一種曝光系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種曝光系統(tǒng)。該曝光系統(tǒng)包括光源和載臺(tái)，光源和載臺(tái)相對設(shè)置，載臺(tái)用于放置待曝光膜，光源發(fā)出的光線能對待曝光膜進(jìn)行曝光，還包括厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元電連接；厚度測量單元用于測量不同區(qū)域的待曝光膜的厚度；光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元用于根據(jù)不同區(qū)域的待曝光膜的厚度，對相應(yīng)區(qū)域的待曝光膜的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。該曝光系統(tǒng)通過設(shè)置厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，能夠改善由于不同區(qū)域的待曝光膜的厚度不均從而導(dǎo)致的經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸均一性差的問題，從而使得顯示產(chǎn)品顯示面板中各功能層的圖形尺寸更加均一，進(jìn)而使得顯示產(chǎn)品的性能更加穩(wěn)定。
【專利說明】一種曝光系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示【技術(shù)領(lǐng)域】，具體地，涉及一種曝光系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著人們生活水平的提高，人們對液晶顯示裝置的穩(wěn)定性要求越來越高。這就要求液晶面板的各功能層(如有源層、源極、漏極、數(shù)據(jù)線、柵線、像素電極和各個(gè)絕緣層等)的圖形尺寸有較好的均一性。
[0003]我們知道，液晶面板的各功能層的形成基本都需要經(jīng)過光刻工藝，光刻工藝通常包括光刻膠的涂覆、曝光、顯影和刻蝕四道工序，其中，每一道工序的工藝能力及穩(wěn)定性都會(huì)對最終形成的各功能層的圖形尺寸有直接影響。如:光刻膠涂覆不均勻會(huì)直接導(dǎo)致曝光后形成的各功能層的圖形尺寸不均一；曝光工序又會(huì)直接導(dǎo)致各功能層經(jīng)顯影之后的圖形尺寸不均一；顯影工序繼而直接導(dǎo)致各功能層在刻蝕之后的圖形尺寸不均一，嚴(yán)重影響液晶面板的性能。
[0004]在實(shí)際的光刻工藝中，我們發(fā)現(xiàn)，在光刻膠的涂覆工序中，正常涂覆在玻璃基板上的光刻膠膜層的厚度基本上都有中間薄四周厚的趨勢，并且在不同區(qū)域不同位置有無規(guī)律的膜厚情況；而且我們還發(fā)現(xiàn)即使是同一批次中的不同玻璃基板，光刻膠膜層的涂覆厚度也不完全一致。可以說在光刻膠的涂覆工序中就出現(xiàn)了不同玻璃基板、同一玻璃基板的不同位置的光刻膠膜層的厚度不同。
[0005]傳統(tǒng)的曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)如圖1所示(以鏡面投影式曝光設(shè)備為例)，光源I發(fā)出的光線通過掩模板6和透鏡組7后直接對光刻膠膜層8進(jìn)行曝光，由于照射到光刻膠膜層8任意位置或區(qū)域的曝光光強(qiáng)相同，所以采用該曝光設(shè)備會(huì)直接導(dǎo)致曝光后形成的各功能層的圖形尺寸不一致，進(jìn)而很容易進(jìn)一步導(dǎo)致各功能層出現(xiàn)不良，甚至?xí)绊懙揭壕姘宓姆€(wěn)定性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述技術(shù)問題，提供一種曝光系統(tǒng)。該曝光系統(tǒng)通過設(shè)置厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，能夠改善由于不同區(qū)域的待曝光膜的厚度不均從而導(dǎo)致的經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸均一性差的問題，從而使得顯示產(chǎn)品顯示面板中各功能層的圖形尺寸更加均一，進(jìn)而使得顯示產(chǎn)品的性能更加穩(wěn)定。
