專利名稱：感光性樹(shù)脂組合物、感光性干膜及圖案形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性樹(shù)脂組合物、感光性干膜以及使用它們的圖案形成方法。本申 請(qǐng)基于在2009年12月28日于日本申請(qǐng)的特愿2009 — 297144號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，將其內(nèi)容引用至本申請(qǐng)中。
背景技術(shù)：
作為形成電子電路等的工藝，一般使用采用感光性樹(shù)脂組合物的工藝。使用了感光性樹(shù)脂組合物的電路形成工藝中，通過(guò)經(jīng)過(guò)以下工序來(lái)形成電子電路，所述工序包括在基材表面上形成由感光性樹(shù)脂組合物形成的抗蝕劑膜的工序；隔著掩模對(duì)抗蝕劑膜照射光而形成潛像的工序；將形成有潛像的抗蝕劑膜用顯影液進(jìn)行顯影處理而形成抗蝕劑圖案的工序；以及將沒(méi)有抗蝕劑的部分進(jìn)行化學(xué)蝕刻、鍍敷的工序。此外，在將裸片直接安裝在柔性基板上的覆晶薄膜(COF)、通過(guò)積層(build up)方法得到的多層印刷布線板中，研究了電子電路的微細(xì)化。這些C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中，在與通常的印刷布線板中的顯影工序?qū)?yīng)的工序中，使用I質(zhì)量％碳酸鈉水溶液作為顯影液。作為以往的感光性樹(shù)脂組合物，已知下述物質(zhì)。(I)包含酚醛清漆樹(shù)脂、醌二疊氮化合物以及由環(huán)己烷類與酚類形成的化合物的感光性樹(shù)脂組合物(專利文獻(xiàn)I)。(2)包含具有來(lái)源于具有酚性羥基的單體的構(gòu)成單元和來(lái)源于含有羧基的乙烯基系單體的構(gòu)成單元的乙烯基系聚合物、以及醌二疊氮化合物的感光性樹(shù)脂組合物(專利文獻(xiàn)2)。(3)包含具有來(lái)源于含有羧基的乙烯基系單體的構(gòu)成單元的乙烯基系共聚物、醌二疊氮化合物和多元酚化合物的感光性樹(shù)脂組合物(專利文獻(xiàn)3)。然而，由于(I)的感光性樹(shù)脂組合物中包含的酚醛清漆樹(shù)脂為脆的樹(shù)脂，因此在將包含酚醛清漆樹(shù)脂的感光性樹(shù)脂組合物制成抗蝕劑膜使用的情況下，有抗蝕劑膜易于開(kāi)裂這樣的問(wèn)題。特別是，在將上述感光性樹(shù)脂組合物進(jìn)行干膜化的情況下，由于上述干膜被卷繞，因此上述問(wèn)題變得顯著。此外，由于(2)的感光性樹(shù)脂組合物在碳酸鈉水溶液中的溶解性差，因此在C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中使用的情況下，析像度易于變得不充分。此外，在將包含具有酚性羥基的單體的單體成分進(jìn)行聚合的情況下，由于所得的乙烯基系聚合物為較低分子量，因此難以高分子量化。因此，抗蝕劑膜的耐鍍敷性變得不充分。此外，在(3)的感光性樹(shù)脂組合物中，乙烯基系聚合物不具有酚性羥基，因此沒(méi)有酚性羥基與醌二疊氮基的相互作用。因此，未曝光部的抗蝕劑膜易于溶解，易于發(fā)生膜減少。根據(jù)以上的背景，C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中，需要可以形成不易發(fā)生破裂，未曝光部的膜減少小，靈敏度、分辨率良好且耐鍍敷性優(yōu)異的抗蝕劑膜的感光性樹(shù)脂組合物?，F(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開(kāi)平5 - 224407號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2003 - 287905號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :日本特開(kāi)2003 - 156843號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題本發(fā)明的課題是提供在C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中，可以形成不易發(fā)生破裂，未曝光部的膜減少小，靈敏度、分辨率良好且耐鍍敷性優(yōu)異的抗蝕劑膜的感光性樹(shù)脂組合物、感光性干膜以及使用它們的圖案形成方法。用于解決課題的方法本發(fā)明的第I方式涉及一種感光性樹(shù)脂組合物，其包含將包含具有酚性羥基的單體(a)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的乙烯基系聚合物(I);將包含含有羧基的乙烯基系單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的、質(zhì)均分子量為20，000 100，000的乙烯基系聚合物(II)(其中，所述乙烯基系聚合物⑴除外)；醌二疊氮化合物(III);以及下述式(5)所示的化合物(IV),
權(quán)利要求
