專利名稱：電子束膠光掩模板的去膠方法及其裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電子束膠光掩模板的去膠方法及其裝置，屬于半導(dǎo)體光掩模板的
去膠技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
光掩模板(光罩)是集成電路芯片制造中用于批量印刷電路的模板。通過(guò)光刻方 法，將光掩模板上的電路圖案大批量印刷到硅晶圓上。因此光掩模板上的任何缺陷都會(huì)對(duì) 芯片的成品率造成很大的影響。 光掩模板經(jīng)過(guò)曝光、顯影之后，需要去除表面的光刻膠。傳統(tǒng)的深槽式浸泡去除光
膠方式是將光掩模板放置在一個(gè)固定的槽體內(nèi)，用專用的光膠剝離液或濃硫酸間隙性混合
過(guò)氧化氫進(jìn)行浸泡，再將光掩模板放置在清洗池內(nèi)進(jìn)行清洗，達(dá)到去除光該膠的目的。這種
方法雖然生產(chǎn)效率高，但由于傳統(tǒng)的化學(xué)槽設(shè)計(jì)和化學(xué)藥液活性低且不穩(wěn)定，而常規(guī)的去
膠方法需15 30分鐘，因此每塊光掩模板去膠消耗化學(xué)藥液2 3升， 一方面工藝流程耗
酸量大，另一方面，由于化學(xué)藥液是循環(huán)使用，易造成交叉污染，去膠效果不穩(wěn)定。再則因化
學(xué)試劑易稀釋，而增加光掩模板浸泡時(shí)間又會(huì)導(dǎo)致光掩模板上的鉻層損傷。 另外一種是通過(guò)旋轉(zhuǎn)噴淋方法去除光掩模板上的光刻膠，該去膠方法相對(duì)于傳統(tǒng)
的深槽式浸泡式能夠有效節(jié)省耗酸量，由于藥液活性強(qiáng)，去膠后藥液直接排掉不再循環(huán)使
用，不會(huì)造成交叉污染，去膠效果相對(duì)穩(wěn)定。但這個(gè)方法對(duì)于掩模板邊界不能進(jìn)行有效的清
洗，而且每次只能對(duì)掩模板的單面進(jìn)行清洗，由于不能同時(shí)對(duì)光掩模板的正反兩面進(jìn)行清
洗，其藥液用量也不容小覷，而且去膠的生產(chǎn)效率不高。 發(fā)明目的 本發(fā)明的目的是提供一種能降低成本，去膠效率高的電子束膠光掩模板的去膠方 法及其裝置。 本發(fā)明為達(dá)到上述目的的技術(shù)方案是一種電子束膠光掩模板的去膠裝置，其特 征在于包括外槽體、內(nèi)槽體、托架以及支座、驅(qū)動(dòng)氣缸和機(jī)座，安裝在機(jī)座底部的驅(qū)動(dòng)氣缸 其活塞桿通過(guò)聯(lián)板與驅(qū)動(dòng)連桿連接，驅(qū)動(dòng)連桿與支座的連接座固定連接；所述的外槽體安 裝在機(jī)座的頂部，外槽體沿槽壁四周的上部安裝有噴口向下傾斜的上噴嘴、底板上有排液 流道；所述的內(nèi)槽體通過(guò)支承架安裝在外槽體內(nèi)，內(nèi)槽體底部具有開(kāi)口 ；所述托架的托盤(pán) 設(shè)置在內(nèi)槽體內(nèi)，且托盤(pán)底面有與內(nèi)槽體密封的環(huán)形凸筋，托盤(pán)下部的托座穿出內(nèi)槽體的 開(kāi)口與支座密封連接，托盤(pán)上設(shè)有用于支承光掩模板的兩個(gè)以上凸起的支承座，托盤(pán)上的 藥液下出口和周邊的兩個(gè)以上藥液側(cè)出口分別與托架內(nèi)的藥液流道相通，托架的水道出口 安裝有下噴嘴，托架內(nèi)的水道和上噴嘴分別與水管連接；所述支座包括上部的藥液混合腔、 下部的連接座以及設(shè)置在支座上兩個(gè)獨(dú)立與藥液混合腔相通的進(jìn)藥孔，各進(jìn)藥孔的出口安 裝有單向閥、進(jìn)口與藥液管道連接，支座上的藥液混合腔與托架的藥液流道相通，套在支座 外側(cè)的柔性密封套兩側(cè)分別密封連接在外槽體和托架的托座上。 所述托架的托座和外槽體的底板上分別安裝有連接件，柔性密封套兩側(cè)分別通過(guò)連接件與外槽體的底板和托架的托座密封連接。 所述的機(jī)座上還安裝有過(guò)渡板，外槽體通過(guò)過(guò)渡板與機(jī)座連接。 所述驅(qū)動(dòng)氣缸兩個(gè)以上安裝在機(jī)座上，機(jī)座上分別安裝有導(dǎo)套，安裝在聯(lián)板上的
