專利名稱：陣列基板修復(fù)裝置及方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及液晶制造技術(shù)，更具體地說，涉及一種陣列基板修復(fù)裝置及方法。
背景技術(shù)：
在液晶的陣列基板制造過程中，利用光罩對基底上的刻蝕層進(jìn)行光照后，會在刻蝕層上留下曝光后的圖形。在這類操作中，若是曝光不夠充分，則有可能出現(xiàn)曝光后的圖形中存在多余光阻的情況，此時(shí)需要對多余的光阻進(jìn)行修補(bǔ)。在現(xiàn)有的技術(shù)中，工程人員需要在找到該多余的光阻后，進(jìn)行手動定位，然后對多余的光阻進(jìn)行移除或修補(bǔ)的動作。由于陣列基板上形成的圖形結(jié)構(gòu)精密，采用人工定位的操作復(fù)雜繁瑣，時(shí)常可能出現(xiàn)定位失誤而導(dǎo)致修補(bǔ)失敗。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，針對現(xiàn)有的陣列基板修復(fù)技術(shù)中，容易出現(xiàn)定義失誤而導(dǎo)致修補(bǔ)失敗的缺陷，提供一種陣列基板修復(fù)裝置及方法以克服該缺陷。本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種陣列基板修復(fù)裝置，包括激光源，用于修復(fù)陣列基板上的多余光阻；檢測裝置，用于檢測陣列基板上是否存在多余光阻；過濾鏡片，用于使激光源出射的光照射在陣列基板的多余光阻上以修復(fù)該多余光阻；其中，過濾鏡片設(shè)置在陣列基板上方，激光源設(shè)置在過濾鏡片上方，檢測裝置設(shè)置在陣列基板的上方。本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置，檢測裝置包括圖像采集器，用于獲取陣列基板上的圖案；以及圖像對比器，用于對比陣列基板上的圖案和預(yù)先設(shè)置的目標(biāo)圖案，確定是否存在多余光阻。本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置，還包括顯示裝置，顯示裝置與檢測裝置連接，用于顯示陣列基板上的圖案。本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置，過濾鏡片上包括遮光區(qū)與透光區(qū)，遮光區(qū)的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供一種陣列基板修復(fù)方法，包括以下步驟檢測陣列基板上是否存在多余光阻；若存在多余光阻，將過濾鏡片設(shè)置在陣列基板上，激光源設(shè)置在過濾鏡片上，使得激光源出射的激光在經(jīng)過過濾鏡片后，照射在多余光阻上；使用激光源出射的激光對多余光阻進(jìn)行曝光修復(fù)。本發(fā)明的陣列基板修復(fù)方法，檢測陣列基板上是否存在多余光阻的步驟包括獲取陣列基板上的圖案；將陣列基板上的圖案與預(yù)先設(shè)置的目標(biāo)圖案比較。
本發(fā)明的陣列基板修復(fù)方法，還包括顯示陣列基板上的圖案。本發(fā)明的陣列基板修復(fù)方法，還包括在過濾鏡片上形成遮光區(qū)與透光區(qū)，遮光區(qū)的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。實(shí)施本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置及方法，在進(jìn)行陣列基板上多余光阻的修復(fù)時(shí)，無需進(jìn)行人工定位，通過過濾鏡片快速、準(zhǔn)確地對陣列基板進(jìn)行修復(fù)，從而提高了修復(fù)過程的工作效率以及修復(fù)質(zhì)量。
以下結(jié)合附圖對本發(fā)明進(jìn)行說明，其中

圖1為本發(fā)明陣列基板修復(fù)裝置優(yōu)選實(shí)施例的示意圖；圖2. a為正常狀態(tài)下的陣列基板示意圖；圖2. b為使用圖1所示的陣列基板修復(fù)裝置進(jìn)行修復(fù)的帶有多余光阻的陣列基板示意圖；圖2. c為圖1所示的陣列基板修復(fù)裝置中過濾鏡片的示意圖；圖3為本發(fā)明陣列基板修復(fù)方法優(yōu)選實(shí)施例的流程圖；圖4為使用圖3所示的方法進(jìn)行暗點(diǎn)修復(fù)的陣列基板示意圖；圖5為使用圖3所示的方法進(jìn)行暗點(diǎn)修復(fù)時(shí)的過濾鏡片示意圖。