[0007]本發(fā)明提供一種曝光系統(tǒng)，包括光源和載臺(tái)，所述光源和所述載臺(tái)相對設(shè)置，所述載臺(tái)用于放置待曝光膜，所述光源發(fā)出的光線能對所述待曝光膜進(jìn)行曝光，還包括厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，所述厚度測量單元和所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元電連接；所述厚度測量單元用于測量不同區(qū)域的所述待曝光膜的厚度；所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元用于根據(jù)不同區(qū)域的所述待曝光膜的厚度，對相應(yīng)區(qū)域的所述待曝光膜的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0008]優(yōu)選地，所述厚度測量單元包括測量光源、分光元件、光采集模塊和處理模塊；所述分光元件與所述載臺(tái)相對，所述測量光源發(fā)出的光線通過所述分光元件照射到所述待曝光膜上；所述分光元件用于將從所述待曝光膜反射回來的光線進(jìn)行分光并獲得反射光譜；所述光采集模塊用于采集所述反射光譜，并將所述反射光譜轉(zhuǎn)換為模擬電信號；所述處理模塊用于對所述模擬電信號進(jìn)行處理以獲得所述待曝光膜的厚度，并將所述待曝光膜的厚度發(fā)送給所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元。
[0009]優(yōu)選地，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元包括調(diào)節(jié)模塊和轉(zhuǎn)換模塊；所述調(diào)節(jié)模塊包括兩塊對合設(shè)置的透明基板以及加注在所述透明基板之間的液晶，還包括用于控制所述液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)的控制電路，所述控制電路與所述轉(zhuǎn)換模塊電連接；所述轉(zhuǎn)換模塊用于接收所述待曝光膜的厚度并將其換算為控制所述液晶偏轉(zhuǎn)的電信號，且將所述電信號發(fā)送給所述控制電路；所述控制電路用于通過所述電信號控制所述液晶的偏轉(zhuǎn)；所述透明基板能與所述待曝光膜相對設(shè)置，所述調(diào)節(jié)模塊用于通過所述液晶的偏轉(zhuǎn)對所述待曝光膜的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0010]優(yōu)選地，所述處理模塊包括模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊和計(jì)算子模塊，所述模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊分別與所述光采集模塊和所述計(jì)算子模塊電連接，所述模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊用于將所述模擬電信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號；所述計(jì)算子模塊用于根據(jù)所述數(shù)字電信號計(jì)算獲得所述待曝光膜的厚度。
[0011]優(yōu)選地，所述待曝光膜劃分為多個(gè)待曝光區(qū)，所述厚度測量單元能對對應(yīng)著不同的所述待曝光區(qū)的所述待曝光膜的厚度進(jìn)行測量，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元能根據(jù)不同的所述待曝光區(qū)的所述待曝光膜的厚度分別對不同的所述待曝光區(qū)的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0012]優(yōu)選地,所述厚度測量單元還包括坐標(biāo)識(shí)別模塊，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元還包括坐標(biāo)匹配模塊，所述坐標(biāo)匹配模塊分別與所述坐標(biāo)識(shí)別模塊和所述控制電路電連接；所述坐標(biāo)識(shí)別模塊用于識(shí)別所述待曝光膜的厚度的測量區(qū)域的坐標(biāo)，并將所述坐標(biāo)發(fā)送給所述坐標(biāo)匹配模塊；所述坐標(biāo)匹配模塊用于接收所述坐標(biāo)，并將所述坐標(biāo)與所述待曝光膜的對應(yīng)區(qū)域進(jìn)行匹配；所述控制電路用于根據(jù)坐標(biāo)匹配結(jié)果控制所述待曝光膜相應(yīng)區(qū)域的所述液晶的偏轉(zhuǎn)。
[0013]優(yōu)選地，所述曝光系統(tǒng)還包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述厚度測量單元連接，用于將所述厚度測量單元移動(dòng)至所述待曝光膜的不同區(qū)域，還用于在測量結(jié)束后，將所述厚度測量單元移動(dòng)至所述待曝光膜以外。
[0014]優(yōu)選地，所述待曝光膜的不同區(qū)域的所述曝光光強(qiáng)與相應(yīng)區(qū)域的所述待曝光膜的厚度成正比。
[0015]優(yōu)選地，所述光源和所述載臺(tái)之間還能設(shè)置掩模板，所述掩模板用于在所述待曝光膜上形成不同的圖形，所述掩模板設(shè)置在所述調(diào)節(jié)模塊的入光側(cè)或出光側(cè)。
