專(zhuān)利名稱(chēng)：曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元及使用該單元的曝光方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元及使用該曝光單元的曝光方法。
背景技術(shù)：
將掩模的曝光圖案曝光轉(zhuǎn)印至基板上的接近式曝光是通過(guò)以工件卡盤(pán)保持表面上涂布有感光劑的透光性基板(被曝光件)，以例如數(shù)十μ m 數(shù)百μ m的間距接近至保持于掩模載置臺(tái)的掩模保持框上的掩模，向掩模照射圖案曝光用光，并將描繪于掩模上的曝光圖案轉(zhuǎn)印到基板上的光刻技術(shù)來(lái)實(shí)施。另外，作為用于將掩模的曝光圖案曝光轉(zhuǎn)印到液晶面板或半導(dǎo)體等基板上的曝光 裝置，提出了各種能夠?qū)崿F(xiàn)處理能力的提高的方案(例如參照專(zhuān)利文獻(xiàn)1、2)。專(zhuān)利文獻(xiàn)I所記載的曝光裝置采用接近式曝光方式，具有分別使曝光位置和加載/卸載位置移動(dòng)的兩臺(tái)工件臺(tái)；能夠?qū)⒐ぜ蚋骷虞d/卸載位置搬入和搬出的兩臺(tái)機(jī)械手(robot);在一個(gè)工件臺(tái)上的工件進(jìn)行曝光的期間，能夠在另一個(gè)工件臺(tái)進(jìn)行工件的搬入和搬出。另外，在該曝光裝置中，使用一張掩模，對(duì)基板的一面進(jìn)行單次曝光，或?qū)⒁幻娣譃槎鄠€(gè)照射區(qū)域進(jìn)行曝光。另外，專(zhuān)利文獻(xiàn)2所述的曝光裝置配置有兩個(gè)對(duì)準(zhǔn)光學(xué)系統(tǒng)和投影光學(xué)系統(tǒng)，以對(duì)晶片等2張被曝光基板進(jìn)行并行曝光和對(duì)準(zhǔn)信息檢測(cè)。進(jìn)而，在專(zhuān)利文獻(xiàn)3所述的曝光裝置中，公開(kāi)了利用與單臺(tái)式裝載臺(tái)裝置相同程度的占地面積(footprint),能夠使兩個(gè)裝載臺(tái)移動(dòng)的裝載臺(tái)裝置,在一個(gè)裝載臺(tái)處于曝光動(dòng)作期間，另一個(gè)裝載臺(tái)進(jìn)行晶片的更換和對(duì)準(zhǔn)中的至少一個(gè)動(dòng)作。專(zhuān)利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)2008-158545號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2000-40662號(hào)公報(bào)時(shí)專(zhuān)利文獻(xiàn)3 日本特開(kāi)2003-17404號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題另一方面，一張基板經(jīng)曝光后再切割以制造多個(gè)面板，但在對(duì)玻璃進(jìn)行熱處理之際，無(wú)法對(duì)玻璃內(nèi)部實(shí)施熱處理，因此，經(jīng)熱處理之后再切割的玻璃部分有可能強(qiáng)度不足。特別是以觸摸面板方式使用的液晶顯示器每次受到人手觸摸時(shí)，應(yīng)力會(huì)反復(fù)作用在其上，有可能發(fā)生破損。因此，相對(duì)于曝光處理后對(duì)基板的切割，更希望預(yù)先對(duì)與液晶顯示器中采用的尺寸相匹配的基板進(jìn)行熱處理后再曝光，并要求這些基板能夠高效曝光。特別是在基板上對(duì)第一層圖案進(jìn)行一次性曝光的情況下，在基板與掩模之間不進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)的條件下執(zhí)行曝光，通常，針對(duì)一張或多張掩模，進(jìn)行一張基板的曝光，期望處理能力的提聞。
在專(zhuān)利文獻(xiàn)1、2所述的曝光裝置中，通過(guò)以與曝光動(dòng)作相同的時(shí)機(jī)進(jìn)行基板的搬入/搬出動(dòng)作或?qū)?zhǔn)動(dòng)作，實(shí)現(xiàn)了處理能力的提高，但并未解決上述課題。另外，在專(zhuān)利文獻(xiàn)1、3所述的曝光裝置中，通過(guò)與曝光動(dòng)作同時(shí)的并行處理，可實(shí)現(xiàn)處理能力的提高，但要求多個(gè)基板的曝光動(dòng)作本身更有效地進(jìn)行。本發(fā)明是鑒于上述課題而提出，其目的在于，提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)處理能力的提高，并能夠更有效地進(jìn)行多個(gè)基板的曝光的曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元和使用該單元的曝光方法。本發(fā)明的上述目的通過(guò)下述結(jié)構(gòu)來(lái)達(dá)到。(I) 一種曝光裝置，具有用于保持具有圖案的掩模的掩模載置臺(tái)；具有用于保持作為被曝光件的多個(gè)基板的工件卡盤(pán)的基板載置臺(tái)；以及借助上述掩模的圖案向上述基板照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)；
其特征在于，在保持于上述工件卡盤(pán)的上述多個(gè)基板和保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從上述照明光學(xué)系統(tǒng)照射上述曝光用光，由此將上述掩模的圖案曝光到上述多個(gè)基板上。(2)根據(jù)(I)所述的曝光裝置，其特征在于，上述掩模具有多個(gè)圖案，上述照明光學(xué)系統(tǒng)借助上述掩模的多個(gè)圖案向上述多個(gè)基板照射曝光用光，在保持于上述工件卡盤(pán)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模的各圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從上述照明光學(xué)系統(tǒng)照射上述曝光用光，由此將作為第一層的上述掩模的各圖案單次曝光到上述多個(gè)基板上。(3)根據(jù)(I)所述的曝光裝置，其特征在于，上述基板是預(yù)先與液晶顯示器所采用的尺寸匹配的基板。(4)根據(jù)(2)或(3)所述的曝光裝置，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一搬送裝置和第二搬送裝置配置在互不相同的方向上。(5 )根據(jù)(2 )或(3 )所述的曝光裝置，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一、第二搬送裝置夾著上述基板載置臺(tái)并相互接近地串聯(lián)配置。(6)根據(jù)(2)或(3)所述的曝光裝置，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一、第二搬送裝置與上述基板載置臺(tái)平行并相互接近地并聯(lián)配置。