具體實(shí)施例方式以下結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對本發(fā)明進(jìn)行說明。如圖1所示為本發(fā)明陣列基板修復(fù)裝置一則優(yōu)選實(shí)施例的示意圖，在本實(shí)施例中陣列基板300為已經(jīng)經(jīng)過曝光，在其表面留有圖案的基板。陣列基板修復(fù)裝置要對其表面留下的圖案進(jìn)行檢查修復(fù)。在陣列基板300上方設(shè)置有過濾鏡片200，過濾鏡片200上設(shè)置有遮光區(qū)201和透光區(qū)202，遮光區(qū)201與原定在該陣列基板300上形成的理想刻蝕圖形相對應(yīng)。在過濾鏡片200的上方設(shè)置有激光源100，激光源100發(fā)出的光能夠透過過濾鏡片200上的透光區(qū)202，同時(shí)會被遮光區(qū)201完全阻擋。由于有遮光區(qū)201將激光源100的光擋住，僅在陣列基板300的多余光阻上會受到激光的照射，正常區(qū)域不會受到曝光。本實(shí)施例還設(shè)置有檢測裝置400，檢測裝置400用于檢測陣列基板300上是否存在多余光阻。檢測裝置400內(nèi)設(shè)置有圖像采集器和圖像比較器，圖像采集器對陣列基板300上的圖案進(jìn)行采集，并交由圖像比較器進(jìn)行與預(yù)先存儲的目標(biāo)圖形的比較，其中該目標(biāo)圖形可以為原定在該陣列基板300上形成的理想刻蝕圖形。根據(jù)比較結(jié)果中該陣列基板300上的圖案與該目標(biāo)圖形不一致的部分，可以確定陣列基板上是否有多余的光阻。為了不影響激光源100的曝光，檢測裝置400設(shè)置在陣列基板300的上方，且相對于陣列基板300具有一定的傾斜角度。需要說明的是，檢測裝置400的位置還可以依據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整，只要不影響激光源100的曝光即可，例如，可以將檢測裝置400設(shè)置在陣列基板300的正上方，在檢測完成之后再移開檢測裝置400。優(yōu)選的，本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置還包括一個(gè)與檢測裝置400相連接的顯示裝置500，顯示裝置500將檢測裝置400獲取的圖像顯示給操作者，使得操作者可以觀看到修復(fù)的效果。為了說明本發(fā)明的效果，現(xiàn)結(jié)合圖2. a 圖2. c進(jìn)行說明。如圖2. a為正常狀態(tài)時(shí)的陣列基板300，陣列基板300經(jīng)過刻蝕，其上面留有所需要的光刻圖案301。當(dāng)刻蝕的效果不佳，產(chǎn)生多余的光阻的時(shí)候，其效果如圖2. b所示，在陣列基板300上，除了光刻圖案301，還有多余光阻302，而多余光阻302需要去除，同時(shí)不影響光刻圖案301。為了達(dá)到這一目的，在過濾鏡片200上設(shè)置遮光區(qū)201和透光區(qū)202，如圖2. c所示，其中遮光區(qū)201的圖樣與光刻圖案301相匹配，使得激光源100在照射在該過濾鏡片200之后，陣列基板300的光刻圖案301不會受到激光源100的影響。多余光阻302受到激光的曝光后消除，使得產(chǎn)生如圖2. a的陣列基板。具體的，采用該陣列基板修復(fù)裝置的過程如圖3的流程所示。首先由檢測裝置400檢測待修復(fù)的陣列基板300上是否存在多余光阻，其檢測判斷的方法是通過檢測裝置400內(nèi)的圖像采集器對陣列基板300進(jìn)行圖樣采集，再由圖像比較器將采集到的圖樣與預(yù)設(shè)的目標(biāo)圖樣(即預(yù)期獲得的理想圖樣)進(jìn)行比較，以確定是否存在多余光阻。若無多余光阻，則本次的檢測修復(fù)過程結(jié)束；否則進(jìn)行修復(fù)過程設(shè)置過濾鏡片200，使得過濾鏡片200上的遮光區(qū)能夠恰好將正常的光刻圖案301完全遮擋住，使得正常的光刻圖案301不會被激光照射，而激光源100的出射光從透光區(qū)穿過，照射在陣列基板300的其他位置上，使得多余光阻302被修復(fù)。在修復(fù)后，檢測裝置400重新檢測是否還存在多余光阻，若依然存在，則重復(fù)修復(fù)過程，直到多余光阻被修復(fù)。采用本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置及方法，還可以用于陣列基板的暗點(diǎn)修復(fù)時(shí)進(jìn)行焊接(welding)。如圖4為一塊需要進(jìn)行暗點(diǎn)修復(fù)的陣列基板，在修復(fù)的時(shí)候需要在固定點(diǎn)位進(jìn)行焊接，在第一點(diǎn)位601、第二點(diǎn)位602、第三點(diǎn)位603處進(jìn)行焊接，焊接的過程要求不影響基本上其他位置的布線。