技術(shù)編號：2686325
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種曝光裝置和曝光方法、以及曝光單元及使用該曝光單元的曝光方法。背景技術(shù)將掩模的曝光圖案曝光轉(zhuǎn)印至基板上的接近式曝光是通過以工件卡盤保持表面上涂布有感光劑的透光性基板(被曝光件)，以例如數(shù)十μ m 數(shù)百μ m的間距接近至保持于掩模載置臺的掩模保持框上的掩模，向掩模照射圖案曝光用光，并將描繪于掩模上的曝光圖案轉(zhuǎn)印到基板上的光刻技術(shù)來實施。另外，作為用于將掩模的曝光圖案曝光轉(zhuǎn)印到液晶面板或半導體等基板上的曝光 裝置，提出了各種能夠?qū)崿F(xiàn)處理能力的提高的...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。