驅(qū)動(dòng)連桿設(shè)置在導(dǎo)套內(nèi)。 本發(fā)明的電子束膠光掩模板的去膠方法，其特征在于(1)、將光掩模板平放在托 盤(pán)的支承座上，驅(qū)動(dòng)氣缸帶動(dòng)托架下移將托盤(pán)壓在內(nèi)槽體上；(2)、將加熱至50 12(TC的 濃硫酸與過(guò)氧化氫按體積比以2 12 : l在支座的藥液混合腔內(nèi)混合，并注入至內(nèi)槽體 內(nèi)，當(dāng)藥液淹沒(méi)光掩模板后，停止藥液注入，將光掩模板浸泡1 10分鐘，去除光掩模板表 面的光刻膠；(3)、驅(qū)動(dòng)氣缸作上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)連桿使支座和托架上下移動(dòng)，并開(kāi)啟 設(shè)置在外槽體周壁上的上噴嘴以及設(shè)置在托盤(pán)上的下噴嘴，用去離子水沖洗光掩模板的上 下兩面1 10分鐘，同時(shí)內(nèi)槽體內(nèi)的液體通過(guò)外槽體底板上的排液流道排出。
最好濃硫酸加熱至60 9(TC，濃硫酸與過(guò)氧化氫體積比按4 8 : l混合，光掩 模板在藥液中浸泡時(shí)間為3 6分鐘，用去離子水沖光掩模板的上下兩面5 8分鐘。
本發(fā)明采用內(nèi)槽體和外槽體結(jié)構(gòu)，而內(nèi)槽體采用開(kāi)口結(jié)構(gòu)，將可移動(dòng)托架的托盤(pán) 設(shè)置在內(nèi)槽體內(nèi)而形成淺槽結(jié)構(gòu)，托架的托座則穿過(guò)內(nèi)槽體與支座連接，因此只需將光掩 模板平放在托盤(pán)內(nèi)，當(dāng)托盤(pán)壓接在內(nèi)槽體上呈一個(gè)密封空間時(shí)，光掩模板橫置浸沒(méi)在藥液 中，以去除光掩模板表面的光刻膠。而當(dāng)托架上移動(dòng)時(shí)，使托架的托盤(pán)與內(nèi)槽體脫離，將藥 液從內(nèi)槽體排置外槽體內(nèi)通過(guò)排液流道排出，故相對(duì)于傳統(tǒng)槽式清洗，平躺淺槽式清洗可 節(jié)省大量藥液使用。經(jīng)測(cè)算，傳統(tǒng)光掩模板浸泡清洗工藝流程中，20升濃硫酸可洗7 8片 光掩板模，平均每片光掩模板消耗2. 5升濃硫酸，采用本發(fā)明的去膠方法每片光掩模板消 耗400毫升，節(jié)約2. 1升，按每天清洗40片計(jì)，濃硫酸成本15元/升左右，每天可節(jié)約藥液 成本在1200元左右。本發(fā)明的支座內(nèi)設(shè)有藥液混合腔，因此能將加熱的濃硫酸與過(guò)氧化氫 在線在該藥液混合腔內(nèi)進(jìn)行混合再通過(guò)藥液流道注入內(nèi)槽體內(nèi)，確保去膠時(shí)藥液的最大活 性，故只需1 10分鐘浸泡進(jìn)行去膠工藝，與傳統(tǒng)工藝采用的15 30分鐘酸浸泡，時(shí)間相 比大為縮短，提高工藝產(chǎn)能，本發(fā)明能通過(guò)單向閥能防止藥液從進(jìn)藥孔回流到藥液管道里， 提高工作可靠性。另外本發(fā)明采用藥液下出口及兩個(gè)以上的藥液側(cè)出口將藥液注入到內(nèi)槽 體內(nèi)，可分別對(duì)光掩模板上下兩面同時(shí)進(jìn)行藥液噴淋和浸潤(rùn)，能光掩模板邊界清洗干凈，加 之通過(guò)上噴嘴和下噴嘴雙向噴淋沖清，同時(shí)對(duì)光掩模板進(jìn)行雙面清洗而大幅度縮短工藝流 程時(shí)間，能顯著減少化學(xué)藥液的使用量，能使工藝成本大大降低。本發(fā)明將外槽體和驅(qū)動(dòng)氣 缸和驅(qū)動(dòng)連桿分離，防止清洗液對(duì)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的侵蝕，設(shè)備工作可靠，單片耗酸量少，無(wú)需循 環(huán)使用藥液，避免清洗時(shí)造成的交叉污染，清洗效果穩(wěn)定。