1.一種感光性樹(shù)脂組合物，其包含將包含具有酚性羥基的單體(a)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的乙烯基系聚合物(I);將包含含有羧基的乙烯基系單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的、質(zhì)均分子量為20，000 100，000的乙烯基系聚合物(II)(其中，所述乙烯基系聚合物(I)除外)；醌二疊氮化合物(III);以及下述式(5)所示的化合物(IV)，
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述化合物(IV)為選自由下述式(5-I)和下述式(5 - 2)所示的化合物所組成的組中的至少I種化合物，
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述乙烯基系聚合物(I)為將進(jìn)一步包含含有羧基的乙烯基系單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的聚合物。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述乙烯基系聚合物(I)為將包含所述單體(a)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的聚合物，所述單體(a)的比例在單體的合計(jì)加入量100摩爾％中為5 100摩爾％。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述乙烯基系聚合物(I)為將包含所述單體(a)和所述單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的聚合物，所述單體(b)的比例在單體的合計(jì)加入量100摩爾％中為5 30摩爾％。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述乙烯基系聚合物(II)為將包含所述單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的聚合物，所述單體(b)的比例在單體的合計(jì)加入量100摩爾％中為5 50摩爾％。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述醌二疊氮化合物(III)為具有I 3個(gè)芳香族環(huán)的芳香族多羥基化合物與選自由1，2 一萘醌二疊氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二疊氮基一 4 一磺酸所組成的組中的至少I種化合物所成的酯。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的感光性樹(shù)脂組合物，所述醌二疊氮化合物(III)為下述式(4 - I)所示的化合物、下述式(4 - 2)所示的化合物或下述式(4 - 3)所示的化合物與選自由1，2 —萘醌二疊氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二疊氮基一 4 一磺酸所組成的組中的至少I種化合物所成的酯，
9.一種感光性干膜，其在支持膜的表面上形成有由權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物形成的抗蝕劑膜。
10.一種圖案形成方法，其包括以下工序在基材的表面上形成由權(quán)利要求I所述的感光性樹(shù)脂組合物形成的抗蝕劑膜的工序；將所述抗蝕劑膜曝光而形成潛像的工序；以及將形成有潛像的所述抗蝕劑膜用PH 10. 5 12. 5的顯影液進(jìn)行顯影處理而形成抗蝕劑圖案的工序。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種感光性樹(shù)脂組合物，其包含將包含具有酚性羥基的單體(a)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的乙烯基系聚合物(I)；將包含含有羧基的乙烯基系單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的、質(zhì)均分子量為20,000～100,000的乙烯基系聚合物(II)(其中，上述乙烯基系聚合物(I)除外)；醌二疊氮化合物(III)；以及下述式(5)所示的化合物(IV)。［式中，Y為碳原子數(shù)1～6的烴基；l和m分別為1～3的整數(shù)；n為1或2；p和q分別為0或1］。
文檔編號(hào)G03F7/023GK102741750SQ20108006128
公開(kāi)日2012年10月17日 申請(qǐng)日期2010年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月28日
發(fā)明者上田昭史, 中河原秀孝, 林昭文, 渡邊和夫, 渡邊茂輝, 籃偉仁 申請(qǐng)人:三菱麗陽(yáng)株式會(huì)社, 臺(tái)灣永光化學(xué)工業(yè)股份有限公司, 株式會(huì)社微處理