[0016]優(yōu)選地，所述掩模板貼附于兩塊所述透明基板中的任意一塊上。
[0017]優(yōu)選地，還包括透鏡組，所述透鏡組設(shè)置在所述光源和所述載臺(tái)之間，用于使形成在所述待曝光膜上的圖形等倍成像，以使經(jīng)曝光后的所述待曝光膜上形成與所述掩模板的圖案形狀和大小相同的圖形。
[0018]優(yōu)選地，還包括位置控制機(jī)構(gòu)，所述位置控制機(jī)構(gòu)與所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元相連，或者，所述位置控制機(jī)構(gòu)與所述載臺(tái)相連，所述位置控制機(jī)構(gòu)用于控制所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元移動(dòng)，或者，所述位置控制機(jī)構(gòu)用于控制所述載臺(tái)移動(dòng)，以使所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元相對所述待曝光膜移動(dòng)以便對所述待曝光膜進(jìn)行掃描式曝光。[0019]本發(fā)明的有益效果:本發(fā)明所提供的曝光系統(tǒng)，通過設(shè)置厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，使得該曝光系統(tǒng)能夠根據(jù)不同區(qū)域的待曝光膜的不同厚度，相應(yīng)地調(diào)節(jié)針對不同區(qū)域的待曝光膜的曝光光強(qiáng)，這能夠改善由于不同區(qū)域的待曝光膜的厚度不均從而導(dǎo)致的經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸均一性差的問題，即使得經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸更加均一，從而使得顯示產(chǎn)品顯示面板中各功能層的圖形尺寸更加均一，避免了各功能層出現(xiàn)不良，進(jìn)而使得顯示產(chǎn)品的性能更加穩(wěn)定。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中曝光設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖2為本發(fā)明實(shí)施例1中曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖3為本發(fā)明實(shí)施例2中曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]其中的附圖標(biāo)記說明:
[0024]1.光源；2.載臺(tái)；3.待曝光膜；4.厚度測量單元；41.測量光源；42.分光元件；43.光采集模塊；44.處理模塊；441.模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊；442.計(jì)算子模塊；45.坐標(biāo)識(shí)別模塊；5.光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元；51.調(diào)節(jié)模塊；511.透明基板；512.液晶；513.控制電路；52.轉(zhuǎn)換模塊；53.坐標(biāo)匹配模塊；6.掩模板；7.透鏡組；71.臺(tái)形鏡；
[0025]72.凸面鏡；73.凹面鏡；8.光刻膠膜層。
【具體實(shí)施方式】
[0026]為使本領(lǐng)域的技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明所提供的一種曝光系統(tǒng)作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0027]實(shí)施例1:
[0028]本實(shí)施例提供一種曝光系統(tǒng)，如圖2所示，包括光源I和載臺(tái)2，光源I和載臺(tái)2相對設(shè)置，載臺(tái)2用于放置待曝光膜3，光源I發(fā)出的光線能對待曝光膜3進(jìn)行曝光，還包括厚度測量單元4和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5，厚度測量單元4和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5電連接；厚度測量單元4用于測量不同區(qū)域的待曝光膜3的厚度；光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5用于根據(jù)不同區(qū)域的待曝光膜3的厚度，對相應(yīng)區(qū)域的待曝光膜3的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0029]通常，待曝光膜3可以直接用作顯示產(chǎn)品顯示面板中的某個(gè)功能層(如液晶顯示面板中的柵絕緣層、鈍化層、平坦層、隔墊物等)，也可以是涂覆在形成某功能層(如有源層、源極、漏極、數(shù)據(jù)線、柵線、像素電極等)的膜層上的光刻膠，光刻膠用于在曝光后形成顯示產(chǎn)品顯示面板中的該功能層的圖形。