下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。 圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖2是圖1的俯視結(jié)構(gòu)示意圖。 圖3是內(nèi)槽體的放大結(jié)構(gòu)示意圖。 圖4是本發(fā)明藥液在線混合的液壓原理圖。 圖5是用本發(fā)明的去膠方法后所檢測(cè)光掩模板缺陷顆粒數(shù)量的統(tǒng)計(jì)圖。
4
圖6是用深槽式浸泡去膠方法后所檢測(cè)光掩模板缺陷顆粒數(shù)量的統(tǒng)計(jì)圖。
其中1_上噴嘴，2-外槽體，2-1-排液流道，3-內(nèi)槽體，4-光掩模板，5-托架， 5-1-托盤(pán)，5-2-支承座，5-3-水道，5-4-藥液流道，5-5-托座，5-6-環(huán)形凸筋，5-7-藥液 側(cè)出口 ， 5-8-藥液下出口 ， 6-連接件，7-柔性密封套，8-下密封圈，9-支座，9-1-連接座， 9-2-進(jìn)藥孔，9-3-藥液混合腔10-過(guò)渡板，11-機(jī)座，12-驅(qū)動(dòng)連桿，13-導(dǎo)套，14-聯(lián)板， 15-驅(qū)動(dòng)氣缸，16-藥液管道，17-單向閥，18-密封圈，19-上密封圈，20-支承架，21-下噴 嘴。
具體實(shí)施例方式
見(jiàn)圖1、2所示，本發(fā)明的電子束膠光掩模板的去膠裝置，包括外槽體2、內(nèi)槽體3、 托架5以及支座9、驅(qū)動(dòng)氣缸15和機(jī)座ll，本發(fā)明的驅(qū)動(dòng)氣缸15安裝在機(jī)座11的底部，驅(qū) 動(dòng)氣缸15的活塞桿通過(guò)聯(lián)板14與驅(qū)動(dòng)連桿12連接，驅(qū)動(dòng)連桿12與支座9上的連接座9-1 固定連接，各驅(qū)動(dòng)氣缸15上分別具有接口與外部的氣流相通，通過(guò)壓縮空氣使驅(qū)動(dòng)氣缸15 內(nèi)的活塞桿軸向移動(dòng)，而帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)連桿12使支座9上下移動(dòng)。本發(fā)明為使驅(qū)動(dòng)連桿12受 力比較平穩(wěn)，驅(qū)動(dòng)氣缸15可采用兩個(gè)以上并安裝在機(jī)座11上，如兩個(gè)或四個(gè)驅(qū)動(dòng)氣缸15， 各驅(qū)動(dòng)氣缸15的活塞桿分別與聯(lián)板14連接，機(jī)座11上分別安裝有上下導(dǎo)套13，安裝在聯(lián) 板14上的驅(qū)動(dòng)連桿12設(shè)置在導(dǎo)套13內(nèi)。 見(jiàn)圖1所示，本發(fā)明外槽體2安裝在機(jī)座11的頂部，該機(jī)座11上還安裝有過(guò)渡板 IO，外槽體2通過(guò)過(guò)渡板10安裝在機(jī)座11上，外槽體2沿槽壁四周的上部安裝有噴口向下 傾斜的上噴嘴1，能將清冼水沖向光掩模板4的上表面，本發(fā)明的上噴嘴1采有常規(guī)結(jié)構(gòu)，而 上噴嘴1通過(guò)安裝座安裝在外槽體2的槽壁上，外槽體2的底板上具有排液流道2-l，將流 入外槽體2內(nèi)的液體通過(guò)排液流道2-l排出。