專利名稱：用于腔室狹縫閥及i/o的整合式局部襯底中心搜尋器的方法及設備的制作方法
技術領域：
本發(fā)明一般而言涉及電子裝置及/或襯底處理系統(tǒng)，并且更具體地涉及在處理腔 室內(nèi)定位取放(pick up and drop off)襯底晶片的理想位置。
背景技術：
用于電子裝置中的襯底(例如半導體、玻璃等)的處理通常是在處理工具的一個 以上的處理腔室內(nèi)完成。襯底可經(jīng)由中央傳送腔室而在處理腔室之間移動。狹縫閥連接該 中央傳送腔室至處理腔室。機械臂旋轉并延伸以從處理腔室裝載及卸載襯底晶片。襯底必 須精準定位在該機械臂(或葉片)上的理想取放位置。距這些理想位置的偏移會隨后對 襯底處理造成負面后果。例如，若在拾取襯底時，襯底并未恰當?shù)囟ㄎ患白湓跈C械臂上， 則襯底可能在從處理腔室移出期間從機械臂上滑落。這可能導致襯底部分留在處理吸座 (chuck)上，并且部分在該狹縫閥內(nèi)。因此需要排氣并打開傳送腔室以手動移除襯底。此 外，襯底可能因為與腔室部件的接觸或狹縫閥的移動而污染、損壞或甚至破裂，特別是若狹 縫閥過早關閉。這些負面后果會導致較長且較昂貴的處理時間，而這是不樂見的。用來精準定位襯底的傳統(tǒng)系統(tǒng)包含使用特制的配置工具(setup tool)和測量晶 片(例如“晶片上攝影機(camera on wafer))，以在從處理腔室裝載或卸載襯底時對機械 臂的旋轉和延伸進行程序化。但是，這些系統(tǒng)的一些問題是若非必須開啟腔室方可使用該 工具，就是該工具本身相當昂貴，因此使用上相當受限。此外，機械裝置(robot)會經(jīng)歷正常耗損，特別是在軸承處，并且也會經(jīng)歷溫度上 的改變，這因而會造成機械裝置部件的膨脹和收縮。因此，腔室內(nèi)襯底的“理想的”取放位 置會隨時間改變。但是，若將機械臂的延伸和旋轉設定在特定度量，如傳統(tǒng)系統(tǒng)所述，則該 設定度量無法顧及工具中的這些改變。此外，襯底在運送過程當中時，襯底本身可能會在機械臂上移動，或在其下降至處
4理吸座和其它設備上或從處理吸座和其它設備升起時，會在腔室內(nèi)移動。擁有特別經(jīng)過校 準的延伸和旋轉移動的機械裝置無法針對襯底在機械臂上的這些錯位做出調(diào)整。據(jù)此，存 有對于一種容許改善的襯底中心搜尋的系統(tǒng)的需要。

發(fā)明內(nèi)容
在本發(fā)明的某些方面中，應用一種設備來定位襯底的真實中心。該設備包含框 架，其安裝在襯底處理設備的狹縫閥組件和傳送腔室壁之間；至少一個發(fā)射器，其容納在框 架內(nèi)，并適于發(fā)射信號；至少一個傳感器，其容納在框架內(nèi)，并適于接收發(fā)射的信號；以及 控制器，適于基于傳感器所接收到的信號來判定襯底的中心。在本發(fā)明的另一方面，提供一種用來定位襯底的真實中心的設備。該設備包含1/ 0狹縫閥組件，包含狹縫閥門，該狹縫閥門適于選擇性地開啟和關閉I/O狹縫閥，其中，I/O 狹縫閥組件設置在半導體處理設備的閥座框架內(nèi)；至少一個發(fā)射器，其一體地安裝至狹縫 閥門，并適于發(fā)射信號；至少一個傳感器，其一體地安裝至狹縫閥框架，并適于接收發(fā)射的 信號，其中該至少一個發(fā)射器和該至少一個傳感器是相對的光學組件；以及控制器，其適于 基于傳感器所接收到的信號來判定襯底的中心。本發(fā)明的另一方面提供一種系統(tǒng)，該系統(tǒng)包含傳送腔室，其包含狹縫閥；框架， 其安裝在襯底處理設備中的狹縫閥組件和傳送腔室壁之間；至少一個發(fā)射器，其容納在框 架內(nèi)，并適于發(fā)射信號；至少一個傳感器，其容納在該框架內(nèi)，并適于接收發(fā)射的信號；以 及控制器，其適于基于傳感器所接收到的信號來判定襯底的中心。本發(fā)明的其它特征結構及方面可由以下詳細說明、附圖及權利要求而變得更加明