[0030]厚度測量單元4和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5的設(shè)置使得該曝光系統(tǒng)能夠根據(jù)不同區(qū)域的待曝光膜3的不同厚度，相應(yīng)地調(diào)節(jié)針對不同區(qū)域的待曝光膜3的曝光光強(qiáng)，這能夠改善由于不同區(qū)域的待曝光膜3的厚度不均從而導(dǎo)致的經(jīng)曝光后待曝光膜3上形成的圖形尺寸均一性差的問題，即使得經(jīng)曝光后待曝光膜3上形成的圖形尺寸更加均一，從而使得顯示產(chǎn)品顯示面板中各功能層的圖形尺寸更加均一，避免了各功能層出現(xiàn)不良，進(jìn)而使得顯示產(chǎn)品的性能更加穩(wěn)定。
[0031]本實(shí)施例中，厚度測量單元4包括測量光源41、分光元件42、光采集模塊43和處理模塊44 ;分光元件42與載臺(tái)2相對，測量光源41發(fā)出的光線通過分光元件42照射到待曝光膜3上；分光元件42用于將從待曝光膜3反射回來的光線進(jìn)行分光并獲得反射光譜；光采集模塊43用于采集反射光譜，并將反射光譜轉(zhuǎn)換為模擬電信號；處理模塊44用于對模擬電信號進(jìn)行處理以獲得待曝光膜3的厚度，并將待曝光膜3的厚度發(fā)送給光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5。
[0032]其中，處理模塊44包括模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊441和計(jì)算子模塊442，模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊441分別與光采集模塊43和計(jì)算子模塊442電連接，模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊441用于將模擬電信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號；計(jì)算子模塊442用于根據(jù)數(shù)字電信號計(jì)算獲得待曝光膜3的厚度。
[0033]厚度測量單元4的設(shè)置能使不同區(qū)域的待曝光膜3的厚度測量更加準(zhǔn)確，測量過程也更加簡捷方便，能夠提高整個(gè)曝光系統(tǒng)的工作效率和工作質(zhì)量。
[0034]光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5包括調(diào)節(jié)模塊51和轉(zhuǎn)換模塊52 ;調(diào)節(jié)模塊51包括兩塊對合設(shè)置的透明基板511以及加注在透明基板511之間的液晶512，還包括用于控制液晶512發(fā)生偏轉(zhuǎn)的控制電路513，控制電路513與轉(zhuǎn)換模塊52電連接；轉(zhuǎn)換模塊52用于接收待曝光膜3的厚度并將其換算為控制液晶512偏轉(zhuǎn)的電信號，且將電信號發(fā)送給控制電路513;控制電路513用于通過電信號控制液晶512的偏轉(zhuǎn)；透明基板511能與待曝光膜3相對設(shè)置，調(diào)節(jié)模塊51用于通過液晶512的偏轉(zhuǎn)對待曝光膜3的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
[0035]光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5的設(shè)置能使不同區(qū)域的待曝光膜3根據(jù)其各自不同的厚度接收不同的曝光光強(qiáng)，從而使待曝光膜3整體在曝光后形成的圖形尺寸比較均一。
[0036]本實(shí)施例中，待曝光膜3劃分為多個(gè)待曝光區(qū)，厚度測量單元4能對對應(yīng)著不同的待曝光區(qū)的待曝光膜3的厚度進(jìn)行測量，光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5能根據(jù)不同的待曝光區(qū)的待曝光膜3的厚度分別對不同的待曝光區(qū)的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。其中，待曝光膜3的不同區(qū)域的曝光光強(qiáng)與相應(yīng)區(qū)域的待曝光膜3的厚度成正比，如此能夠確保待曝光膜3經(jīng)曝光后形成的圖形尺寸的均一'I"生。
