qū)域；最后，得到修復(fù)后的黑矩陣圖形101，如圖1d所示。而對于黑矩陣圖形中的殘留區(qū)域的修復(fù)方法，一般直接對黑矩陣圖形中的殘留區(qū)域進(jìn)行激光處理，清除位于襯底基板的開口區(qū)域的黑矩陣圖形，即可完成對黑矩陣圖形中的殘留區(qū)域的修復(fù)。在對黑矩陣圖形修復(fù)完成后，再進(jìn)行諸如構(gòu)圖形成彩膜層圖形等后續(xù)工藝。
[0004]上述對黑矩陣圖形中的缺失區(qū)域的修復(fù)方法較為復(fù)雜，需要進(jìn)行兩次激光清除處理，并且，需要滴入的黑色光刻膠只有部分用于修復(fù)黑矩陣圖形中的缺失區(qū)域，其余部分的黑色光刻膠被激光清除掉，這樣會造成資源浪費(fèi)；此外，采用上述修復(fù)方法修復(fù)后的黑矩陣圖形的表面會類似于球面，造成修復(fù)后的黑矩陣圖形的表面不平整，從而影響顯示面板的顯示品質(zhì)。
[0005]因此，如何優(yōu)化對彩膜基板中的黑矩陣圖形的修復(fù)方式，是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]有鑒于此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示裝置，用以優(yōu)化對黑矩陣圖形的修復(fù)方式。
[0007]因此，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的修復(fù)方法，包括:
[0008]在襯底基板上形成黑矩陣圖形；
[0009]在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置；
[0010]在形成有所述黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形；
[0011]根據(jù)所述第一圖形缺失區(qū)域的位置，對所述襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除所述襯底基板在所述第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形；
[0012]在經(jīng)過激光處理后的所述襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，對所述第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理。
[0013]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述顯示基板的修復(fù)方法，由于在襯底基板上形成黑矩陣圖形后直接制作彩膜層圖形，之后，才對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在該第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形，接著，在經(jīng)過激光處理后的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，這樣第一修補(bǔ)材料可以被限制在已形成的彩膜層圖形中的相鄰的兩個(gè)色阻之間，通過控制第一修補(bǔ)材料的使用量，可以使第一修補(bǔ)材料不會擴(kuò)散到襯底基板的開口區(qū)域，不僅可以省去采用激光處理消除擴(kuò)散到顯示面板的開口區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的步驟，還可以節(jié)省第一修補(bǔ)材料的使用，并且，采用上述方法修復(fù)后的黑矩陣圖形的表面較平整，還可以提高顯示面板的顯示品質(zhì)。
[0014]較佳地，為了避免對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域的修復(fù)出現(xiàn)遺漏的問題，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，所述在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置，具體包括:在形成的所述黑矩陣圖形中確定是否存在第一圖形缺失區(qū)域，在確定存在第一圖形缺失區(qū)域時(shí)，標(biāo)記所述第一圖形缺失區(qū)域的位置信息。
[0015]較佳地，為了使修復(fù)后的黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域的表面更加平整，從而提高顯示面板的顯示品質(zhì)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，填充于所述第一圖形缺失區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的厚度小于或等于所述黑矩陣圖形的厚度。
[0016]較佳地，為了避免形成的黑矩陣圖形擴(kuò)散到顯示面板的開口區(qū)域，影響顯示面板的開口率，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在形成有所述黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之前，還包括:
[0017]在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形殘留區(qū)域及其位置，根據(jù)所述第一圖形殘留區(qū)域的位置，對所述襯底基板的第一圖形殘留區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除所述襯底基板在所述第一圖形殘留區(qū)域內(nèi)的所有圖形。
[0018]進(jìn)一步地，為了簡化修復(fù)的過程，節(jié)省修復(fù)的時(shí)間，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置的同時(shí)，確定存在的所述第一圖形殘留區(qū)域及其位置。
[0019]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在所述襯底基板上形成彩膜層圖形之前，在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置。
[0020]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在形成有所述黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之后，還包括:
[0021]確定所述彩膜層圖形中存在的第二圖形缺失區(qū)域及其位置，根據(jù)所述第二圖形缺失區(qū)域的位置，對所述第二圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理；