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圖1是本發(fā)明設備的示例實施例的前方立體視圖。圖2是本發(fā)明設備的示例實施例的后方立體視圖。圖3是本發(fā)明設備的示例實施例安裝在襯底傳送腔室內(nèi)時的前方立體視圖。圖4是示出使用根據(jù)本發(fā)明的示例設備實施例的示例方法的流程圖。圖5是本發(fā)明設備的示例實施例的前方立體視圖。圖6是本發(fā)明設備的示例實施例的前方立體視圖。
具體實施例方式本發(fā)明針對用來在運用高溫條件的襯底傳送腔室內(nèi)改善襯底中心搜尋(例如，定 位襯底的中心)的方法及設備。具體地，本發(fā)明可容許在每一個處理腔室或群集式工具 (cluster tool)的入口處測量襯底并判定襯底中心。本發(fā)明提供在襯底通過狹縫閥時用于光學定位襯底的真實中心的系統(tǒng)、方法及設 備。可在機械臂延伸而將襯底置入腔室內(nèi)及機械臂縮回而將襯底從腔室退出的兩個期間定 位該真實中心。換句話說，可在每一次傳送襯底進入或移出處理腔室時判定襯底的真實中 心。此方法可補償熱效應和機械裝置部件的磨損。該真實襯底中心可用來更準確且可靠地 將襯底定位在處理腔室基座或吸座上。
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此外，本發(fā)明也使得對于傳統(tǒng)系統(tǒng)所述的配置工具的需求最小化或消除。一旦在 襯底處理腔室內(nèi)建立理想的取/放位置，則可使用計算出的襯底的真實中心來自動調(diào)整機 械裝置的移動，以將襯底放置在理想位置上，或從理想位置上拾取襯底。也可用襯底的真實中心將抽出的襯底更準確地定位在儲存升降機(storage elevator)或其它保持裝置內(nèi)，這可在該儲存裝稍后卸載時輔助降低襯底傳送誤差。此外，將襯底裝載至定向(orientation)腔室時，可利用襯底的真實中心將襯底 準確地定位在旋轉吸座上，以輔助該腔室的快速操作。為了進一步最佳化該腔室的操作速度，可增加機械裝置的速度，并且甚至可以自 動化?？衫锚M縫閥中心搜尋器來增加機械裝置的速度，狹縫閥中心搜尋器可用來在該腔 室的入口或出口處確認襯底存在于該機械裝置葉片上和適當?shù)囟ㄎ?。若該狹縫閥事實上被 阻塞住，也可使用該中心搜尋器來判定狹縫閥的阻塞并避免閥關閉。雖然傳統(tǒng)設備也可以 受限的方式提供此功能，但實際上總是不可能安裝傳統(tǒng)設備，因為傳統(tǒng)設備的安裝通常會 需要大幅度調(diào)整該設備，以提供對于傳送中的襯底的光學存取(access)。反之，本發(fā)明需要 極少或不需要此種實體上的調(diào)整。此外，由于本發(fā)明的實體定位，本發(fā)明的操作無論是在襯 底置入或自腔室退出時皆可同樣良好地執(zhí)行。