專利名稱：感光性樹脂組合物、感光性干膜及圖案形成方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性樹脂組合物、感光性干膜以及使用它們的圖案形成方法。本申請(qǐng)基于在2009年12月28日于日本申請(qǐng)的特愿2009 — 297145號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，將其內(nèi)容引用至本申請(qǐng)中。
背景技術(shù)：
作為形成電子電路等的工藝，一般使用采用感光性樹脂組合物的工藝。使用了感光性樹脂組合物的電路形成工藝中，通過(guò)經(jīng)過(guò)以下工序來(lái)形成電子電路，所述工序包括在基材表面上形成由感光性樹脂組合物形成的抗蝕劑膜的工序；隔著 掩模對(duì)抗蝕劑膜照射光而形成潛像的工序；將形成有潛像的抗蝕劑膜用顯影液進(jìn)行顯影處理而形成抗蝕劑圖案的工序；以及將沒有抗蝕劑的部分進(jìn)行化學(xué)蝕刻、鍍敷的工序。此外，在將裸芯片直接安裝在柔性基板上的覆晶薄膜(COF)、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中，研究了電子電路的微細(xì)化。這些C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中，在與通常的印刷布線板中的顯影工序?qū)?yīng)的工序中，使用I質(zhì)量％碳酸鈉水溶液作為顯影液。作為以往的感光性樹脂組合物，已知下述物質(zhì)。(I)包含酚醛清漆樹脂、醌二疊氮化合物以及由環(huán)己烷類與酚類形成的化合物的感光性樹脂組合物(專利文獻(xiàn)I)。(2)包含具有來(lái)源于具有酚性羥基的單體的構(gòu)成單元和來(lái)源于含有羧基的乙烯基系單體的構(gòu)成單元的乙烯基系聚合物、以及醌二疊氮化合物的感光性樹脂組合物(專利文獻(xiàn)2)。(3)包含具有來(lái)源于含有羧基的乙烯基系單體的構(gòu)成單元的乙烯基系共聚物、醌二疊氮化合物和多元酚化合物的感光性樹脂組合物(專利文獻(xiàn)3)。然而，由于(I)的感光性樹脂組合物中包含的酚醛清漆樹脂為脆的樹脂，因此在將包含酚醛清漆樹脂的感光性樹脂組合物制成抗蝕劑膜使用的情況下，有抗蝕劑膜易于開裂這樣的問(wèn)題。特別是，在將該感光性樹脂組合物進(jìn)行干膜化的情況下，由于該干膜被卷繞，因此上述問(wèn)題變得顯著。此外，由于(2)的感光性樹脂組合物在碳酸鈉水溶液中的溶解性差，因此在C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中使用的情況下，析像度易于變得不充分。此外，在(3)的感光性樹脂組合物中，乙烯基系共聚物不具有酚性羥基，因此沒有酚性羥基與醌二疊氮基的相互作用。因此，未曝光部的抗蝕劑膜易于溶解，易于發(fā)生膜減少。根據(jù)以上的背景，C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中，需要可以形成不易發(fā)生破裂，未曝光部的膜減少小，靈敏度、分辨率良好的抗蝕劑膜的感光性樹脂組合物。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)專利文獻(xiàn)I :日本特開平5 - 224407號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開2003 - 287905號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3 :日本特開2003 - 156843號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明所要解決的課題本發(fā)明是提供在C0F、通過(guò)積層方法得到的多層印刷布線板中的電路形成工藝中， 可以形成不易發(fā)生破裂，未曝光部的膜減少小，靈敏度、分辨率良好的抗蝕劑膜的感光性樹脂組合物，感光性干膜以及使用它們的圖案形成方法。用于解決課題的方法本發(fā)明的第一方式是一種感光性樹脂組合物，其包含將包含具有酚性羥基的單體(a)和含有羧基的乙烯基系單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的乙烯基系共聚物(I)；醌二疊氮化合物(II);以及下述式(5)所示的化合物(III)，
(HO 廿+-Y-如-H-OH
1Jrm (5)
-Jp L Jq (COOH)nY為碳原子數(shù)I 6的直鏈或支鏈的烴基；1和m各自獨(dú)立地為I 3的整數(shù)；n為I或2 ;p和q各自獨(dú)立地為0或I。本發(fā)明的第二方式是第一方式所述的感光性樹脂組合物，上述化合物(III)為選自由下述式(5 - I)和(5 - 2)所示的化合物所組成的組中的至少一種化合物，
H0分-
COOH
......................... CHg /==m
/ \ I /
(5.2)
12
/S. I §
wrio
I￡,
COOH