[0022]確定所述彩膜層圖形中存在的第二圖形殘留區(qū)域及其位置，根據(jù)所述第二圖形殘留區(qū)域的位置，對所述第二圖形殘留區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理。
[0023]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板，所述顯示基板采用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述方法制得。
[0024]本發(fā)明實(shí)施例還提供了 一種顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述顯示基板?！緦＠綀D】

【附圖說明】
[0025]圖1a-圖1d分別為現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板中黑矩陣圖形中的缺失區(qū)域的修復(fù)方法中各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0026]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的修復(fù)方法的流程圖；
[0027]圖3a_圖3c分別為本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的修復(fù)方法中各步驟的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0028]下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示裝置的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)地說明。
[0029]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的修復(fù)方法，如圖2所示，具體步驟包括:
[0030]S201、在襯底基板上形成黑矩陣圖形；
[0031]具體地，以利用正性光刻膠采用構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成黑矩陣圖形為例進(jìn)行說明，首先，在襯底基板上依次形成黑矩陣薄膜和光刻膠薄膜；然后，采用掩膜板對光刻膠薄膜進(jìn)行曝光、顯影處理；接著，對沒有覆蓋光刻膠的黑矩陣薄膜進(jìn)行刻蝕處理；最后，剝離剩余的光刻膠，得到黑矩陣圖形；
[0032]S202、在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置；
[0033]具體地，在采用構(gòu)圖工藝在襯底基板上形成黑矩陣圖形之后，對形成的黑矩陣圖形進(jìn)行檢查，確定在形成的黑矩陣圖形中存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置；
[0034]S203、在形成有黑矩陣圖形I的襯底基板上形成彩膜層圖形2，如圖3a所示；
[0035]具體地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法在具體實(shí)施時(shí)，由于彩膜層圖形的形成不會因?yàn)楹诰仃噲D形中存在第一圖形缺失區(qū)域而受到影響，因此，在襯底基板上形成黑矩陣圖形之后，可以暫時(shí)不對黑矩陣圖形中存在的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)，而是在形成彩膜層圖形之后再對形成的黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)；
[0036]并且，在執(zhí)行步驟S201在襯底基板上形成黑矩陣圖形之后，可以先執(zhí)行步驟S202在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置，然后執(zhí)行步驟S203在形成有黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形；或者，也可以先執(zhí)行步驟S203在形成有黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形，然后執(zhí)行步驟S202在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置，在此不做限定；
[0037]S204、根據(jù)第一圖形缺失區(qū)域3的位置，對襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域3進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在第一圖形缺失區(qū)域3內(nèi)的所有圖形，如圖3b所示，這樣可以為后續(xù)在襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料做好準(zhǔn)備工作，以便于后續(xù)在對襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料后達(dá)到的修復(fù)效果更佳；
[0038]S205、在經(jīng)過激光處理后的襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域3內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，對第一圖形缺失區(qū)域3進(jìn)行修復(fù)處理，如圖3c所示；
[0039]具體地，第一修補(bǔ)材料可以為形成黑矩陣圖形的材料，例如:黑色光刻膠等；或者，還可以為其他不透光的材料，在此不做限定。
[0040]本發(fā)明實(shí)施例提供的上述顯示基板的修復(fù)方法，由于在襯底基板上形成黑矩陣圖形后直接制作彩膜層圖形，之后，才對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在該第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形，接著，在經(jīng)過激光處理后的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，這樣第一修補(bǔ)材料可以被限制在已形成的彩膜層圖形中的相鄰的兩個(gè)色阻之間，通過控制第一修補(bǔ)材料的使用量，可以使第一修補(bǔ)材料不會擴(kuò)散到襯底基板的開口區(qū)域，不僅可以省去采用激光處理消除擴(kuò)散到顯示面板的開口區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的步驟，還可以節(jié)省第一修補(bǔ)材料的使用，并且，采用上述方法修復(fù)后的黑矩陣圖形的表面較平整，還可以提高顯示面板的顯示品質(zhì)。