此外，通過使用既有的算法和接口硬件，可使該中心搜尋器操作能夠透通 (transparent)機械裝置的移動(“實時處理(on the fly)”操作)。也就是說，機械裝置 控制器會隨時知道機械臂和襯底吸座的精確位置。因此，可在移動期間，于成對(pair)傳 感器的光學過渡點處記錄機械臂和吸座的位置信息?，F(xiàn)代的機械裝置控制器能夠執(zhí)行必要 的算術運算以判定襯底中心，并且同時控制機械臂和吸座的移動在最大操作速度下。因為 機械臂和吸座的移動在算術運算期間能夠不受影響，故可將該中心判定稱為“實時處理”操 作。在一些實施例中，該設備可包含支撐框架，其可定位、對準、光學遮蔽、和/或熱遮 蔽容納在該框架內(nèi)的部件(例如光發(fā)射器、光傳感器、線路等等)。受遮蔽的部件，例如光 發(fā)射器和光傳感器，可用于襯底定位操作，例如中心和/或邊緣搜尋。該支撐框架可讓受遮 蔽的部件精確對準，并改善定位準確性和襯底中心判定。用來進行光學信號比較、尺寸選擇 例程、校準功能、部件控制和/或其它適當功能的控制電路(例如電子邏輯板、單芯片微控 制器、微處理器等)可鄰接該支撐框架、與其附接、或與其相隔遠距離設置。在一些實施例 中，該控制電路可設置在該支撐框架的末端，以避免控制電路與散發(fā)熱量的熱襯底接近，該 熱量會傷害該控制電路。在一些實施例中，該支撐框架可利用導熱托架而固定到襯底傳送 腔室，導熱托架可有效輔助從傳感器框架傳遞熱能至周圍結構以幫助散熱，從而在該支撐 框架主體和該傳感器電路內(nèi)保持相對低的溫度。圖1圖示本發(fā)明設備的實施例的前方立體視圖，其通常系以參考符號100標示。如 圖1所示，在示例實施例中，該設備100可包含支撐框架102，而支撐框架102具有切除區(qū) 104，以讓襯底(未示出)可通過其間。如圖1進一步示出，該支撐框架102可擁有一個或 多個孔106，以容納和/或暴露光學部件108 (例如光傳感器和/或光發(fā)射器)。該設備更 可包含控制器110，其可固定而鄰近該支撐框架102的末端。該控制器110可定位在任何其 它適當位置。該支撐框架102可由任何適當材料構成，例如鋁、不銹鋼、鈦和/或陶瓷。也可使
6用其它適合材料。也可電鍍和/或涂覆該支撐框架102，以至少改善該支撐框架102的熱反 射率。示例性的電鍍層和/或涂層可包含金屬電鍍層，例如24K金電鍍層、陶瓷涂層、反射 式電鍍層、陽極電鍍和/或噴漆?？墒褂闷渌m合的電鍍層/涂層。在一些實施例中，該支 撐框架102的形狀可實質(zhì)與內(nèi)部傳送腔室壁的輪廓相符。在一些實施例中，該框架102可 以是大約長度9”乘以高度13/4”，且其切除區(qū)104為約長度8%”乘以高度1/2”。此種尺寸 可適用于200毫米襯底。也可使用其它適合尺寸。具體地，例如，可使用適用于300毫米襯 底的尺寸(例如，具有切除區(qū)104為約12%’’乘以高度1/2”的框架102)。操作時，當襯底進出傳送腔室或其它腔室時，襯底可通過該設備100 (例如，通過 該支撐框架102內(nèi)的切除區(qū)104)。當該支撐框架102設置在傳送腔室內(nèi)時，該切除區(qū)104 可與該傳送腔室的狹縫閥符合或對準。據(jù)此，該支撐框架102可具有適當尺寸和形狀，以適 配相鄰于傳送腔室的內(nèi)部腔室壁，而不會延伸入保留給襯底升降機和/或機械裝置、和/或 襯底留置/移動區(qū)的空間內(nèi)或基于任何其它適合原因保留的空間內(nèi)。