O本發(fā)明的第三方式是第一方式所述的感光性樹脂組合物，上述化合物(II)的含有比例相對(duì)于乙烯基系共聚物(I) 100質(zhì)量份為5 70質(zhì)量份，上述化合物(III)的含有比例相對(duì)于乙烯基系共聚物(I) 100質(zhì)量份為0. 5 10質(zhì)量份。本發(fā)明的第四方式是第一方式所述的感光性樹脂組合物，上述醌二疊氮化合物(II)為具有I 3個(gè)芳香族環(huán)的芳香族多羥基化合物與選自由1，2 —萘醌二疊氮基一 5 -磺酸和1，2 一萘醌二疊氮基一 4 一磺酸所組成的組中的至少一種化合物所成的酯。本發(fā)明的第五方式是第四方式所述的感光性樹脂組合物，上述醌二疊氮化合物
(II)為下述式(4 - I)所示的化合物、下述式(4 - 2)所示的化合物或下述式(4 - 3)所示的化合物與選自由1，2 一萘醌二疊氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二疊氮基一 4 一磺酸所組成的組中的至少一種化合物所成的酯。
權(quán)利要求
1.一種感光性樹脂組合物，其包含 將包含具有酚性羥基的單體(a)和含有羧基的乙烯基系單體(b)的單體混合物進(jìn)行聚合而得的乙烯基系共聚物(I)； 醌二疊氮化合物(II);以及 下述式(5)所示的化合物(III)，(HCH++_Y— f--m (5} P L Jq (COOH)n Y為碳原子數(shù)I 6的直鏈或支鏈的烴基；1和m各自獨(dú)立地為I 3的整數(shù)；n為I或2 ;p和q分別為0或I。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹脂組合物，所述化合物(III)為選自由下述式(5—I)和(5 - 2)所示的化合物所組成的組中的至少一種化合物，H°CH°H(5-1) COOH_ 0|-j _/=\ I 3/=\(,2)Vv n o I ii Olio Itm COOHO
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹脂組合物，所述化合物(II)的含有比例相對(duì)于乙烯基系共聚物(I) 100質(zhì)量份為5 70質(zhì)量份，所述化合物(III)的含有比例相對(duì)于乙烯基系共聚物(I) 100質(zhì)量份為0. 5 10質(zhì)量份。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的感光性樹脂組合物，所述醌二疊氮化合物(II)為具有I 3個(gè)芳香族環(huán)的芳香族多羥基化合物與選自由1，2 一萘醌二疊氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二疊氮基一 4 一磺酸所組成的組中的至少一種化合物所成的酯。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感光性樹脂組合物，所述醌二疊氮化合物(II)為下述式(4 - I)所示的化合物、下述式(4 - 2)所示的化合物或下述式(4 - 3)所示的化合物與選自由1，2 —萘醌二疊氮基一 5 —磺酸和1，2 一萘醌二疊氮基一 4 一磺酸所組成的組中的至少一種化合物所成的酯，
6.—種感光性干膜,其在支持膜的表面上形成有由權(quán)利要求I 5的任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物形成的抗蝕劑膜。
7.一種圖案形成方法，其包括以下工序 在基材的表面上形成由權(quán)利要求I 5的任一項(xiàng)所述的感光性樹脂組合物形成的抗蝕劑膜的工序； 將所述抗蝕劑膜曝光而形成潛像的工序；以及 將形成有潛像的所述抗蝕劑膜用PH 10. 5 12. 5的顯影液進(jìn)行顯影處理而形成抗蝕劑圖案的工序。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種感光性樹脂組合物、感光性干膜以及使用該感光性樹脂組合物的圖案形成方法，所述感光性樹脂組合物包含具有來(lái)源于含有酚性羥基和羧基的乙烯基系單體(b)的構(gòu)成單元的乙烯基系共聚物(I)、醌二疊氮化合物(II)和式(5)所示的化合物(III)。根據(jù)本發(fā)明，可以提供可以形成不易發(fā)生破裂，未曝光部的膜減少小，靈敏度、分辨率良好的抗蝕劑膜的感光性樹脂組合物，感光性干膜以及使用該感光性樹脂組合物的圖案形成方法。(式中，Y為碳原子數(shù)1～6的直鏈或支鏈的烴基；l和m分別為1～3的整數(shù)；n為1或2；p和q分別為0或1)。
文檔編號(hào)G03F7/004GK102782578SQ201080064710
公開日2012年11月14日 申請(qǐng)日期2010年12月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月28日
發(fā)明者上田昭史, 中河原秀孝, 林昭文, 渡邊和夫, 渡邊茂輝, 籃偉仁 申請(qǐng)人:三菱麗陽(yáng)株式會(huì)社, 臺(tái)灣永光化學(xué)工業(yè)股份有限公司, 株式會(huì)社微處理