(7)—種曝光單元，其特征在于，上述曝光單元具有如(I)所述的曝光裝置、第一搬送單元和第二搬送單元，上述曝光裝置具有上述基板載置臺(tái)，上述基板載置臺(tái)包括分別具備上述工件卡盤(pán)的第一基板載置臺(tái)和第二基板載置臺(tái)，上述曝光裝置還具有第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，上述第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第一基板載置臺(tái)在曝光位置與由上述第一基板載置臺(tái)將上述多個(gè)基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之間移動(dòng)，上述曝光位置為，使上述第一基板載置臺(tái)或第二基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模對(duì)置的位置，上述第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第二基板載置臺(tái)在上述曝光位置與由上述第二基板載置臺(tái)將上述多個(gè)基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之間移動(dòng)，上述第一、第二搬送單元分別具有用于保持上述基板，并能夠相對(duì)于上述各工件卡盤(pán)搬入和搬出上述基板的多個(gè)搬送裝置，在保持于上述第一或第二基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模對(duì)置的狀態(tài)下，借助上述多個(gè)掩模，使上述照明光學(xué)系統(tǒng)向上述多個(gè)基板照射曝光用光，由此將上述多個(gè)基板同時(shí)曝光。(8)根據(jù)(7)所述的曝光單元，其特征在于，當(dāng)保持于上述第一基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板在上述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，上述第二基板載置臺(tái)在上述第二搬入/搬出位置待機(jī)，當(dāng)保持于上述第二基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板在上述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，上述第一基板載置臺(tái)在上述第一搬入/搬出位置待機(jī)。(9)根據(jù)(7)所述的曝光單元，其特征在于，上述曝光裝置采用單次曝光方式。( 10)根據(jù)(7)所述的曝光單元，其特征在于，上述掩模載置臺(tái)保持著多個(gè)上述掩模，上述照明光學(xué)系統(tǒng)具有借助上述各掩模向上述各基板照射曝光用光的多個(gè)照明光學(xué)系 統(tǒng)，上述曝光裝置利用多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)對(duì)上述多個(gè)基板分別進(jìn)行曝光。(11) 一種曝光方法，其是用于曝光裝置的曝光方法，其特征在于，上述曝光裝置具有用于保持具有圖案掩模的掩模載置臺(tái)；具有用于保持作為被曝光件的多個(gè)基板的工件卡盤(pán)的基板載置臺(tái)；和借助上述掩模的圖案向上述基板照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)，在保持于上述工件卡盤(pán)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模的圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從上述照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，由此將上述多個(gè)掩模的圖案曝光到上述多個(gè)基板上。( 12)根據(jù)(11)所述的曝光方法，其特征在于，上述掩模具有多個(gè)圖案，上述照明光學(xué)系統(tǒng)借助上述掩模的多個(gè)圖案向上述多個(gè)基板照射曝光用光，在保持于上述工件卡盤(pán)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模的各圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從上述照明光學(xué)系統(tǒng)照射上述曝光用光，由此將作為第一層的上述掩模的各圖案單次曝光到上述多個(gè)基板上。( 13)根據(jù)(12)所述的曝光方法，其特征在于，上述基板是預(yù)先與液晶顯示器所采用的尺寸匹配的基板。(14)根據(jù)(12)或(13)所述的曝光方法，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一、第二搬送裝置配置在互不相同的方向上。(15)根據(jù)(12)或(13)所述的曝光方法，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一、第二搬送裝置夾著上述基板載置臺(tái)而相互接近地串聯(lián)配置。(16)根據(jù)(12)或(13)所述的曝光方法，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一、第二搬送裝置與上述基板載置臺(tái)平行而相互接近地并聯(lián)配置。(17)—種曝光方法，其使用曝光單元進(jìn)行曝光，其特征在于，上述曝光單元具有如
(I)所述的曝光裝置、第一搬送單元和第二搬送單元，上述曝光裝置具有上述基板載置臺(tái)，上述基板載置臺(tái)包括分別具備上述工件卡盤(pán)的第一基板載置臺(tái)和第二基板載置臺(tái)，上述曝光裝置還具有第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，上述第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第一基板載置臺(tái)在曝光位置與由上述第一基板載置臺(tái)將上述多個(gè)基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之間移動(dòng)，上述曝光位置為，使上述第一基板載置臺(tái)或第二基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模對(duì)置的位置，上述第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使上述第二基板載置臺(tái)在上述曝光位置與由上述第二基板載置臺(tái)將上述多個(gè)基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之間移動(dòng)，上述第一、第二搬送單元分別具有用于保持上述基板，并能夠相對(duì)于上述各工件卡盤(pán)搬入和搬出上述基板的多個(gè)搬送裝置，在保持于上述第一或第二基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板與保持于上述掩模載置臺(tái)的上述掩模對(duì)置的狀態(tài)下，借助上述多個(gè)掩模，使上述照明光學(xué)系統(tǒng)向上述多個(gè)基板照射曝光用光，由此將上述多個(gè)基板同時(shí)曝光。(18)根據(jù)(17)所述的曝光方法，其特征在于，當(dāng)保持于上述第一基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板在上述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，上述第二基板載置臺(tái)在上述第二搬入/搬出位置待機(jī)，當(dāng)保持于上述第二基板載置臺(tái)的上述多個(gè)基板在上述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，上述第一基板載置臺(tái)在上述第一搬入/搬出位置待機(jī)。 ( 19)根據(jù)(17)所述的曝光方法，其特征在于，上述曝光裝置采用單次曝光方式。(20)根據(jù)(17)所述的曝光方法，其特征在于，上述掩模載置臺(tái)保持著多個(gè)上述掩模，上述照明光學(xué)系統(tǒng)具有借助上述各掩模向上述各基板照射曝光用光的多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)，上述曝光裝置利用多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)將上述多個(gè)基板分別進(jìn)行曝光。發(fā)明效果根據(jù)本發(fā)明的曝光裝置以及曝光方法，曝光裝置具有用于保持具有圖案的掩模的掩模載置臺(tái)；具有用于保持作為被曝光件的多個(gè)基板的工件卡盤(pán)的基板載置臺(tái)；以及借助掩模的圖案向基板照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)；在保持于工件卡盤(pán)的多個(gè)基板與保持于掩模載置臺(tái)的掩模的圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，由此將掩模的圖案曝光到多個(gè)基板上，由此能夠?qū)崿F(xiàn)處理能力的提高，并能夠更高效地進(jìn)行多個(gè)基板的曝光。特別是在掩模具有多個(gè)圖案，照明光學(xué)系統(tǒng)借助掩模的多個(gè)圖案向多個(gè)基板照射曝光用光，在保持于工件卡盤(pán)的多個(gè)基板與保持于掩模載置臺(tái)的掩模的各圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，通過(guò)從照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，將作為第一層的掩模的各圖案單次曝光到多個(gè)基板上。由此，無(wú)需進(jìn)行掩模與基板間的對(duì)準(zhǔn)，就能夠?qū)⒌谝粚訄D案同時(shí)單次曝光到多個(gè)基板上，從而能夠提聞處理能力。另外，根據(jù)本發(fā)明的曝光單元以及使用該曝光單元的曝光方法，曝光裝置具有能夠?qū)⒌谝?、第二基板載置臺(tái)分別移動(dòng)到曝光位置的第一、第二基板載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，在保持于第一或第二基板載置臺(tái)的多個(gè)基板與保持于掩模載置臺(tái)的掩模對(duì)置的狀態(tài)下，照明光學(xué)系統(tǒng)借助掩模向多個(gè)基板照射曝光用光，由此能夠使多個(gè)基板同時(shí)曝光。因此，能夠高效進(jìn)行多個(gè)基板的曝光用光，能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍間隔時(shí)間的縮短。另外，第一、第二搬送單元分別具有能夠相對(duì)于各工件卡盤(pán)搬入和搬出基板的多個(gè)搬送裝置，因此，能夠由第一、第二搬送裝置同步執(zhí)行將基板向工件卡盤(pán)搬入的動(dòng)作和將基板從工件卡盤(pán)搬出的動(dòng)作，能夠進(jìn)一步縮短生產(chǎn)節(jié)拍間隔時(shí)間。


圖I是用于說(shuō)明本發(fā)明第一實(shí)施方式的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。
圖2是圖I中的曝光裝置的側(cè)視圖。圖3是用于說(shuō)明本發(fā)明第一實(shí)施方式的第一變形例的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。圖4 (a)是用于說(shuō)明第一實(shí)施方式的第二變形例的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖，(b)是
(a)中的傳送帶的側(cè)視圖。圖5(a)是用于說(shuō)明本發(fā)明第一實(shí)施方式的第三變形例的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖，
(b)是(a)中的傳送帶的側(cè)視圖。圖6是用于說(shuō)明本發(fā)明第二實(shí)施方式的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。圖7是用于說(shuō)明本發(fā)明第三實(shí)施方式的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。
圖8是圖6中的曝光裝置的側(cè)視圖。圖9是用于說(shuō)明本發(fā)明第三實(shí)施方式的變形例的曝光單元的曝光裝置的側(cè)視圖。圖10是用于說(shuō)明第三實(shí)施方式的其它變形例的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。圖11是用于說(shuō)明本發(fā)明第四實(shí)施方式的曝光單元的簡(jiǎn)要結(jié)構(gòu)圖。圖12的(a)和(b)是用于說(shuō)明本發(fā)明的變形例的單次曝光的基板和掩模的簡(jiǎn)要示意圖。符號(hào)說(shuō)明10U0A :曝光單元，IlUlA :接近式曝光裝置(曝光裝置)，12U2A :第一搬送裝置，13、13A :第二搬送裝置，14 :第一預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，15 :第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置，16 :第一搬入用傳送帶，17 :第二搬入用傳送帶，18 :第一搬出用傳送帶，19 :第二搬出用傳送帶，20 :控制部，21、21A、21B :掩模載置臺(tái)，22 :工件卡盤(pán)，23 :基板載置臺(tái)，28 :照明光學(xué)系統(tǒng)，M、Ml、M2 :掩模，Pl P2 :圖案，W1、W2 :基板。
具體實(shí)施例方式以下，根據(jù)附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的第一實(shí)施方式的曝光單元。圖I及圖2所示的第一實(shí)施方式的曝光單元10具有接近式曝光裝置11 ;第一、第二搬送裝置32、33 ;第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15 ;第一、第二搬入用傳送帶16、17 ;第一、第二搬出用傳送帶18、19 ;以及用于控制這些裝置的控制部20。接近式曝光裝置11具有用于對(duì)具有第一、第二圖案P1、P2的掩模M進(jìn)行保持的掩模載置臺(tái)21 ;具有用于對(duì)作為被曝光件的多個(gè)基板Wl、W2進(jìn)行吸附保持的工件卡盤(pán)22的基板載置臺(tái)23 ;借助掩模M向多個(gè)基板W1、W2照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)28。另外，在掩模載置臺(tái)21上，分別設(shè)有多個(gè)對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)29A和間隙(gap)用致動(dòng)器29B。具體而言，基板W1、W2是預(yù)先匹配液晶顯示器中所采用的尺寸的基板。本實(shí)施方式的接近式曝光裝置11采用單次曝光方式，也即，采用將掩模M的第一、第二圖案P1、P2與基板W1、W2分別以1:1比例曬相的方式，各基板W1、W2的曝光時(shí)間