在一些實施例中，可在該支撐框架102的上部設置有呈一直線或其它間隔圖案的 多個孔(如7個)，并且可在該支撐框架102的下部設置額外的對應孔106。雖然在圖1的 設備100上示出7個孔106，但可提供任何適用數(shù)量的孔(例如，1、2、3等)。在一些實施例 中，一對的孔(一個孔在上部，而對應的孔在下部)僅能提供襯底存在的感測，而兩對的孔 則可提供襯底存在感測和中心搜尋功能。在一些實施例中，可含有三對孔以負責襯底邊緣 的平坦部分及凹口部分。當襯底通過該切除區(qū)104時，可用該孔106來容納負責搜尋襯底 的前緣和/或后緣正切點的光學部件108。在一些實施例中，外側成對的孔106可用來容納 負責定位襯底外緣的光學部件108。例如，最內(nèi)部的成對孔(例如，在中心孔兩側最靠近中 心孔的上方及下方孔)可用來搜尋五英寸襯底的邊緣。在一些實施例中，最外側的成對孔 可用來搜尋八英寸襯底的邊緣。在一些實施例中，最內(nèi)側的成對孔和最外側的成對孔之間 的成對孔可用來搜尋六英寸襯底的邊緣?？墒褂萌魏纹渌m當?shù)拈g距(例如，成對孔的位 置)來判定任何尺寸或類型的襯底的邊緣。本發(fā)明可通過使用適當?shù)墓鈱W部件108裝置和 波長與任何類型的襯底并用(例如，半導體晶片、平面顯示器的玻璃平板等)。該光學部件108可包含串聯(lián)使用的光發(fā)射器和光傳感器，以判定傳送的光學信號 存在與否，光學信號可指示襯底的存在(例如，經(jīng)由透射或反射)。另外或此外，可使用高溫 光纖(例如，塑料、玻璃、或光纖束)和/或影像管。當襯底通過該支撐框架102時，可使用 任何其它適當?shù)墓鈱W或其它部件來檢測襯底的存在和/或不存在?？赏ㄟ^將光學部件108 置放在該支撐框架102的孔106內(nèi)而精確對準和/或定位。另外或此外，該支撐框架102 可圍繞光學部件108鑄造和/或光學部件108可整合在該支撐框架102的構造中。如上所述，在一些實施例中，該控制器110可固定而鄰接該支撐框架102的末端。 另外或此外，該控制器Iio可設在襯底傳送腔室內(nèi)的另一個位置、設在鄰近該支撐框架102 的另一個位置、和/或設在該襯底傳送腔室外部。在示例實施例中，該控制器110與可能含 有襯底的區(qū)域分隔開約1英寸或更遠。該控制器110可以是電子邏輯板、例如為單芯片微 控制器的微控制器、微處理器、或諸如此類。該控制器110可適于提供本發(fā)明設備100的自 動校準和/或尺寸選擇，和/或促進襯底中心位置的檢測和計算。轉而參見圖2，示出本發(fā)明設備100的實施例的后方立體視圖。該光學部件108 (圖 1)可通過線路信道112而電氣連接至該控制器110，該信道112可以例如是利用不透明封裝材料和/或其它熱和/或光遮蔽材料而封住。容納在該孔106內(nèi)的光學和/或電氣部件 108可透過容納在該支撐框架102內(nèi)的線路而連接至該控制器110。該線路信道112可設 置在該支撐框架102內(nèi)，并且可從該支撐框架102后端進入，如圖2所示。例如，線路、電氣 部件、和/或光學部件可利用封裝材料而封在該支撐框架102內(nèi)(或以其它方式固定在該 支撐框架102內(nèi))。所使用的特定封裝材料較佳地能夠承受高幅射熱溫度，并且能夠遮蔽 容納在該封裝材料內(nèi)的部件不受到熱的損害效應。