[0037]需要說明的是，如果待曝光區(qū)足夠小，則可以看做是一個(gè)測量點(diǎn)，測量某個(gè)測量點(diǎn)的待曝光膜3的厚度，也可以作為該測量點(diǎn)所在的一個(gè)小測量區(qū)域的代表值。當(dāng)然，在待曝光區(qū)內(nèi)測量的測量點(diǎn)越多，該待曝光區(qū)的厚度越精確，對該待曝光區(qū)提供的曝光光強(qiáng)則越適當(dāng)。
[0038]本實(shí)施例中，厚度測量單元4還包括坐標(biāo)識(shí)別模塊45,光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5還包括坐標(biāo)匹配模塊53，坐標(biāo)匹配模塊53分別與坐標(biāo)識(shí)別模塊45和控制電路513電連接；坐標(biāo)識(shí)別模塊45用于識(shí)別待曝光膜3的厚度的測量區(qū)域的坐標(biāo)，并將坐標(biāo)發(fā)送給坐標(biāo)匹配模塊53 ;坐標(biāo)匹配模塊53用于接收坐標(biāo)，并將坐標(biāo)與待曝光膜3的對應(yīng)區(qū)域進(jìn)行匹配；控制電路513用于根據(jù)坐標(biāo)匹配結(jié)果控制待曝光膜3相應(yīng)區(qū)域的液晶512的偏轉(zhuǎn)。
[0039]坐標(biāo)識(shí)別模塊45和坐標(biāo)匹配模塊53的設(shè)置能使待曝光膜3的被測量區(qū)域的厚度與提供給該被測量區(qū)域的曝光光強(qiáng)準(zhǔn)確對應(yīng)，從而能夠?qū)崿F(xiàn)對應(yīng)不同區(qū)域的待曝光膜3的厚度相應(yīng)提供不同的曝光光強(qiáng)。
[0040]本實(shí)施例中，曝光系統(tǒng)還包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖2中未示出)，移動(dòng)機(jī)構(gòu)與厚度測量單元4連接，用于將厚度測量單元4移動(dòng)至待曝光膜3的不同區(qū)域，還用于在測量結(jié)束后，將厚度測量單元4移動(dòng)至待曝光膜3以外。
[0041]移動(dòng)機(jī)構(gòu)的設(shè)置能使厚度測量單元4實(shí)時(shí)靈活地移動(dòng)至待曝光膜3的不同區(qū)域，便于厚度測量單元4對待曝光膜3的不同區(qū)域或位置進(jìn)行厚度測量。另外，在待曝光膜3厚度測量結(jié)束后，并在開始曝光之前，為了不使厚度測量單元4將待曝光膜3的待曝光區(qū)域遮擋住，需要將厚度測量單元4移動(dòng)至待曝光膜3以外，所以移動(dòng)機(jī)構(gòu)的設(shè)置還大大方便了厚度測量單元4在工作區(qū)域和非工作區(qū)域之間的移動(dòng)。
[0042]本實(shí)施例中，光源I和載臺(tái)2之間還能設(shè)置掩模板6,掩模板6用于在待曝光膜3上形成不同的圖形，掩模板6設(shè)置在調(diào)節(jié)模塊51的入光側(cè)或出光側(cè)，本實(shí)施例中，掩模板6可設(shè)置在調(diào)節(jié)模塊51的出光側(cè)，且位于遠(yuǎn)離光源I的一塊透明基板511的出光側(cè)。
[0043]這里需要說明的是，掩模板6也可以設(shè)置在靠近光源I的一塊透明基板511的入光側(cè)或出光側(cè)，或者，設(shè)置在遠(yuǎn)離光源I的一塊透明基板511的入光側(cè)。掩模板6無論設(shè)置在哪一塊透明基板511的入光側(cè)還是出光側(cè)都不影響厚度測量單元4和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5的正常工作。
[0044]本實(shí)施例中，曝光系統(tǒng)還包括透鏡組7，透鏡組7設(shè)置在光源I和載臺(tái)2之間，用于使形成在待曝光膜3上的圖形等倍成像，以使經(jīng)曝光后的待曝光膜3上形成與掩模板6的圖案形狀和大小相同的圖形。其中，透鏡組7可以包括臺(tái)形鏡71、凸面鏡72和凹面鏡73，掩模板6與載臺(tái)2將臺(tái)形鏡71夾在中間，凸面鏡72和凹面鏡73垂直于載臺(tái)2放置，且臺(tái)形鏡71、凸面鏡72和凹面鏡73的中軸線重合。本實(shí)施例中的曝光系統(tǒng)采用鏡面投影的方式對待曝光膜3進(jìn)行曝光。透鏡組7的具體工作原理及過程:經(jīng)過掩模板6出射的光束經(jīng)由臺(tái)形鏡71其中一個(gè)斜面反射至凹面鏡73，再經(jīng)過凹面鏡73反射至凸面鏡72，然后經(jīng)凸面鏡72反射后再反射至凹面鏡73進(jìn)行匯聚后，經(jīng)由臺(tái)形鏡71另外一個(gè)斜面反射后透射至待曝光膜3上，以使經(jīng)曝光后的待曝光膜3上形成與掩模板6的圖案形狀和大小相同的圖形。
[0045]此處臺(tái)形鏡71和凸面鏡72起改變光路的作用，凹面鏡73起匯聚光束的作用，此凹面鏡73的作用相當(dāng)于凸透鏡成像，當(dāng)物距等于兩倍焦距時(shí)等大小成像，等大小的像經(jīng)過臺(tái)形鏡71和凸面鏡72反射之后，等大小地投影到待曝光膜3上，以使經(jīng)曝光后的待曝光膜3上形成與掩模板6的圖案形狀和大小相同的圖形。