非常短。第一搬送裝置32配置為保持著基板Wl，并且，在將基板Wl相對(duì)于基板載置臺(tái)23的工件卡盤(pán)22搬入和搬出的狀態(tài)下，能夠向第一預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、第一搬入用傳送帶16以及第一搬出用傳送帶18進(jìn)行存取。另外，第二搬送裝置33也配置為保持著基板W2，并且，在將基板W2相對(duì)于基板載置臺(tái)23的工件卡盤(pán)22搬入和搬出的狀態(tài)下，能夠向第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置15、第二搬入用傳送帶17以及第二搬出用傳送帶19進(jìn)行存取。
在本實(shí)施方式中，第一、第二搬送裝置32、33被配置為，能夠分別從各不相同的方向，向接近式曝光裝置11的工件卡盤(pán)22存取。需要說(shuō)明的是，在本實(shí)施方式中，作為第一、第二搬送裝置32、33，適合采用具有用于保持基板W2的機(jī)械臂32a、33a，能夠沿水平方向和上下方向驅(qū)動(dòng)的智能(scalar)型機(jī)器人，也可以是直動(dòng)式機(jī)械手或傳送皮帶。另外，各搬送裝置32、33也可構(gòu)成為分別具有多個(gè)機(jī)械臂32a、33a。第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15用于在將基板Wl、W2搬入到接近式曝光裝置11的工件卡盤(pán)22之前，對(duì)基板W1、W2進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)。另外，第一、第二搬入用傳送帶16、17搬送來(lái)自在先工序的基板W1、W2，第一、第二搬出用傳送帶18、19將基板W1、W2搬送到在后工序。需要說(shuō)明的是，各預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15、各搬入用傳送帶16、17、各搬出用傳送帶18、19分別可適用公知的裝置。另外，也可以省略這些預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15，或者，還可以使用第一、第二搬送裝置32、33進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)?？刂撇?0用于控制接近式曝光裝置11、搬送裝置32、33、預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15、搬入用傳送帶16、17以及搬出用傳送帶18、19。另外，控制部20對(duì)第一、第二搬送裝置32、33 進(jìn)行控制，以使得由第一、第二搬送裝置32、33執(zhí)行的基板W1、W2相對(duì)于接近式曝光裝置11的搬入和搬出動(dòng)作同步進(jìn)行。以下，對(duì)使用了上述曝光單元10的曝光方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，當(dāng)利用第一、第二搬入用傳送帶16、17將基板W1、W2搬送到第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15的附近時(shí)，第一、第二搬送裝置32、33的機(jī)械臂32a、33a分別把持著基板W1、W2，同步驅(qū)動(dòng)機(jī)械臂32a、33a，將上述基板搬運(yùn)到第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15。其后，第一、第二搬送裝置32、33將基板Wl、W2載置到第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15。在第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15對(duì)基板Wl、W2進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)后，第一、第二搬送裝置32、33的機(jī)械臂32a、33a把持基板Wl、W2，同步驅(qū)動(dòng)上述機(jī)械臂32a、33a，將基板Wl、W2載置到工件卡盤(pán)22上。這樣，就在使得保持于工件卡盤(pán)22的基板Wl、W2與保持于掩模載置臺(tái)21的掩模M的各圖案P1、P2對(duì)向配置的狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)28照射曝光用光，由此將作為第一層的掩模M的各圖案P1、P2同時(shí)單次曝光到多個(gè)基板Wl、W2上。并且，已曝光的基板Wl、W2由第一、第二搬送裝置32、33的機(jī)械臂32a、33a把持，同步驅(qū)動(dòng)這些機(jī)械臂32a、33a,向第一、第二搬出用傳送帶18、19搬運(yùn)。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式的接近式曝光裝置11以及接近式曝光方法，其具有保持具有多個(gè)圖案P1、P2的掩模M的掩模載置臺(tái)21 ;具有用于對(duì)作為被曝光件的多個(gè)基板Wl、W2進(jìn)行保持的工件卡盤(pán)22的基板載置臺(tái)23 ；以及借助掩模M的多個(gè)圖案P1、P2對(duì)多個(gè)基板Wl、W2照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)28，在保持于工件卡盤(pán)22的多個(gè)基板Wl、W2與保持于掩模載置臺(tái)21的掩模M的各圖案P1、P2對(duì)向配置的狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)28照射曝光用光，由此將作為第一層的掩模M的各圖案P1、P2單次曝光到多個(gè)基板W1、W2上。由此，能夠在無(wú)需掩模M與基板Wl、W2的對(duì)準(zhǔn)的情況下，將第一層圖案Pl、P2同時(shí)單次曝光到多個(gè)基板Wl、W2上，從而能夠提高處理能力。另外，由于基板Wl、W2是預(yù)先與液晶顯示器中所采用的尺寸向匹配的基板，因此，能夠在熱處理后進(jìn)行曝光，并能夠確?；錡l、W2表面整體的強(qiáng)度。另外，利用第一、第二搬送裝置32、33，能夠同步進(jìn)行將基板Wl、W2向工件卡盤(pán)22搬入的動(dòng)作以及將基板W1、W2從工件卡盤(pán)22搬出的動(dòng)作，能夠縮短生產(chǎn)節(jié)拍間隔時(shí)間。需要說(shuō)明的是，盡管在本實(shí)施方式中使用具有多個(gè)圖案P1、P2的掩模M進(jìn)行曝光，但也可使用分別具有至少一個(gè)圖案的多個(gè)掩模M對(duì)多個(gè)基板進(jìn)行曝光。另外，盡管本實(shí)施方式在對(duì)無(wú)需掩模M與基板的對(duì)準(zhǔn)的第一層圖案進(jìn)行曝光方面為最優(yōu)選實(shí)施方式，但在能夠充分達(dá)到掩模M與基板W的對(duì)準(zhǔn)的情況下，也能夠適用于曝光第二層圖案。圖3表示第一實(shí)施方式的曝光單元10的第一變形例。在該變形例中，第一、第二搬送裝置32、33夾著基板載置臺(tái)23而相互接近地串聯(lián)配置。另外，第一、第二搬送裝置32、33配置為，能夠向接近式曝光裝置11的工件卡盤(pán)22進(jìn)行存取。此外，在本變形例中，作為第一、第二搬送裝置32、33適合采用具有用于保持基板W1、W2的機(jī)械臂32a、33a，能夠沿水平方向及驅(qū)動(dòng)的智能型機(jī)器人，也可以是直動(dòng)式機(jī)械手或傳送皮帶。