示例性封裝材料可包含能由市面購得的 產(chǎn)品，例如加州Palo Alto的Varian公司制造的Torr-Seal、加州Dublin的Tap Plastics 制造的 Marine Grade Epoxy、紐澤西州 Hackensack 的 Master Bond 公司制造的 HT Epoxy 等。也可使用其它適合的封裝材料。圖3示出本發(fā)明設備100的實施例安裝在襯底傳送腔室300內(nèi)時的前方立體視 圖。該支撐框架102可利用托架114而固定至襯底傳送腔室。該托架114可由任何適合材 料構成，以促進熱從該支撐框架102逸散至該襯底傳送腔室壁。此種材料可以是不銹鋼、其 它導熱金屬、或諸如此類。也可使用其它材料。該托架114可用來從該支撐框架102傳熱， 因此降低該支撐框架102的溫度，并進一步保護該光學部件108和該控制器110不受到熱 暴露及傷害。在一些實施例中，該控制器110可與托架114連接，或者與托架114分離。當 與托架114連接時，該控制器110可利用絕緣材料(例如，尼龍球、塑料間隔件等)而與其 絕緣。圖4示出本發(fā)明的示例方法400，其包含該設備100在傳送腔室內(nèi)的安裝及使用。 在步驟402，將傳感器陣列(例如光學部件108，包含光傳感器和/或發(fā)射器)安裝在該支 撐框架102中的孔內(nèi)?？墒褂眠m于檢測襯底的任何適用類型的傳感器。舉例來說，在傳感 器和控制器110之間的連接線(或成對的連接線)可穿過并封閉在該線路信道112內(nèi)。該 傳感器可經(jīng)過對準，以便能檢測通過該設備100的切除區(qū)104的襯底。在步驟404，可將該設備100安裝在傳送腔室內(nèi)，使得該切除區(qū)104與該傳送腔室 的狹縫閥對準?？捎脤嵬屑?14來將該設備100固定在該傳送腔室300內(nèi)部。與將該托 架安裝在該腔室底壁上(可能需要對其做出調(diào)整)相比較，而將該設備固定在該傳送腔室 300內(nèi)部是有利的。在步驟406，熱襯底可通過該切除區(qū)104，同時遮蔽在該支撐框架102內(nèi)的傳感器 檢測該襯底。該支撐框架102的材料可將該襯底的熱(和/或來自任何其它來源(例如處 理腔室)的熱)反射離開該傳感器。另外或此外，該支撐框架102和該托架114可使該襯 底(和/或任何其它熱源)所輻射的熱傳導離開該傳感器而例如至該傳送腔室的壁。在步驟408，該控制器110例如可比較傳感器檢測該襯底通過的相對時間來判斷 關于該襯底的信息(例如，該襯底的尺寸、該襯底的相對位置、該襯底的中心等)。舉例來 說，若對稱設置在該支撐框架102兩端的兩個傳感器指示出襯底同時通過兩個傳感器(例 如，兩個傳感器同時檢測到該襯底的前緣和/或后緣)，該控制器110可判定該襯底的中心 (例如，相對于該襯底的寬度尺寸)落在兩個傳感器之間的等距離的線上。此外，在一些實 施例中，該邊緣檢測信號的時間可指示與該襯底的移動平形的維度上的中心位置或線。在 另一示例中，若對稱設置在該支撐框架102的兩端的兩個傳感器指示出襯底的邊緣在不同 時間通過該傳感器，則該控制器110可判定例如，該襯底移動更靠近其中一個傳感器，而此 移動量可基于已知的襯底形狀計算出(例如，特定直徑的圓形襯底的邊緣的已知曲率)。