見(jiàn)圖1、3所示，本發(fā)明的內(nèi)槽體3通過(guò)支承 架20安裝在外槽體2內(nèi)，且內(nèi)槽體3底部具有開(kāi)口 ，托架5的托盤(pán)5-1設(shè)置在內(nèi)槽體3內(nèi)， 托盤(pán)5-1的底面具有與內(nèi)槽體3密封的環(huán)形凸筋5-6，該環(huán)形凸筋5-6可設(shè)置多圈，以減少 藥液的滲漏，本發(fā)明托盤(pán)5-1下部的托座5-5穿出內(nèi)槽體3的開(kāi)口與支座9密封連接，見(jiàn)圖 1、3所示，該托座5-5與支座9之間安裝有密封圈18，托盤(pán)5-1上設(shè)有用于支承光掩模板4 的兩個(gè)以上的支承座5-2，本發(fā)明的托盤(pán)5-1可呈內(nèi)凹形或平板形，內(nèi)槽體3的四周槽壁的 高度大于托盤(pán)5-1的支承座5-2和光掩模板4的高度之和，本發(fā)明托盤(pán)5-1上設(shè)有藥液下 出口 5-8，通過(guò)藥液下出口 5-8對(duì)光掩模板4的下表面進(jìn)行沖淋浸，托盤(pán)5-1沿其周邊設(shè)置 的兩個(gè)以上的藥液側(cè)出口 5-7，該藥液側(cè)出口 5-7采用如圖3所示斜置，或設(shè)置在托盤(pán)5-l 的側(cè)面，可通過(guò)斜置的藥液側(cè)出口 5-7使藥液通過(guò)內(nèi)槽體的內(nèi)側(cè)壁反射至光掩模板4的側(cè) 部和上部，通過(guò)藥液側(cè)出口 5-7使藥液對(duì)光掩模板4的側(cè)部和上部進(jìn)行沖淋浸，藥液下出口 5-8和藥液側(cè)出口 5-7均與托架5內(nèi)的藥液流道5-4相通，通過(guò)托架5將藥液注入到內(nèi)槽 體3內(nèi)，對(duì)光掩模板4進(jìn)行浸泡，并能減少藥液的用量。見(jiàn)圖1、2所示，本發(fā)明的托架5內(nèi) 還設(shè)有水道5-3，水道5-3出口安裝有兩個(gè)以上的下噴嘴21，托架5內(nèi)的水道5-3和上噴嘴 1分別與水管連接，通過(guò)上噴嘴1和下噴嘴21對(duì)光掩模板4的上下兩面同時(shí)進(jìn)行清洗。見(jiàn) 圖l所示，本發(fā)明的支座9包括上部的藥液混合腔9-3、下部的連接座9-l以及設(shè)置在支座 9上兩個(gè)獨(dú)立與藥液混合腔9-3相通的進(jìn)藥孔9-2，各進(jìn)藥孔9-2的出口安裝有單向閥17， 進(jìn)藥孔9-2的進(jìn)口與藥液管道16連接，通過(guò)單向閥17防止藥液從進(jìn)藥孔9-2回流到藥液管道16內(nèi)，支座9上的藥液混合腔9-3與托架5上的藥液流道5-4相通，見(jiàn)圖1、4所示，本 發(fā)明濃硫酸與過(guò)氧化氫在支座9上的藥液混合腔9-3在線混合后注入內(nèi)槽體3內(nèi)，該濃硫 酸與過(guò)氧化氫分別通過(guò)各自的液壓泵、藥液管道16和單向閥17后進(jìn)入支座9的藥液混合 腔9-3內(nèi)混合，該藥液的流量由各管路上的壓力閥控制，本發(fā)明可在線對(duì)濃硫酸進(jìn)行加熱， 濃硫酸與過(guò)氧化氫混合達(dá)到60 12(TC的溫度，以提供高活性的藥效，提高去膠效率。見(jiàn)圖 1 3所示，本發(fā)明套在支座9外側(cè)的柔性密封套7兩側(cè)分別密封連接在外槽體2和托架5 的托座5-5上，通過(guò)該柔性密封套7使藥液不會(huì)外流，而侵蝕到清洗槽下方的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。為 安裝方便，并能保持較好的密封效果，本發(fā)明托架5的托座5-5和外槽體2的底板上分別安 裝有連接件6，連接件6為環(huán)槽形，柔性密封套7兩側(cè)分別安裝在連接件6上，柔性密封套7 兩側(cè)分別安裝有下密封圈8和上密封圈19與外槽體2的底板及托架5的托座5-5密封，本 發(fā)明的柔性密封套7兩側(cè)采用耐腐蝕的材料制成的安裝座以及可折疊、耐腐的套管，以確 保驅(qū)動(dòng)連桿12的工作行程。 本發(fā)明的電子束膠光掩模的去膠方法，按以下步驟進(jìn)行，