[0041]較佳地，為了避免對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域的修復(fù)出現(xiàn)遺漏的問題，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S202在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置，具體可以包括:在形成的黑矩陣圖形中確定是否存在第一圖形缺失區(qū)域，在確定存在第一圖形缺失區(qū)域時(shí)，標(biāo)記第一圖形缺失區(qū)域的位置信息；具體地，可以通過自動光學(xué)檢查機(jī)制定坐標(biāo)系檢測第一圖形缺失區(qū)域的具體位置，然后將第一圖形缺失區(qū)域的位置信息記錄并生成文件，再將記錄有第一圖形缺失區(qū)域的位置信息的文件上傳服務(wù)器。
[0042]具體地，在讀取上傳給服務(wù)器的文件之后，采用相同的坐標(biāo)系，根據(jù)標(biāo)記的第一圖形缺失區(qū)域的位置信息，對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理，在完成對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域的修復(fù)后，再將文件上傳服務(wù)器，后續(xù)工序在文件中添加新的檢測信息，從而保證第一圖形缺失區(qū)域的位置信息的繼承。
[0043]較佳地，為了使修復(fù)后的黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域的表面更加平整，從而提高顯示面板的顯示品質(zhì)，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，需要保證填充于第一圖形缺失區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的厚度小于或等于黑矩陣圖形的厚度。
[0044]較佳地，為了避免形成的黑矩陣圖形覆蓋顯示面板的開口區(qū)域，影響顯示面板的開口率，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中的步驟S203在形成有黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之前，還可以包括:在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形殘留區(qū)域及其位置，根據(jù)第一圖形殘留區(qū)域的位置，對襯底基板的第一圖形殘留區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在第一圖形殘留區(qū)域內(nèi)的所有圖形。
[0045]進(jìn)一步地，為了簡化修復(fù)的過程，節(jié)省修復(fù)的時(shí)間，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在對形成的黑矩陣圖形進(jìn)行檢測時(shí)，在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置的同時(shí)，確定存在的第一圖形殘留區(qū)域及其位置，即在同一次檢測工藝時(shí)完成對第一圖形殘留區(qū)域和第一圖形缺失區(qū)域的檢測。
[0046]基于此，由于對形成的黑矩陣圖形中的第一圖形殘留區(qū)域的修復(fù)過程需要在步驟S203在形成有黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之前進(jìn)行，因此，與在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形殘留區(qū)域及其位置同時(shí)進(jìn)行的步驟S202在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置也需要在步驟S203在形成有黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之前進(jìn)行，即在襯底基板上形成彩膜層圖形之前，在形成的黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置。
[0047]具體地，在本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法中，在形成有黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之后，還可以包括:確定彩膜層圖形中存在的第二圖形缺失區(qū)域及其位置，根據(jù)第二圖形缺失區(qū)域的位置，對第二圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理；確定彩膜層圖形中存在的第二圖形殘留區(qū)域及其位置，根據(jù)第二圖形殘留區(qū)域的位置，對第二圖形殘留區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理。
[0048]具體地，以包括三種顏色(紅色、綠色和藍(lán)色)的色阻的彩膜層圖形為例，通過三次構(gòu)圖工藝分別形成紅色色阻、綠色色阻和藍(lán)色色阻，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法在具體實(shí)施時(shí)，在紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中均可能存在第二圖形缺失區(qū)域，以對紅色色阻中存在的第二圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理為例進(jìn)行說明，具體步驟可以包括:
[0049]首先，對襯底基板的第二圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在第二圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形；
[0050]然后，在經(jīng)過激光處理后的襯底基板的第二圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第二修補(bǔ)材料，對第二圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理。具體地，第二修補(bǔ)材料為形成彩膜層圖形中的紅色色阻的材料。