在步驟410，可基于該控制器110所判定的信息來調(diào)整該襯底的位置(例如，將該 襯底置中)。例如，可用端效器來移動該襯底的位置，而此移動量等于且相反于步驟408所 判定的移動量。轉而參見圖5，其示出本發(fā)明的示例實施例的前方立體視圖。在此圖所示的實施例 中，設備500安裝在狹縫閥組件502上。該設備500可設置在該狹縫閥組件502和該傳送 腔室壁(未示出)之間。該設備500可包含該切除區(qū)504，以容許襯底通過其間。與上方參 照圖1-3所述的傳感器類似的數(shù)個傳感器(未示出)可安裝在該設備500的框架內(nèi)，并且 設置在該切除區(qū)504上方，而在標示為506的區(qū)域中。移動發(fā)射器陣列508可連接至該狹 縫閥組件502的門510。相應于傳感器數(shù)量的數(shù)個光發(fā)射器(未示出)可安裝在該移動發(fā)射器陣列508 內(nèi)。相對于該發(fā)射器的該傳感器較佳地安裝在該切除區(qū)504上方，因為該傳感器比該發(fā)射 器更易受到微?；蚱渌廴镜淖枞绊?。也可使用其它定位。在此位置，該傳感器也可受該設備500的框架(如上述)遮蔽而不受輻射熱影響。 該設備500的框架也可含有光學信道或孔，其可限制該傳感器的視野，因此增強準確度并 減少傷害該傳感器的可能性(無論該發(fā)射器/傳感器的位置如何)。在一些實施例中，該傳 感器對于高溫及光線可能比該發(fā)射器更敏感。在這些實施例中，限制該傳感器的視野可對 于準確性增強提供最高程度的益處。如上所述，該光發(fā)射器和傳感器可安裝在該設備500上的部分位置內(nèi)，因而可獲 得通過的襯底的準確測量。另外，如上所述，可基于所獲得的測量而使用標準化的中心搜尋 器軟件算法來判定襯底中心。例如，可感測襯底的邊緣以產(chǎn)生跨越襯底直徑的弦線(chord) 的數(shù)學表示。然后可檢查弦線的垂直線以判定弦線的跨越點，并且從該跨越點，可計算出襯 底的真實中心。因此，可在每一個處理腔室或群集式工具的入口處測量襯底并判定襯底中 心。在其它實施例中，如上所述，可使用直徑上相對的樣本點的中心點來判定中心。在又其 它實施例中，可組合兩種方法來判定襯底中心。如上所述，該移動發(fā)射器陣列508可連接至該狹縫閥組件502的門510上。因此， 當該致動器(未示出)移動(例如，開啟或關閉)該狹縫閥門510時，該移動發(fā)射器陣列508 可連同該門510移動?；蛘撸摪l(fā)射器陣列508可連接至靜止的致動器(未示出)，該致動 器適于控制該狹縫閥組件502，因此使發(fā)射器陣列508靜止不動。該設備500可設置在該狹 縫閥組件502和該傳送腔室之間，因此當該狹縫閥門510( “移動部分”)處于關閉位置時， 該狹縫閥門510可遮蔽該光發(fā)射器和傳感器不受處理化學物質(zhì)和其它危害物的影響。當該 狹縫閥門510處于開啟位置時，由此容許襯底通過該切除區(qū)504，該發(fā)射器可與該傳感器對 準，以判定襯底的中心。該移動發(fā)射器陣列508的實施例是有益的，因為該移動發(fā)射器陣列508的安裝可 以相當簡單，并且每一個光發(fā)射器的軸可與每一個對應的傳感器的軸較佳的對準，例如，與 該門510的平面大約平行。另一方面，靜止的發(fā)射器陣列508的優(yōu)勢會是在該門510的操 作期間線路不會移動。該光發(fā)射器和傳感器可包含連接線512，其可被覆蓋或封裝，使得該連接線512固 定在預設位置內(nèi)，且不會受到機械、化學或電氣有害物的傷害。此外，該設備500可包含保 護窗口(未示出)，以覆蓋該光發(fā)射器和傳感器，以進一步避免處理化學物質(zhì)的傷害。該保護窗口可以例如是惰性(inert)窗口、鏡片、光管、或由與處理化學物質(zhì)兼容的材料制成的 其它部件。