另外，各搬送裝置32、33也能夠構(gòu)成為分別具有多個(gè)機(jī)械臂32a、33a。圖4示出第一實(shí)施方式的曝光單元10的第二變形例。在該變形例中，第一、第二 搬入搬出用傳送帶30、31配置成上下兩段，從而能夠?qū)⑵毓鈫卧?0設(shè)計(jì)為小型化。因此，通過(guò)使機(jī)械臂32a、33a上下移動(dòng)，第一、第二搬送裝置32、33能夠?qū)崿F(xiàn)向上下的各搬入搬出用傳送帶30、31的存取。圖5示出第一實(shí)施方式的曝光單元10的第三變形例。在該變形例中，第一、第二搬送裝置32、33夾著基板載置臺(tái)23而相互接近地串聯(lián)配置。另外，第一、第二搬送裝置32、33配置為，能夠向接近式曝光裝置11的工件卡盤(pán)22進(jìn)行存取。此外，在本變形例中，作為第一、第二搬送裝置32、33，適合采用具有保持基板Wl、W2的機(jī)械臂32a、33a，能夠沿水平方向驅(qū)動(dòng)的智能型機(jī)器人，也可以是直動(dòng)式機(jī)械手或傳送皮帶。另外，各搬送裝置32、33也可構(gòu)成為分別具有多個(gè)機(jī)械臂32a、33a。另外，在該變形例中，第一搬入用傳送帶30、第二搬出用傳送帶31配置為上下兩段，從而能夠?qū)⑵毓鈫卧?0設(shè)計(jì)為小型化。因此，通過(guò)使機(jī)械臂32a、33a上下移動(dòng)，第一、第二搬送裝置32、33能夠?qū)崿F(xiàn)向上下的各搬入、搬出用傳送帶30、31存取。接著，參照?qǐng)D6說(shuō)明本發(fā)明的第二實(shí)施方式的曝光單元。此外，對(duì)與第I實(shí)施方式相同或等同部分標(biāo)注同一符號(hào)，并省略或簡(jiǎn)化其說(shuō)明。在本實(shí)施方式的曝光單元10’中，第一、第二搬送裝置32、33與接近式曝光裝置11的基板載置臺(tái)23平行且相互接近地并聯(lián)配置。因此，第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15也大致對(duì)稱(chēng)配置于其外側(cè)，而且，搬入、搬出用傳送帶30、31也并聯(lián)配置。關(guān)于其它結(jié)構(gòu)，與第一實(shí)施方式同樣，并能實(shí)現(xiàn)與第一實(shí)施方式相同的效果。接著，參照?qǐng)D7和圖8，詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明第三實(shí)施方式的曝光單元。此外，對(duì)與第I實(shí)施方式相同或等同部分標(biāo)注同一標(biāo)號(hào)，并省略或簡(jiǎn)化其說(shuō)明。圖7所示的第三實(shí)施方式的曝光單元IOA具有接近式曝光裝置IlA ;第一、第二搬送單元12A、13A ;分別設(shè)置于各搬送單元12A、13A的第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15，第一、第二搬入用傳送帶16、17以及第一、第二搬出用傳送帶18、19 ;以及用于控制這些裝置的控制部20。接近式曝光裝置IlA具有多個(gè)掩模載置臺(tái)21A、21B，其在分別保持具有第一圖案Pl的掩模Ml和具有第二圖案P2掩模M2的狀態(tài)下，能夠使各掩模Ml、M2在水平面上進(jìn)行X、Y驅(qū)動(dòng)以及Θ旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)；第一、第二基板載置臺(tái)24、25，其分別具有用于將作為被曝光件的多個(gè)基板Wl、W2保持的工件卡盤(pán)22 ;第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)26，其使第一基板載置臺(tái)24在保持于第一或第二基板載置臺(tái)24、25的工件卡盤(pán)22的多個(gè)基板Wl、W2與保持于掩模載置臺(tái)21A、21B上的掩模Ml、M2對(duì)置的曝光位置A，和由第一基板載置臺(tái)24將多個(gè)基板W1、W2搬入和搬出的第一搬入/搬出位置BI之間進(jìn)行移動(dòng)；第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)27，其使第二基板載置臺(tái)25在曝光位置A與由第二基板載置臺(tái)25將多個(gè)基板W1、W2搬入和搬出的第二搬入/搬出位置B2之間進(jìn)行移動(dòng)；以及照明光學(xué)系統(tǒng)28，其借助掩模M向基板Wl、W2照射曝光用光。另外，在掩模載置臺(tái)21A、21B，分別設(shè)有多個(gè)對(duì)準(zhǔn)照相機(jī)29A和間隙用致動(dòng)器29B。此外，第一、第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)26、27也可以由具備電動(dòng)機(jī)與滾珠絲杠的組合及直線(xiàn)導(dǎo)軌的機(jī)構(gòu)構(gòu)成，還可以由具有直線(xiàn)電動(dòng)機(jī)和直線(xiàn)導(dǎo)軌的機(jī)構(gòu)構(gòu)成。另外，第一、第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)26、27也可以如本實(shí)施方式所述，是由工件卡盤(pán)22載置多個(gè)基板W1、W2的機(jī)構(gòu)，或者只要是能夠同步移動(dòng)的機(jī)構(gòu)，就可以在多個(gè)基板Wl、W2上分別具有兩個(gè)工件卡盤(pán)22。
第一、第二搬送單元12A、13A分別具有第一、第二搬送裝置32、33。與第一實(shí)施方式同樣，第一搬送裝置32用于保持基板W1，且配置為能夠?qū)⒒錡l相對(duì)于第一或第二基板載置臺(tái)24、25的工件卡盤(pán)22搬入和搬出，并且能夠向第一預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、第一搬入用傳送帶16以及第I搬出用傳送帶18進(jìn)行存取。另外，第二搬送裝置33用于保持基板W2，且配置為能夠?qū)⒒錡2相對(duì)于第一或第二基板載置臺(tái)24、25的工件卡盤(pán)22搬入和搬出，并且能夠向第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置15、第二搬入用傳送帶17、及第二搬出用傳送帶19進(jìn)行存取?？刂撇?0用于對(duì)接近式曝光裝置11A、各搬送單元12A、13A的搬送裝置32、33、預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15、搬入用傳送帶16、17以及搬出用傳送帶18、19進(jìn)行控制。另外，控制部20對(duì)第一、第二搬送單元12A、13A進(jìn)行控制，以使得第一、第二搬送單元12A、13A執(zhí)行的基板WU W2相對(duì)于接近式曝光裝置IlA的搬入和搬出動(dòng)作同步進(jìn)行。以下，對(duì)使用了上述曝光單元IOA的曝光方法進(jìn)行說(shuō)明。首先，當(dāng)利用第二搬送單元13A側(cè)的第一、第二搬入用傳送帶16、17將基板W1、W2搬送到第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15的附近時(shí)，第一、第二搬送裝置32、33的機(jī)械臂32&、33&分別把持著基板W1、W2，同步驅(qū)動(dòng)這些機(jī)械臂32a、33a，并搬運(yùn)到第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15。