實(shí)施例1 將光掩模板放在托架5的支承座5-2上，驅(qū)動(dòng)氣缸15帶動(dòng)托架5下移將托盤(pán)5_1 壓在內(nèi)槽體3上，使得托架5和內(nèi)槽體3之間構(gòu)成密封空間，在線將加熱至50 8(TC的濃 硫酸與過(guò)氧化氫按體積比以2 6 : l在支座9的藥液混合腔9-3內(nèi)混合，并注入至內(nèi)槽 體3內(nèi)，該濃硫酸與過(guò)氧化氫分別通過(guò)各自的液壓泵、藥液管道16、支座9內(nèi)的進(jìn)藥孔9-2 和單向閥17后而進(jìn)入藥液混合腔9-3內(nèi)混合，再通過(guò)托盤(pán)5-1內(nèi)的藥液流道5-4、底部的 藥液下出口 5-8及藥液側(cè)出口 5-7在內(nèi)槽體3內(nèi)蓄積，通過(guò)藥液下出口 5-8及藥液側(cè)出口 5-7分別對(duì)光掩模板4上下兩面同時(shí)進(jìn)行藥液噴淋和浸潤(rùn)，而提高清洗效果，當(dāng)藥液淹沒(méi)光 掩模板4后停止注入，光掩模板4在藥液中浸泡5 10分鐘，利用濃硫酸與過(guò)氧化氫按混 合后具有的超強(qiáng)氧化性和強(qiáng)腐蝕性，將光掩模板4表面光膠剝離干凈，以去除光掩模板4表 面的光刻膠。驅(qū)動(dòng)氣缸15作上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)連桿12使支座9和托架5上下移動(dòng)， 并開(kāi)啟設(shè)置在外槽體2周壁上的上噴嘴1以及托盤(pán)5-1上的下噴嘴21，去離子水同時(shí)沖洗 隨托盤(pán)5-1移動(dòng)的光掩模板4的上下兩面5 10分鐘，將光掩模板4表面殘留藥液沖洗干 凈，內(nèi)槽體3內(nèi)的液體通過(guò)外槽體2底板上的排液流道2-1排出。
實(shí)施例2 將光掩模板放在托架5的支承座5-2上，該托架5的托盤(pán)5_1位于內(nèi)槽體3內(nèi)并能 上下移動(dòng)，驅(qū)動(dòng)氣缸15帶動(dòng)托架5下移將托盤(pán)5-1壓在內(nèi)槽體3上，使得托架5和內(nèi)槽體3 之間構(gòu)成密封空間。在線將加熱至60 9(TC的濃硫酸與過(guò)氧化氫按體積比以4 8 : 1 在支座的藥液混合腔9-3內(nèi)混合，并注入至內(nèi)槽體3內(nèi)該濃硫酸與過(guò)氧化氫分別通過(guò)各自 的液壓泵、藥液管道16、支座9內(nèi)的進(jìn)藥孔9-2和單向閥17后而進(jìn)入藥液混合腔9-3內(nèi)混 合，再通過(guò)托盤(pán)5-1內(nèi)的藥液流道5-4、底部的藥液下出口 5-8及藥液側(cè)出口 5-7在內(nèi)槽體 3內(nèi)蓄積，當(dāng)藥液淹沒(méi)光掩模板4后停止注入，通過(guò)藥液下出口 5-8及藥液側(cè)出口 5-7分別 對(duì)光掩模板4上下兩面同時(shí)進(jìn)行藥液噴淋和浸潤(rùn)，光掩模板4在藥液中浸泡3 6分鐘，利 用濃硫酸與過(guò)氧化氫按混合后具有的超強(qiáng)氧化性和強(qiáng)腐蝕性，將光掩模板表面光膠剝離干 凈，以去除光掩模板表面的光刻膠。驅(qū)動(dòng)氣缸15作上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)連桿12使支座 9和托架5上下移動(dòng)，并開(kāi)啟設(shè)置在外槽體2周壁上的上噴嘴1以及托盤(pán)5-1上的下噴嘴
621，用去離子水沖洗隨托盤(pán)5-1移動(dòng)的光掩模板的上下兩面5 8分鐘，將光掩模板4表面 殘留藥液沖洗干凈，同時(shí)內(nèi)槽體3內(nèi)的液體通過(guò)外槽體2底板上的排液流道2-1排出。