例如，該保護窗口可一直覆蓋該光發(fā)射器和傳感器。在此示例中，該保護窗口可 由仍可容許襯底測量執(zhí)行的材料制成。為了進一步避免對于該光發(fā)射器和傳感器的可能傷害，可使用聯(lián)機或邏輯 (wire-or logic)功能來限制用來連接多個傳感器至該機械裝置或系統(tǒng)控制邏輯所需的線 路數(shù)量?；蛘?，若可運用數(shù)據(jù)I/O通道，則每一個傳感器組(傳感器和發(fā)射器)可個別連接。 此外，可將電路設計為與已存在的中心搜尋器傳感器陣列平行(“聯(lián)機或邏輯”)。腔室狹 縫閥位置之間的操作選擇可通過控制該陣列內(nèi)多個中心搜尋器上的光放射器來達到?？稍诶芯S修停機時間將圖5所述的“附加(add-in)，，實施例安裝在已存在的襯 底處理系統(tǒng)上，此對生產(chǎn)具有最小的沖擊。此外，也可在此時執(zhí)行機械裝置或系統(tǒng)控制器軟 件更新以適用于本發(fā)明。轉而參見圖6，其示出本發(fā)明的示例實施例600的前方立體視圖。在圖中所示的實 施例中，可將光發(fā)射器陣列602配置成與I/O狹縫閥門604為一體，而相對的光傳感器裝置 (未示出)可一體安裝在位于該組件的切除區(qū)上方的狹縫閥框架606的靜止部分上(在圖 5標出)?；蛘撸摴獍l(fā)射器陣列602本身可一體形成在狹縫閥致動器608的下主體內(nèi)。當 該狹縫閥門604處于開啟位置時，容許襯底通過其間，該光學部件可以對準，因此如上所述 能夠獲得襯底測量。在此所述實施例也可包含上面關于圖5所述的特征結構。上面描述僅揭示本發(fā)明的示例實施例。上面揭示的設備及方法的落入本發(fā)明范圍 內(nèi)的調(diào)整對于熟知技術的人員而言是顯而易見的。例如，在此所述的設備和方法可用于其 它感測應用，例如邊緣搜尋，并且也可用于其它處理環(huán)境，例如襯底裝載和/或處理腔室。 本發(fā)明也可利用設計成提供不會阻礙襯底并且可耐受反射的輻射熱的中心搜尋器的其它 材料或配置而實現(xiàn)。據(jù)此，雖然本發(fā)明已關于其示例實施例做出揭示，但應了解其它實施例會落在如 權利要求所界定的本發(fā)明的精神及范圍內(nèi)。
權利要求
一種用來定位襯底的中心的設備，包含框架，其安裝在襯底處理設備的狹縫閥組件和傳送腔室壁之間；至少一個發(fā)射器，其容納在所述框架內(nèi)，并適于發(fā)射信號；至少一個傳感器，其容納在所述框架內(nèi)，并適于接收發(fā)射的所述信號；以及控制器，其適于基于由所述傳感器接收到的所述信號來判定襯底的中心。
2.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述至少一個傳感器和所述至少一個發(fā)射器一 起形成相應對；并且其中，所述相應對適于指示所述襯底的存在。
3.根據(jù)權利要求2所述的設備，其中，所述框架適于保護所述至少一個發(fā)射器和所述 至少一個傳感器免受熱危害。
4.根據(jù)權利要求2所述的設備，其中，所述至少一個相應對是被覆蓋和封裝的至少其 中一種；并且其中，所述覆蓋和封裝的至少其中一種適于在襯底處理期間保護至少一對傳 感器和發(fā)射器不受熱、機械、化學、電氣或其它有害物的至少一種的傷害。
5.根據(jù)權利要求2所述的設備，還包含至少一對連接線，所述至少一對連接線適于連 接所述至少一對傳感器和發(fā)射器至所述控制器；并且其中，所述至少一個連接線是被覆蓋 和封裝的至少其中一種。