其后，第一、第二搬送裝置32、33將基板W1、W2載置到第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15。在第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝震14、15對(duì)基板W1、W2進(jìn)行預(yù)對(duì)準(zhǔn)后，第一、第二搬送裝置32、33的機(jī)械臂32a、33a把持基板Wl、W2，同步驅(qū)動(dòng)這些機(jī)械臂32a、33a，將基板Wl、W2搬運(yùn)到位于第二搬入/搬出位置B2的第二基板載置臺(tái)25的工件卡盤(pán)22上方。接著，利用第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)27，使工件卡盤(pán)22上載置有基板W1、W2的第二基板載置臺(tái)25移動(dòng)到曝光位置A。并且，在將工件卡盤(pán)22上的基板Wl、W2相對(duì)于掩模Ml、M2對(duì)準(zhǔn)后，對(duì)基板Wl、W2進(jìn)行曝光。在此，在第一、第二搬入/搬出位置B1、B2，設(shè)有用于對(duì)載置于第一、第二基板載置臺(tái)24、25的基板W1、W2的板厚進(jìn)行測(cè)定的測(cè)量?jī)x(未圖示)。因此，也可以在第一、第二搬入/搬出位置BI、B2對(duì)第一、第二基板載置臺(tái)24、25的基板Wl、W2進(jìn)行測(cè)定后，在第一、第二基板載置臺(tái)24、25向曝光位置A移動(dòng)的期間，使掩模載置臺(tái)21A、21B或第一、第二基板載置臺(tái)24、25沿上下方向移動(dòng)，完成間隙調(diào)節(jié)。此外，在第二基板載置臺(tái)25于第二搬入/搬出位置B2進(jìn)行待機(jī)的期間，第一基板載置臺(tái)24位于曝光位置A，對(duì)載置于第一基板載置臺(tái)24的工件卡盤(pán)22的基板W1、W2進(jìn)行曝光。另外，在使第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)27向曝光位置A移動(dòng)時(shí)，第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)26也同時(shí)從曝光位置A向第一搬入/搬出位置BI移動(dòng)。并且，在第二基板載置臺(tái)25于曝光位置A進(jìn)行曝光期間，第一基板載置臺(tái)24在第一搬入/搬出位置BI進(jìn)行待機(jī)(參照?qǐng)D8)。并且，位于第一搬入/搬出位置BI的第一基板載置臺(tái)24的工件卡盤(pán)22中，已曝光的基板Wl、W2由第一、第二搬送裝置32、33的機(jī)械臂32a、33a把持，并同步驅(qū)動(dòng)這些機(jī)械臂32a、33a，向第一、第二搬出用傳送帶18、19搬運(yùn)。另外，同步驅(qū)動(dòng)第一、第二搬送裝置32,33的機(jī)械臂32a、33a，將經(jīng)過(guò)預(yù)對(duì)準(zhǔn)的新基板Wl、W2載置到第一基板載置臺(tái)24的工件卡盤(pán)22上。此外，與保持于第二基板載置臺(tái)25的多個(gè)基板W1、W2在曝光位置A上進(jìn)行曝光的時(shí)刻同時(shí)地執(zhí)行由第一搬送單元12A的多個(gè)搬送裝置32、33將基板Wl、W2相對(duì)于待機(jī)中的第一基板載置臺(tái)24的搬入和搬出的動(dòng)作，由此，也能夠提高作為曝光單元IOA的處理能力，而且，通過(guò)在各不相同的時(shí)刻進(jìn)行各動(dòng)作，能夠防止由搬入和搬出動(dòng)作引發(fā)的振動(dòng)對(duì)曝光動(dòng)作的影響，以實(shí)現(xiàn)良好的曝光精度。另外，由第二搬送單元13A的多個(gè)搬送裝置32、33將基板W1、W2相對(duì)于待機(jī)中的第二基板載置臺(tái)25的搬入和搬出的動(dòng)作，同樣可在與保持于 第一基板載置臺(tái)24的多個(gè)基板W1、W2于曝光位置A進(jìn)行曝光的時(shí)刻同時(shí)實(shí)施，也可在不同的時(shí)刻實(shí)施。此后，通過(guò)重復(fù)同樣的動(dòng)作，在保持于第一或第二基板載置臺(tái)24、25的多個(gè)基板WU W2與保持于多個(gè)掩模載置臺(tái)21A、21B的多個(gè)掩模Ml、M2對(duì)置的狀態(tài)下，照明光學(xué)系統(tǒng)28借助多個(gè)掩模Ml、M2向多個(gè)基板Wl、W2照射曝光用光，就能夠?qū)崿F(xiàn)多個(gè)基板Wl、W2同時(shí)曝光。這樣，根據(jù)本實(shí)施方式的曝光單元IOA以及使用該單元的曝光方法，曝光單元IOA具有能夠?qū)⒌谝?、第二基板載置臺(tái)24、25分別移動(dòng)到曝光位置A的第一、第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)26、27，在保持于第一或第二基板載置臺(tái)24、25的多個(gè)基板Wl、W2與保持于掩模載置臺(tái)21的多個(gè)掩模Ml、M2對(duì)置的狀態(tài)下，照明光學(xué)系統(tǒng)28借助多個(gè)掩模Ml、M2向多個(gè)基板Wl、W2照射曝光用光，因此能夠使多個(gè)基板W1、W2同時(shí)曝光。由此，能夠高效進(jìn)行多個(gè)基板W1、W2的曝光，從而能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍間隔時(shí)間的縮短。另外，第一、第二搬送單元12A、13A分別具有能夠?qū)⒒錡l、W2相對(duì)于工件卡盤(pán)22搬入和搬出的多個(gè)搬送裝置32、33，因此，能夠利用第一、第二搬送裝置32、33同步進(jìn)行基板W1、W2向工件卡盤(pán)22搬入的動(dòng)作以及將基板W1、W2從工件卡盤(pán)22搬出的動(dòng)作，從而能夠?qū)崿F(xiàn)生產(chǎn)節(jié)拍間隔時(shí)間的縮短。此外，在本實(shí)施方式中，具有分別保持多個(gè)掩模Ml、M2的多個(gè)掩模載置臺(tái)21A、21B，通過(guò)從多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)28借助各掩模Ml、M2向各基板Wl、W2照射曝光用光，由多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)28同時(shí)對(duì)多個(gè)基板Wl、W2分別進(jìn)行曝光。不過(guò)，如圖9的變形例所示，也可使用具有多個(gè)圖案P1、P2的掩模M，由一個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)28對(duì)多個(gè)基板W1、W2同時(shí)曝光。圖10示出第三實(shí)施方式的曝光單元IOA的另一變形例。在該變形例在中，與第一實(shí)施方式的變形例同樣，將第一搬入用傳送帶30、第二搬出用傳送帶31配置為上下兩段，從而能夠?qū)⑵毓鈫卧?0設(shè)計(jì)為小型化。因此，通過(guò)使機(jī)械臂32a、33a上下移動(dòng)，第一、第二搬送裝置32、33能夠?qū)崿F(xiàn)向上下的各搬入、搬出用傳送帶30、31的存取。