實(shí)施例3 將光掩模板放在托架5的支承座5-2上，該托架5的托盤(pán)5-1位于內(nèi)槽體3內(nèi)并能 上下移動(dòng)，驅(qū)動(dòng)氣缸15帶動(dòng)托架5下移將托盤(pán)5-1壓在內(nèi)槽體3上，使得托架5和內(nèi)槽體3 之間構(gòu)成密封空間，在線將加熱至90 12(TC的濃硫酸與過(guò)氧化氫按體積比以5 9 : 1 在支座的藥液混合腔9-3內(nèi)混合后注入至內(nèi)槽體3內(nèi)，當(dāng)藥液淹沒(méi)光掩模板后停止注入，光 掩模板在藥液中浸泡1 5分鐘，利用濃硫酸與過(guò)氧化氫按混合后具有的超強(qiáng)氧化性和強(qiáng) 腐蝕性，將光掩模板表面光膠剝離干凈，以去除光掩模板表面的光刻膠。驅(qū)動(dòng)氣缸15作上 下往復(fù)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)連桿12使支座9和托架5上下移動(dòng)，并開(kāi)啟設(shè)置在外槽體2周壁上的 上噴嘴1以及托盤(pán)5-1上的下噴嘴21，用去離子水沖洗隨托盤(pán)5-1移動(dòng)的光掩模板的上下 兩面1 5分鐘，將光掩模板4表面殘留藥液沖洗干凈，同時(shí)內(nèi)槽體3內(nèi)的液體通過(guò)外槽體 2底板上的排液流道2-1排出。 見(jiàn)圖5、6所示，用本發(fā)明的去膠方法對(duì)光掩模板進(jìn)行處理，與深槽式浸泡去除光 膠方法對(duì)光掩模板進(jìn)行處理后進(jìn)行檢測(cè)對(duì)比統(tǒng)計(jì)，隨著缺陷顆粒粒徑的減小，缺陷顆粒數(shù) 的數(shù)量明顯比用傳統(tǒng)方法少，非常顯著地提高了光掩模工藝制作水平。
權(quán)利要求
一種電子束膠光掩模板的去膠裝置，其特征在于包括外槽體(2)、內(nèi)槽體(3)、托架(5)以及支座(9)、驅(qū)動(dòng)氣缸(15)和機(jī)座(11)，安裝在機(jī)座(11)底部的驅(qū)動(dòng)氣缸(15)其活塞桿通過(guò)聯(lián)板(14)與驅(qū)動(dòng)連桿(12)連接，驅(qū)動(dòng)連桿(12)與支座(9)的連接座(9-1)固定連接；所述的外槽體(2)安裝在機(jī)座(11)的頂部，外槽體(2)沿槽壁四周的上部安裝有噴口向下傾斜的上噴嘴(1)、底板上有排液流道(2-1)；所述的內(nèi)槽體(3)通過(guò)支承架(20)安裝在外槽體(2)內(nèi)，內(nèi)槽體(3)底部具有開(kāi)口；所述托架(5)的托盤(pán)(5-1)設(shè)置在內(nèi)槽體(3)內(nèi)，且托盤(pán)(5-1)底面有與內(nèi)槽體(3)密封的環(huán)形凸筋(5-6)，托盤(pán)(5-1)下部的托座(5-5)穿出內(nèi)槽體(3)的開(kāi)口與支座(9)密封連接，托盤(pán)(5-1)上設(shè)有用于支承光掩模板的兩個(gè)以上凸起的支承座(5-2)，托盤(pán)(5-1)上的藥液下出口(5-8)和周邊的兩個(gè)以上藥液側(cè)出口(5-7)分別與托架(5)內(nèi)的藥液流道(5-4)相通，托架(5)的水道(5-3)出口安裝有下噴嘴(21)，托架(5)內(nèi)的水道(5-3)和上噴嘴(1)分別與水管連接；所述支座(9)包括上部的藥液混合腔(9-3)、下部的連接座(9-1)以及設(shè)置在支座(9)上兩個(gè)獨(dú)立與藥液混合腔(9-3)相通的進(jìn)藥孔(9-2)，各進(jìn)藥孔(9-2)的出口安裝有單向閥(17)、進(jìn)口與藥液管道(16)連接，支座(9)上的藥液混合腔(9-3)與托架(5)的藥液流道(5-4)相通，套在支座(9)外側(cè)的柔性密封套(7)兩側(cè)分別密封連接在外槽體(2)和托架(5)的托座(5-5)上。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電子束膠光掩模板的去膠裝置，其特征在于所述托架(5) 的托座(5-5)和外槽體(2)的底板上分別安裝有連接件(6)，柔性密封套(7)兩側(cè)分別通過(guò) 連接件(6)與外槽體(2)的底板和托架(5)的托座(5-5)密封連接。