[0051]具體地，本發(fā)明實(shí)施例提供的上述修復(fù)方法在具體實(shí)施時(shí)，在紅色色阻、綠色色阻或藍(lán)色色阻中均可能存在第二圖形殘留區(qū)域，在形成的彩膜層圖形中確定存在第二圖形殘留區(qū)域及其位置后，可以對襯底基板的第二圖形殘留區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在第二圖形殘留區(qū)域內(nèi)的所有圖形。
[0052]基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板，該顯示基板采用本發(fā)明實(shí)施例提供的上述方法制得。該顯示基板的實(shí)施可以參見上述顯示基板的修復(fù)方法的實(shí)施例，重復(fù)之處不再贅述。
[0053]基于同一發(fā)明構(gòu)思，本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實(shí)施例提供的上述顯示基板，該顯示裝置可以為:液晶面板、OLED面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。該顯示裝置的實(shí)施可以參見上述顯示基板的實(shí)施例，重復(fù)之處不再贅述。
[0054]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示基板的修復(fù)方法、顯示基板及顯示裝置，由于在襯底基板上形成黑矩陣圖形后直接制作彩膜層圖形，之后，才對黑矩陣圖形中的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除襯底基板在該第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形，接著，在經(jīng)過激光處理后的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，這樣第一修補(bǔ)材料可以被限制在已形成的彩膜層圖形中的相鄰的兩個(gè)色阻之間，通過控制第一修補(bǔ)材料的使用量，可以使第一修補(bǔ)材料不會擴(kuò)散到襯底基板的開口區(qū)域，不僅可以省去采用激光處理消除擴(kuò)散到顯示面板的開口區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的步驟，還可以節(jié)省第一修補(bǔ)材料的使用，并且，采用上述方法修復(fù)后的黑矩陣圖形的表面較平整，還可以提高顯示面板的顯示品質(zhì)。
[0055]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種顯示基板的修復(fù)方法，其特征在于，包括: 在襯底基板上形成黑矩陣圖形； 在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置； 在形成有所述黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形； 根據(jù)所述第一圖形缺失區(qū)域的位置，對所述襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除所述襯底基板在所述第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)的所有圖形； 在經(jīng)過激光處理后的所述襯底基板的第一圖形缺失區(qū)域內(nèi)填充第一修補(bǔ)材料，對所述第一圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置，具體包括:在形成的所述黑矩陣圖形中確定是否存在第一圖形缺失區(qū)域，在確定存在所述第一圖形缺失區(qū)域時(shí)，標(biāo)記所述第一圖形缺失區(qū)域的位置信息。
3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，填充于所述第一圖形缺失區(qū)域的第一修補(bǔ)材料的厚度小于或等于所述黑矩陣圖形的厚度。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在形成有所述黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之前，還包括: 在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形殘留區(qū)域及其位置，根據(jù)所述第一圖形殘留區(qū)域的位置，對所述襯底基板的第一圖形殘留區(qū)域進(jìn)行激光處理，消除所述襯底基板在所述第一圖形殘留區(qū)域內(nèi)的所有圖形。
5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置的同時(shí)，確定存在的所述第一圖形殘留區(qū)域及其位置。
6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在所述襯底基板上形成彩膜層圖形之前，在形成的所述黑矩陣圖形中確定存在的第一圖形缺失區(qū)域及其位置。
7.如權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，在形成有所述黑矩陣圖形的襯底基板上形成彩膜層圖形之后，還包括: 確定所述彩膜層圖形中存在的第二圖形缺失區(qū)域及其位置，根據(jù)所述第二圖形缺失區(qū)域的位置，對所述第二圖形缺失區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理； 確定所述彩膜層圖形中存在的第二圖形殘留區(qū)域及其位置，根據(jù)所述第二圖形殘留區(qū)域的位置，對所述第二圖形殘留區(qū)域進(jìn)行修復(fù)處理。
8.—種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板采用如權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的方法制得。
9.一種顯示裝置，其特征在于，包括:如權(quán)利要求8所述的顯示基板。
【文檔編號】G02F1/13GK103969855SQ201410157713
【公開日】2014年8月6日 申請日期:2014年4月18日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月18日
【發(fā)明者】王旭, 王野, 張文富, 董洪濤 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司