6.根據(jù)權利要求2所述的設備，其中，所述設備還包括門，所述門適于在襯底處理期 間選擇性地遮蔽所述至少一對傳感器和發(fā)射器不受機械、熱、化學、電氣或其它有害物的影 響。
7.根據(jù)權利要求6所述的設備，其中，當所述門處于關閉位置時，所述門適于遮蔽所述 至少一對傳感器和發(fā)射器。
8.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，所述控制器適于使用標準化軟件算法來判定所 述襯底的所述中心的位置。
9.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中，發(fā)射的所述信號是光學信號。
10.一種用來定位襯底的中心的設備，包含I/O狹縫閥組件，其包含狹縫閥門，所述狹縫閥門適于選擇性地開啟和關閉所述I/O狹 縫閥，其中，所述I/O狹縫閥組件設置在半導體處理設備的閥座框架內(nèi)； 至少一個發(fā)射器，其一體地安裝至所述狹縫閥門，并適于發(fā)射信號； 至少一個傳感器，其一體地安裝至所述狹縫閥框架，并適于接收發(fā)射的所述信號，其 中，所述至少一個發(fā)射器和所述至少一傳感器是相對的光學組件；以及控制器，其適于基于所述傳感器所接收到的所述信號來判定襯底的中心。
11.根據(jù)權利要求10所述的設備，其中，所述狹縫閥門和所述狹縫閥框架適于選擇性 地對準所述至少一個發(fā)射器和傳感器；并且其中，所述至少一傳感器和所述至少一發(fā)射器 一起形成一對。
12.根據(jù)權利要求11所述的設備，其中，當所述狹縫閥門開啟時，所述至少一對發(fā)射器 和傳感器被對準。
13.一種系統(tǒng)，包含 傳送腔室，其包含狹縫閥；框架，其安裝在襯底處理設備的所述狹縫閥組件和傳送腔室壁之間； 至少一個發(fā)射器，其容納在所述框架內(nèi)，并適于發(fā)射信號；至少一個傳感器，其容納在所述框架內(nèi)，并適于接收發(fā)射的所述信號；以及 控制器，其適于基于所述傳感器所接收到的所述信號來判定襯底的中心。
14.根據(jù)權利要求13所述的系統(tǒng)，其中，所述至少一個傳感器和所述至少一個發(fā)射器 一起形成一對；并且其中，所述至少一對傳感器和發(fā)射器系是被覆蓋和封裝的至少其中一 種，以在襯底處理期間保護所述至少一對傳感器和發(fā)射器不受熱、機械、化學、電氣或其它 有害物的傷害。
15.根據(jù)權利要求13所述的系統(tǒng)，還包括至少一對連接線，所述至少一對連接線適于 連接所述至少一個發(fā)射器和所述至少一個傳感器至所述控制器。
全文摘要
本發(fā)明提供用來定位襯底中心的系統(tǒng)及設備。本發(fā)明包含框架，其安裝在襯底處理設備的狹縫閥組件和傳送腔室壁之間；至少一個發(fā)射器，其容納在框架內(nèi)，并適于發(fā)射信號；至少一個傳感器，其容納在框架內(nèi)，并適于接收發(fā)射的信號；以及控制器，適于基于傳感器所接收到的信號來判定襯底的中心。本發(fā)明提供多種其它實施方面。
文檔編號G02F1/13GK101925993SQ200980103106
公開日2010年12月22日 申請日期2009年1月24日 優(yōu)先權日2008年1月25日
發(fā)明者羅納德·V·肖爾 申請人:應用材料公司