專利名稱：柔性顯示基板和柔性顯示器件的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請涉及一種制造柔性顯示基板和柔性顯示器件的方法。
背景技術(shù)：
隨著信息時(shí)代的發(fā)展，已經(jīng)發(fā)展了各種平板顯示器件。平板顯示器件的實(shí) 施例包括液晶顯示(LCD)器件、等離子體顯示面板(PDP)器件、電致發(fā)光 顯示器件(ELD)和真空熒光顯示器件(VFD)。
目前的趨勢為平板顯示器件應(yīng)用于可攜帶產(chǎn)品，例如，電子片(electronic sheet)、臂章、錢包(wallet)、筆記本等。為此，柔性顯示器件處于進(jìn)一步 發(fā)展中。
安裝在可攜帶產(chǎn)品例如電子片、臂章、錢夾、筆記本、電子小說等上的顯 示器件必須是柔性的以防止外力。因此，柔性基板用于這些顯示器件中。
典型柔性基板的厚度為lmm或更低。由于該柔性基板為不可分裂的、重 量輕且柔軟，所以其可變形為各種形狀。
因此，諸多研究正致力于將柔性基板應(yīng)用到各種顯示器件，例如，LCD 器件、有機(jī)電致發(fā)光顯示器件等。
圖1是使出一種用于制造現(xiàn)有技術(shù)的柔性顯示基板的方法的流程圖，而圖 2A和圖2B是通過圖1的方法制造的現(xiàn)有技術(shù)柔性顯示基板的透視圖。
參照圖2A，預(yù)備母基板100 (S110)。至少一個單元顯示面板(P)限定 在該母基板100上。
參照圖2B，顯示元件110形成于單元顯示面板區(qū)域中(S120)。
參照圖2C和圖2D，沿著單元顯示面板區(qū)域周圍的劃線111切割母基板 100 (S130)。從而，該單元顯示面板從母基板100分離。然而，在使用沖床切割母基板100的工藝中，可能在單元顯示面板P的邊 緣產(chǎn)生毛邊，其退化了顯示基板的質(zhì)量。
另外，當(dāng)母基板100較厚時(shí)，沖床的切割工具變得極易受磨損，并從而降 低沖床的壽命。
再者，顯示基板可能受到在使用沖床切割母基板100的工藝中所產(chǎn)生的顆 粒的污染。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明涉及一種制造柔性顯示基板的方法，其基本能避免由于現(xiàn)有 技術(shù)的局限和缺點(diǎn)所產(chǎn)生的一個或多個問題。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)為提高顯示面板的可靠性并易于從母基板分離單元顯示面板。
本發(fā)明的其他特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將在以下的描述中陳述，并且部分從該說明書是 顯而易見或可從本發(fā)明的實(shí)施中了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)將通過在書面 說明書及其權(quán)利要求書以及附圖中特別指出的結(jié)構(gòu)實(shí)現(xiàn)并獲得。
為了實(shí)現(xiàn)這些和其他優(yōu)點(diǎn)并根據(jù)本發(fā)明的目的，如具體化及廣泛描述的，
一種用于制造柔性電泳顯示器件的方法，包括提供具有第一厚度的金屬母基 板，其包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在 所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件；在所述母基板的所述非顯示區(qū)域中形 成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面 板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板；以及在所述單元顯示面 板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
在本發(fā)明的另一方案中， 一種用于制造柔性電泳顯示器件的方法，包括 提供具有使得所述母基板基本不彎曲的第一厚度的金屬母基板，包括單元顯示 面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū) 域中形成顯示元件；在所述母基板的所述非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹 槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離 的單元顯示面板區(qū)域的所述基板，使得所變薄的基板具有柔性屬性；以及在所 述單元顯示面板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
在本發(fā)明的又一方案中， 一種用于制造柔性電泳顯示器件的方法，包括提供具有第一厚度的金屬母基板，包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示 面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件；構(gòu)圖所述 母基板以在所述非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從 所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所 述基板；以及在所述單元顯示面板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