由于焊接的位置在圖形中是固定的，我們可以采用一塊過濾鏡片(例如上述的過濾鏡片200)進(jìn)行輔助焊接，如圖5所示。圖5中的過濾鏡片，在第一點(diǎn)位601、第二點(diǎn)位602、第三點(diǎn)位603設(shè)置為可供激光透過，在其他位置對激光遮蔽(即圖5中的黑色部分)。由于在基板上除了上述的三個(gè)點(diǎn)位外，都被過濾鏡片遮蔽，使得焊接的質(zhì)量得到提高。另外，前述陣列基板的修復(fù)和進(jìn)行固定點(diǎn)位的焊接能夠使用相同的裝置，區(qū)別僅在于使用的過濾鏡片不同，因此提高液晶制造設(shè)備的通用性，降低液晶制造過程的成本。以上僅為本發(fā)明具體實(shí)施方式
，不能以此來限定本發(fā)明的范圍，本技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的一般技術(shù)人員根據(jù)本創(chuàng)作所作的均等變化，以及本領(lǐng)域內(nèi)技術(shù)人員熟知的改變，都應(yīng)仍屬本發(fā)明涵蓋的范圍。
權(quán)利要求
1.一種陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，包括激光源，用于修復(fù)陣列基板上的多余光阻；檢測裝置，用于檢測陣列基板上是否存在多余光阻；過濾鏡片，用于使激光源出射的光照射在陣列基板的多余光阻上以修復(fù)該多余光阻；其中，所述過濾鏡片設(shè)置在所述陣列基板上方，所述激光源設(shè)置在所述過濾鏡片上方， 所述檢測裝置設(shè)置在所述陣列基板的上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，所述檢測裝置包括圖像采集器，用于獲取陣列基板上的圖案；以及圖像對比器，用于對比陣列基板上的圖案和預(yù)先設(shè)置的目標(biāo)圖案，以確定是否存在多余光阻。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，陣列基板修復(fù)裝置包括顯示裝置，所述顯示裝置與所述檢測裝置連接，用于顯示所述陣列基板上的圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的陣列基板修復(fù)裝置，其特征在于，所述過濾鏡片上包括遮光區(qū)與透光區(qū)，所述遮光區(qū)的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。
5.一種陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，包括以下步驟檢測陣列基板上是否存在多余光阻；若存在多余光阻，將過濾鏡片設(shè)置在陣列基板上，激光源設(shè)置在過濾鏡片上，使得激光源出射的激光在經(jīng)過過濾鏡片后，照射在多余光阻上；使用激光源出射的激光對多余光阻進(jìn)行修復(fù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，檢測陣列基板上是否存在多余光阻的步驟包括獲取陣列基板上的圖案；將陣列基板上的圖案與預(yù)先設(shè)置的目標(biāo)圖案比較。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，該方法還包括顯示陣列基板上的圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求5-7中任一項(xiàng)所述的陣列基板修復(fù)方法，其特征在于，該方法還包括在所述過濾鏡片上形成遮光區(qū)與透光區(qū)，遮光區(qū)的圖案與陣列基板上的正確圖案相匹配。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種陣列基板修復(fù)裝置及方法，其中該裝置包括激光源，用于修補(bǔ)陣列基板上的多余光阻；檢測裝置，用于檢測陣列基板上是否存在多余光阻；過濾鏡片，用于使激光源出射的光照射在陣列基板的多余光阻上；過濾鏡片設(shè)置在陣列基板上方，激光源設(shè)置在過濾鏡片上方，檢測裝置設(shè)置在陣列基板的上方。實(shí)施本發(fā)明的陣列基板修復(fù)裝置及方法能夠快速、準(zhǔn)確地對陣列基板進(jìn)行修復(fù)。
文檔編號G02F1/13GK103048815SQ201310013800
公開日2013年4月17日 申請日期2013年1月15日 優(yōu)先權(quán)日2013年1月15日
發(fā)明者鄭文達(dá), 吳礎(chǔ)任 申請人:深圳市華星光電技術(shù)有限公司