接著，參照?qǐng)D11說(shuō)明本發(fā)明第四實(shí)施方式的曝光單元。此外，對(duì)與第三實(shí)施方式相同或等同部分標(biāo)注同一符號(hào)，并省略或簡(jiǎn)化其說(shuō)明。在本實(shí)施方式的曝光單元10A’中，以使第一、第二搬送裝置32、33與接近式曝光裝置IlA的第一、第二基板載置臺(tái)24、25平行且相互接近地并聯(lián)配置。因此，第一、第二預(yù)對(duì)準(zhǔn)裝置14、15也幾乎呈對(duì)稱(chēng)地配置于其外側(cè)。另外，搬入、搬出用傳送帶30、31也并聯(lián)配置。其它結(jié)構(gòu)與第三實(shí)施方式同樣，并能達(dá)到與第三實(shí)施方式同樣的效果。此外，本發(fā)明并不非限定于上述實(shí)施方式及其變形例，可進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖冃魏透牧?br> 坐寸ο 本發(fā)明的曝光裝置并不限于本實(shí)施方式的接近式曝光裝置，也可以是密合式曝光
>J-U ρ α裝直。另外，在上述實(shí)施方式中，對(duì)使用具有兩個(gè)圖案Ρ1、Ρ2的掩模Μ，對(duì)兩張基板W1、W2同時(shí)進(jìn)行單次曝光的情形進(jìn)行了說(shuō)明，但本發(fā)明并非限定于此，如圖12 (a)所示，也可以使用具有六個(gè)圖案Pl P6的掩模M，對(duì)六張基板同時(shí)進(jìn)行單次曝光，或者，如圖12(b)所示，利用具有兩個(gè)圖案P1、P2的掩模M，對(duì)6張基板Wl W6分多次進(jìn)行單次曝光。此外，如圖
12(a)、(b)所示，優(yōu)選為多個(gè)基板Wl W6隔開(kāi)一定間隔配置，并吸附固定到工件卡盤(pán)22上。另外，六張基板的面積也可各不相同，在該情況下，既可以將與基板面積相對(duì)應(yīng)的圖案設(shè)置于掩模上，對(duì)六張基板進(jìn)行單次曝光，或者，也可以使用具有多個(gè)圖案的掩膜進(jìn)行分割曝光。另外，在本發(fā)明中，使用兩臺(tái)搬送裝置對(duì)兩張基板進(jìn)行基板的搬入和搬出，但本發(fā)明的搬送裝置的數(shù)目并不受限于基板的數(shù)目。
權(quán)利要求
1.一種曝光裝置，其特征在于，具有用于保持具有圖案的掩模的掩模載置臺(tái)；具有用于將作為被曝光件的多個(gè)基板進(jìn)行保持的工件卡盤(pán)的基板載置臺(tái)；和借助所述掩模的圖案向所述基板照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)， 在保持于所述工件卡盤(pán)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從所述照明光學(xué)系照射所述曝光用光，由此將所述掩模的圖案曝光到所述多個(gè)基板上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光裝置，其特征在于，所述掩模具有多個(gè)圖案，所述照明光學(xué)系統(tǒng)借助所述掩模的多個(gè)圖案向所述多個(gè)基板照射曝光用光，在保持于所述工件卡盤(pán)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模的各圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從所述照明光學(xué)系統(tǒng)照射所述曝光用光，由此將作為第一層的所述掩模的各圖案單次曝光到所述多個(gè)基板上。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的曝光裝置，其特征在于，所述基板是尺寸預(yù)先與液晶顯示器所采用的尺寸匹配的基板。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的曝光裝置，其特征在于，能夠存取所述工件卡盤(pán)的第一搬送裝置和第二搬送裝置配置在互不相同的方向上。
5.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的曝光裝置，其特征在于，能夠存取所述工件卡盤(pán)的第一搬送裝置和第二搬送裝置夾著所述基板載置臺(tái)相互接近地串聯(lián)配置。
6.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的曝光裝置，其特征在于，能夠存取所述工件卡盤(pán)的第一搬送裝置和第二搬送裝置與所述基板載置臺(tái)平行且相互接近地并聯(lián)配置。
7.—種曝光單元，其特征在于，具有如權(quán)利要求I所述的曝光裝置、第一搬送單元和第二搬送單元， 所述的曝光裝置還具有基板載置臺(tái)，所述基板載置臺(tái)包括分別具備工件卡盤(pán)的第一基板載置臺(tái)和第二基板載置臺(tái)， 所述曝光裝置還具有第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 所述第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第一基板載置臺(tái)在曝光位置與由所述第二基板載置臺(tái)將所述多個(gè)基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之間移動(dòng)，所述曝光位置為使所述第一基板載置臺(tái)或所述第二基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模對(duì)置的位置， 所述第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第二基板載置臺(tái)在所述曝光位置與由所述第二基板載置臺(tái)將所述多個(gè)基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之間移動(dòng)， 所述第一搬送單元和所述第二搬送單元分別具有用于保持所述基板，并能夠相對(duì)于各所述工件卡盤(pán)搬入和搬出所述基板出的多個(gè)搬送裝置， 在保持于所述第一基板載置臺(tái)或所述第二基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模對(duì)置的狀態(tài)下，所述照明光學(xué)系統(tǒng)借助所述多個(gè)掩模向所述多個(gè)基板照射曝光用光，由此將所述多個(gè)基板同時(shí)曝光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光單元，其特征在于，當(dāng)保持于所述第一基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板在所述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，所述第二基板載置臺(tái)在所述第二搬入/搬出位置待機(jī)；當(dāng)保持于所述第二基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板在所述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，所述第一基板載置臺(tái)在所述第一搬入/搬出位置待機(jī)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光單元，其特征在于，所述曝光裝置采用單次曝光方式。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的曝光單元，其特征在于，所述掩模載置臺(tái)保持有多個(gè)所述掩模，所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有借助所述各掩模向所述各基板照射曝光用光的多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)，所述曝光裝置利用多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)對(duì)所述多個(gè)基板分別進(jìn)行曝光。