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束膠光掩模板的去膠裝置，其特征在于所述的機(jī)座 (11)上還安裝有過(guò)渡板(IO)，外槽體(2)通過(guò)過(guò)渡板(10)與機(jī)座(11)連接。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電子束膠光掩模板的去膠裝置，其特征在于所述驅(qū)動(dòng)氣缸 (15)兩個(gè)以上并安裝在機(jī)座(11)上，機(jī)座(11)上分別安裝有導(dǎo)套(13)，安裝在聯(lián)板(14) 上的驅(qū)動(dòng)連桿(12)設(shè)置在導(dǎo)套(13)內(nèi)。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的電子束膠光掩模板的去膠方法，其特征在于(1)、將光掩 模板平放在托盤(pán)的支承座上，驅(qū)動(dòng)氣缸帶動(dòng)托架下移將托盤(pán)壓在內(nèi)槽體上；(2)、將加熱至 50 12(TC的濃硫酸與過(guò)氧化氫按體積比以2 12 : 1在支座的藥液混合腔內(nèi)混合，并注 入至內(nèi)槽體內(nèi)，當(dāng)藥液淹沒(méi)光掩模板后，停止藥液注入，將光掩模板浸泡1 10分鐘，去除 光掩模板表面的光刻膠；(3)、驅(qū)動(dòng)氣缸作上下往復(fù)運(yùn)動(dòng)帶動(dòng)驅(qū)動(dòng)連桿使支座和托架上下移 動(dòng)，并開(kāi)啟設(shè)置在外槽體周壁上的上噴嘴以及設(shè)置在托盤(pán)上的下噴嘴，用去離子水沖洗光 掩模板的上下兩面1 10分鐘，同時(shí)內(nèi)槽體內(nèi)的液體通過(guò)外槽體底板上的排液流道排出。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的電子束膠光掩模板的去膠方法，其特征在于其特征在于所 述濃硫酸在線加熱至60 90°C ，濃硫酸與過(guò)氧化氫的體積比按4 8 : 1混合，光掩模板 在藥液中浸泡時(shí)間為3 6分鐘，用去離子水沖光掩模板的上下兩面5 8分鐘。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種電子束膠光掩模板的去膠裝置，安裝在機(jī)座下部的驅(qū)動(dòng)氣缸其活塞桿通過(guò)聯(lián)板與驅(qū)動(dòng)連桿連接，驅(qū)動(dòng)連桿與支座固定連接；安裝在機(jī)座上部的外槽體的槽壁四周安裝有上噴嘴、底板有排液流道；內(nèi)槽體通過(guò)支承架安裝在外槽體內(nèi)，托架的托盤(pán)設(shè)置在內(nèi)槽體內(nèi)，托盤(pán)底面具有環(huán)形凸筋，托盤(pán)下部的托座穿出內(nèi)槽體與支座密封連接，托盤(pán)上設(shè)有支承座、與藥液流道相通的藥液下出口和藥液側(cè)出口及下噴嘴；支座的藥液混合腔與托架上的藥液流道相通，支座與藥液混合腔相通的兩個(gè)獨(dú)立進(jìn)藥孔其出口設(shè)有單向閥、進(jìn)口與藥液管道連接，套在支座外側(cè)的柔性密封套密封連接在外槽體和托架的托座上。本發(fā)明具有去膠降低成本、生產(chǎn)效率高的特點(diǎn)。
文檔編號(hào)G03F7/42GK101794089SQ201010156909
公開(kāi)日2010年8月4日 申請(qǐng)日期2010年4月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月12日
發(fā)明者徐飛, 毛汛, 田煒, 趙延峰, 金海濤 申請(qǐng)人:常州瑞擇微電子科技有限公司;無(wú)錫華潤(rùn)微電子有限公司