[0046]由于厚度測量單元4和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5的設(shè)置，加大了光源I至待曝光膜3之間的距離，透鏡組7通過對曝光光線的反射和匯聚處理，能夠使待曝光膜3上形成的圖形更加清晰。
[0047]當(dāng)然此處的透鏡組也可以采用其他結(jié)構(gòu)的透鏡，只要能實(shí)現(xiàn)上述透鏡組的功能的透鏡結(jié)構(gòu)均可以，本實(shí)施例不做限定。
[0048]本實(shí)施例中，曝光系統(tǒng)還包括位置控制機(jī)構(gòu)(圖2中未示出)，位置控制機(jī)構(gòu)與光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5相連，或者，位置控制機(jī)構(gòu)與載臺(tái)2相連，位置控制機(jī)構(gòu)用于控制光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5移動(dòng)，或者，位置控制機(jī)構(gòu)用于控制載臺(tái)2移動(dòng)，以使光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5相對待曝光膜3移動(dòng)以便對待曝光膜3進(jìn)行掃描式曝光。
[0049]上述曝光系統(tǒng)的具體工作過程為:如整個(gè)待曝光膜3被劃分為16個(gè)待曝光區(qū)，每次對兩個(gè)待曝光區(qū)進(jìn)行曝光。先通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)將厚度測量單元4移動(dòng)到待曝光膜3的將要曝光的兩個(gè)待曝光區(qū)的不同位置上，對兩個(gè)待曝光區(qū)不同位置進(jìn)行膜厚數(shù)據(jù)采集，并記錄兩個(gè)待曝光區(qū)不同位置的待曝光膜3的厚度信息，經(jīng)過一定的方法(該方法的可以是:待曝光膜3厚度較厚的區(qū)域或位置，在相應(yīng)區(qū)域或位置進(jìn)行曝光時(shí)，通過控制電路513調(diào)整相應(yīng)區(qū)域或位置的透明基板511的電壓值，使得液晶分子發(fā)生相應(yīng)的扭曲，導(dǎo)致此區(qū)域或位置具有較大的光透過率)，在兩個(gè)待曝光區(qū)進(jìn)行曝光時(shí)，讀取處理過的與該兩個(gè)待曝光區(qū)待曝光膜3厚度對應(yīng)的數(shù)據(jù)信息，通過控制電路513調(diào)整位于掩模板6上方的透明基板511各區(qū)域的透光量，即可對兩個(gè)待曝光區(qū)進(jìn)行曝光。
[0050]兩個(gè)待曝光區(qū)曝光完畢后，通過位置控制機(jī)構(gòu)控制光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5移動(dòng)至對應(yīng)另兩個(gè)待曝光區(qū)的位置，并通過移動(dòng)機(jī)構(gòu)將厚度測量單元4移動(dòng)至這兩個(gè)待曝光區(qū)的不同位置，然后進(jìn)行同樣的測量和曝光過程，直至整個(gè)待曝光膜3被曝光完畢。當(dāng)然，也可以使光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5不動(dòng)，通過位置控制機(jī)構(gòu)控制載臺(tái)2移動(dòng)，載臺(tái)2移動(dòng)從而使置于載臺(tái)2上的待曝光膜3移動(dòng)，最終使待曝光區(qū)的位置與光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5相對應(yīng)。需要說明的是，為了保證待曝光膜3上曝光形成的圖形尺寸的均一性，每次需要采集兩個(gè)待曝光區(qū)的待曝光膜3厚度信息，綜合分析計(jì)算出每個(gè)待曝光區(qū)的透光率分布方案，然后再對這兩個(gè)待曝光區(qū)進(jìn)行曝光。
[0051]通過設(shè)置位置控制機(jī)構(gòu)可自動(dòng)完成掃描式曝光的過程，從而進(jìn)一步提高曝光效率。
[0052]另外需要說明的是，本實(shí)施例中的厚度測量單元4和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元5同樣適用于接近式曝光系統(tǒng)。
[0053]實(shí)施例1的有益效果:實(shí)施例1中的曝光系統(tǒng)通過設(shè)置厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，使得該曝光系統(tǒng)能夠根據(jù)不同區(qū)域的待曝光膜的不同厚度，相應(yīng)地調(diào)節(jié)針對不同區(qū)域的待曝光膜的曝光光強(qiáng)，這能夠改善由于不同區(qū)域的待曝光膜的厚度不均從而導(dǎo)致的經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸均一性差的問題，即使得經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸更加均一，從而使得顯示產(chǎn)品顯示面板中各功能層的圖形尺寸更加均一，避免了各功能層出現(xiàn)不良，進(jìn)而使得顯示產(chǎn)品的性能更加穩(wěn)定。