11.一種曝光方法，其是用于曝光裝置的曝光方法，其特征在于，所述曝光裝置具有用于保持具有圖案掩模的掩模載置臺(tái)；具有用于保持作為被曝光件的多個(gè)基板的工件卡盤(pán)的基板載置臺(tái)；和借助所述掩模的圖案向所述基板照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)， 在保持于所述工件卡盤(pán)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模的圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從所述照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，由此將所述多個(gè)掩模的圖案曝光到所述多個(gè)基板上。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模具有多個(gè)圖案，所述照明光學(xué)系統(tǒng)借助所述掩模的多個(gè)圖案向所述多個(gè)基板照射曝光用光，在保持于所述工件卡盤(pán)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模的各圖案對(duì)向配置的狀態(tài)下，從所述照明光學(xué)系統(tǒng)照射所述曝光用光，由此將作為第一層的所述掩模的各圖案單次曝光到所述多個(gè)基板上。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的曝光方法，其特征在于，所述基板是尺寸預(yù)先與液晶顯示器所采用的尺寸匹配的基板。
14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的曝光方法，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的所述第一搬送裝置和所述第二搬送裝置配置在互不相同的方向上。
15.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的曝光方法，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的所述第一搬送裝置和所述第二搬送裝置夾著所述基板載置臺(tái)而相互接近地串聯(lián)配置。
16.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的曝光方法，其特征在于，能夠向所述工件卡盤(pán)存取的第一搬送裝置和第二搬送裝置與所述基板載置臺(tái)平行且相互接近地并聯(lián)配置。
17.—種曝光方法，其使用曝光單元進(jìn)行曝光，其特征在于， 所述曝光單元具有如權(quán)利要求I所述的曝光裝置、第一搬送單元和第二搬送單元， 所述曝光裝置具有基板載置臺(tái)，所述基板載置臺(tái)包括分別具備工件卡盤(pán)的第一基板載置臺(tái)和第二基板載置臺(tái)， 所述的曝光裝置還具有第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)和第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)， 所述第一載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第一基板載置臺(tái)在曝光位置與由所述第一載置臺(tái)將多個(gè)所述基板搬入和搬出的第一搬入/搬出位置之間移動(dòng)，所述曝光位置為，使所述第一基板載置臺(tái)或所述第二基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模對(duì)置的位置， 所述第二載置臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述第二基板載置臺(tái)在所述曝光位置與由所述第二基板載置臺(tái)將所述多個(gè)基板搬入和搬出的第二搬入/搬出位置之間移動(dòng)， 所述第一搬送單元和所述第二搬送單元分別具有用于保持所述基板，并能夠相對(duì)于各所述工件卡盤(pán)搬入和搬出所述基板的多個(gè)搬送裝置， 在保持于所述第一基板載置臺(tái)或所述第二基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板與保持于所述掩模載置臺(tái)的所述掩模對(duì)置的狀態(tài)下，所述照明光學(xué)系統(tǒng)借助所述多個(gè)掩模向所述多個(gè)基板照射曝光用光，由此將所述多個(gè)基板同時(shí)曝光。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的曝光方法，其特征在于，當(dāng)保持于所述第一基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板在所述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，所述第二基板載置臺(tái)在所述第二搬入/搬出位置待機(jī)， 當(dāng)保持于所述第二基板載置臺(tái)的所述多個(gè)基板在所述曝光位置進(jìn)行曝光時(shí)，所述第一基板載置臺(tái)在所述第一搬入/搬出位置待機(jī)。
19.根據(jù)權(quán)利要求17所述的曝光方法，其特征在于，所述曝光裝置采用單次曝光方式。
20.根據(jù)權(quán)利要求17所述的曝光方法，其特征在于，所述掩模載置臺(tái)保持有多個(gè)所述掩模，所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有借助各所述掩模向各所述基板照射曝光用光的多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)，所述曝光裝置利用多個(gè)照明光學(xué)系統(tǒng)將所述多個(gè)基板分別進(jìn)行曝光。
全文摘要
本發(fā)明提供一種能夠提高處理能力，并能夠更高效地進(jìn)行多個(gè)基板的曝光的曝光裝置和曝光方法、曝光單元以及使用該單元的曝光方法。該接近式曝光裝量(11)具有用于保持具有多個(gè)圖案(P1、P2)的掩模(M)的掩模載置臺(tái)(21)；具有用于保持作為被曝光件的多個(gè)基板(W1、W2)的工件卡盤(pán)(22)的基板載置臺(tái)(23)；和借助掩模(M)的多個(gè)圖案(P1、P2)向多個(gè)基板(W1、W2)照射曝光用光的照明光學(xué)系統(tǒng)。且在保持于工件卡盤(pán)(22)的多個(gè)基板(W1、W2)與保持于掩模載置臺(tái)(21)的掩模(M)的各圖案(P1、P2)對(duì)向配置的狀態(tài)下，從照明光學(xué)系統(tǒng)照射曝光用光，將作為第一層的掩模(M)的各圖案(P1、P2)單次曝光到多個(gè)基板(W1、W2)上。
文檔編號(hào)G03F7/20GK102819195SQ20121019131
公開(kāi)日2012年12月12日 申請(qǐng)日期2012年6月11日 優(yōu)先權(quán)日2011年6月10日
發(fā)明者池淵宏, 岡谷秀樹(shù) 申請(qǐng)人:恩斯克科技有限公司