[0054]實(shí)施例2:
[0055]本實(shí)施例提供一種曝光系統(tǒng)，與實(shí)施例1不同的是，掩模板貼附于兩塊透明基板511中的任意一塊上。本實(shí)施例中，如圖3所示，掩模板6貼附于遠(yuǎn)離光源I的一塊透明基板511的出光側(cè)。
[0056]需要說明的是，掩模板6也可以貼附于靠近光源I的一塊透明基板511的入光側(cè)或出光側(cè)，或者，貼附于遠(yuǎn)離光源I的一塊透明基板511的入光側(cè)。另外，如果不考慮成本的話，也可以將掩模板6直接作為其中一個(gè)透明基板511。
[0057]本實(shí)施例中曝光系統(tǒng)的其他結(jié)構(gòu)與實(shí)施例1中相同，此處不再贅述。
[0058]實(shí)施例2的有益效果:實(shí)施例2中的曝光系統(tǒng)通過將掩模板貼附于兩塊透明基板中的任意一塊上，從而能夠節(jié)約該曝光系統(tǒng)占用的空間。同樣地，該曝光系統(tǒng)通過設(shè)置厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，使得該曝光系統(tǒng)能夠根據(jù)不同區(qū)域的待曝光膜的不同厚度，相應(yīng)地調(diào)節(jié)針對不同區(qū)域的待曝光膜的曝光光強(qiáng)，這能夠改善由于不同區(qū)域的待曝光膜的厚度不均從而導(dǎo)致的經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸均一性差的問題，即使得經(jīng)曝光后待曝光膜上形成的圖形尺寸更加均一，從而使得顯示產(chǎn)品顯示面板中各功能層的圖形尺寸更加均一，避免了各功能層出現(xiàn)不良，進(jìn)而使得顯示產(chǎn)品的性能更加穩(wěn)定。
[0059]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種曝光系統(tǒng)，包括光源和載臺(tái)，所述光源和所述載臺(tái)相對設(shè)置，所述載臺(tái)用于放置待曝光膜，所述光源發(fā)出的光線能對所述待曝光膜進(jìn)行曝光，其特征在于，還包括厚度測量單元和光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元，所述厚度測量單元和所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元電連接；所述厚度測量單元用于測量不同區(qū)域的所述待曝光膜的厚度；所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元用于根據(jù)不同區(qū)域的所述待曝光膜的厚度，對相應(yīng)區(qū)域的所述待曝光膜的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測量單元包括測量光源、分光元件、光采集模塊和處理模塊；所述分光元件與所述載臺(tái)相對，所述測量光源發(fā)出的光線通過所述分光元件照射到所述待曝光膜上；所述分光元件用于將從所述待曝光膜反射回來的光線進(jìn)行分光并獲得反射光譜；所述光采集模塊用于采集所述反射光譜，并將所述反射光譜轉(zhuǎn)換為模擬電信號；所述處理模塊用于對所述模擬電信號進(jìn)行處理以獲得所述待曝光膜的厚度，并將所述待曝光膜的厚度發(fā)送給所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元包括調(diào)節(jié)模塊和轉(zhuǎn)換模塊；所述調(diào)節(jié)模塊包括兩塊對合設(shè)置的透明基板以及加注在所述透明基板之間的液晶，還包括用于控制所述液晶發(fā)生偏轉(zhuǎn)的控制電路，所述控制電路與所述轉(zhuǎn)換模塊電連接；所述轉(zhuǎn)換模塊用于接收所述待曝光膜的厚度并將其換算為控制所述液晶偏轉(zhuǎn)的電信號，且將所述電信號發(fā)送給所述控制電路；所述控制電路用于通過所述電信號控制所述液晶的偏轉(zhuǎn)；所述透明基板能與所述待曝光膜相對設(shè)置，所述調(diào)節(jié)模塊用于通過所述液晶的偏轉(zhuǎn)對所述待曝光膜的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述處理模塊包括模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊和計(jì)算子模塊，所述模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊分別與所述光采集模塊和所述計(jì)算子模塊電連接，所述模/數(shù)轉(zhuǎn)換子模塊用于將所述模擬電信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字電信號；所述計(jì)算子模塊用于根據(jù)所述數(shù)字電信號計(jì)算獲得所述待曝光膜的厚度。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述待曝光膜劃分為多個(gè)待曝光區(qū)，所述厚度測量單元能對對應(yīng)著不同的所述待曝光區(qū)的所述待曝光膜的厚度進(jìn)行測量，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元能根據(jù)不同的所述待曝光區(qū)的所述待曝光膜的厚度分別對不同的所述待曝光區(qū)的曝光光強(qiáng)進(jìn)行調(diào)節(jié)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測量單元還包括坐標(biāo)識(shí)別模塊，所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元還包括坐標(biāo)匹配模塊，所述坐標(biāo)匹配模塊分別與所述坐標(biāo)識(shí)別模塊和所述控制電路電連接；所述坐標(biāo)識(shí)別模塊用于識(shí)別所述待曝光膜的厚度的測量區(qū)域的坐標(biāo)，并將所述坐標(biāo)發(fā)送給所述坐標(biāo)匹配模塊；所述坐標(biāo)匹配模塊用于接收所述坐標(biāo)，并將所述坐標(biāo)與所述待曝光膜的對應(yīng)區(qū)域進(jìn)行匹配；所述控制電路用于根據(jù)坐標(biāo)匹配結(jié)果控制所述待曝光膜相應(yīng)區(qū)域的所述液晶的偏轉(zhuǎn)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光系統(tǒng)還包括移動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述移動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述厚度測量單元連接，用于將所述厚度測量單元移動(dòng)至所述待曝光膜的不同區(qū)域，還用于在測量結(jié)束后，將所述厚度測量單元移動(dòng)至所述待曝光膜以外。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述待曝光膜的不同區(qū)域的所述曝光光強(qiáng)與相應(yīng)區(qū)域的所述待曝光膜的厚度成正比。
9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述光源和所述載臺(tái)之間還能設(shè)置掩模板，所述掩模板用于在所述待曝光膜上形成不同的圖形，所述掩模板設(shè)置在所述調(diào)節(jié)模塊的入光側(cè)或出光側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述掩模板貼附于兩塊所述透明基板中的任意一塊上。
11.根據(jù)權(quán)利要求9-10任意一項(xiàng)所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，還包括透鏡組，所述透鏡組設(shè)置在所述光源和所述載臺(tái)之間，用于使形成在所述待曝光膜上的圖形等倍成像，以使經(jīng)曝光后的所述待曝光膜上形成與所述掩模板的圖案形狀和大小相同的圖形。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，還包括位置控制機(jī)構(gòu)，所述位置控制機(jī)構(gòu)與所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元相連，或者，所述位置控制機(jī)構(gòu)與所述載臺(tái)相連，所述位置控制機(jī)構(gòu)用于控制所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元移動(dòng)，或者，所述位置控制機(jī)構(gòu)用于控制所述載臺(tái)移動(dòng)，以使所述光強(qiáng)調(diào)節(jié)單元 相對所述待曝光膜移動(dòng)以便對所述待曝光膜進(jìn)行掃描式曝光。
【文檔編號】G03F7/20GK103885299SQ201410099166
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2014年3月17日 優(yōu)先權(quán)日:2014年3月17日
【發(fā)明者】史大為, 郭建 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司