在本發(fā)明的再一方案中， 一種用于制造柔性顯示器件的方法，包括提供 具有第一厚度的金屬母基板，包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示面板 區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件；在所述母基板 的非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分 離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板。
應(yīng)該理解前述的一般性描述和以下的詳細(xì)描述都是示意性和解釋性的，并 意欲提供所要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步解釋。


附圖，其包括于說明書中用于提供本發(fā)明的進(jìn)一步理解并構(gòu)成該說明書的 一部分，示出了本發(fā)明的實(shí)施方式并與說明書一起用于解釋本發(fā)明的原理。 在附圖中
圖1是示出一種用于制造現(xiàn)有技術(shù)柔性顯示基板的方法的流程圖2A至圖2D是通過圖1的方法所制造的柔性顯示基板的透視圖3是示出一種用于根據(jù)實(shí)施方式制造柔性顯示基板的方法的流程圖4A是示出預(yù)備母基板的工藝的透視圖4B是示出預(yù)備在圖4A中所示母基板的工藝的橫截面視圖5A是顯示元件形成處的母基板的透視圖5B是在圖5A中所示的母基板的橫截面視圖6A是示出形成劃線的工藝的透視圖6B是示出形成在圖6A中的劃線的工藝的橫截面視圖7A是示出形成凹槽的工藝的透視圖7B是示出形成在圖7A中凹槽的工藝的橫截面視圖8A是示出形成凹槽工藝的透視圖8B是示出形成圖8A中的凹槽的工藝的橫截面視圖；圖9A是示出切割母基板的工藝的透視圖9B是示出切割圖9A中的母基板的工藝的橫截面視圖IO是示出單元顯示面板的削薄基板的工藝的橫截面視圖11是圖10中的單元顯示面板的橫截面視圖12是根據(jù)實(shí)施方式的柔性電泳顯示器件的橫截面視圖。
具體實(shí)施例方式
現(xiàn)在將參照本發(fā)明公開內(nèi)容中的實(shí)施方式詳細(xì)描述本發(fā)明，其中部分實(shí)施 例中附圖中示出。
圖3是示出根據(jù)實(shí)施方式制造柔性顯示基板的方法的流程圖。
該方法包括預(yù)備母基板的工藝S210、形成顯示元件的工藝S220、在非顯 示區(qū)域中形成凹槽的工藝S230、切割母基板的工藝S240和削薄單元顯示面板 的基板的工藝S250。
圖4A是示出預(yù)備母基板的工藝的透視圖，而圖4B是示出預(yù)備圖4A中示 出的母基板的工藝的橫截面視圖。
參照圖3、圖4A和圖4B，預(yù)備具有第一厚度的母基板200 (S210)。母 基板200可為金屬基板。例如，金屬基板可由不銹鋼或鐵(Fe)形成。可選地， 母基板200可為塑料基板。
可穩(wěn)定執(zhí)行制造工藝，原因在于母基板200由于其第一厚度dl而基本不 彎曲。母基板200的第一厚度dl可大于約0.3mm。第一厚度dl可防止母基板 200彎曲。
母基板200具有單元顯示面板(P)區(qū)域和鄰近單元顯示面板(P)區(qū)域的 非顯示區(qū)域。母基板200包括至少一個單元顯示面板P。
圖5A是顯示元件210形成處的母基板的透視圖，而圖5B是在圖5A中所 示的母基板的橫截面視圖。
參照圖3、圖5A和圖5B，顯示元件210形成于母基板200的單元顯示面 板(P)區(qū)域中(S220)。在該工藝S220中，用于柔性顯示基板的各種圖案 可形成于母基板200上。
例如，顯示元件可為底陣列基板，其包括柔性顯示基板用于電泳顯示器件 (EPD)處的薄膜晶體管。另外，顯示元件可為包括電泳浮動顆粒的頂陣列基板。
另一方面，在柔性顯示基板用于LCD器件的情形下，顯示元件可為包括 薄膜晶體管的陣列基板。另外，顯示元件可為包括濾色片圖案的陣列基板。將 在以下簡要描述形成包括薄膜晶體管的陣列基板的工藝。
柵線形成于基板上。柵線包括柵極。柵絕緣層形成于柵線形成處的基板上方。
柵絕緣層可由硅氮化物(SiNx)或硅氧化物(SiOx)形成。半導(dǎo)體層可形 成于柵極上方的柵絕緣層上。
半導(dǎo)體層包括第一半導(dǎo)體層和第二半導(dǎo)體層。第二半導(dǎo)體層可與第一半導(dǎo) 體層彼此隔開并形成于第一半導(dǎo)體層一側(cè)及另一側(cè)之上。
第一半導(dǎo)體層可由非晶硅(a-Si)，而第二半導(dǎo)體層可由重?fù)诫s的n-型非 晶硅形成(n+a-Si)。
與柵線交叉的數(shù)據(jù)線形成于基板上以限定顯示區(qū)域。數(shù)據(jù)線包括形成于第 二半導(dǎo)體層上的源極和漏極。
源極連接到第二半導(dǎo)體層其中一側(cè)，而漏極連接到另一側(cè)。數(shù)據(jù)線、源極 和漏極由相同材料形成并通過一次性工藝同時(shí)形成。
源極和漏極彼此隔開預(yù)定距離，并從而第一半導(dǎo)體層在源極和漏極之間暴 露，從而形成溝道。
柵極、柵絕緣層、半導(dǎo)體層、源極和漏極形成薄膜晶體管(TFT)，并且 至少一個或多個設(shè)置在像素區(qū)域中。
鈍化層形成于TFT形成處的基板之上。鈍化層包括暴露部分漏極的漏極 接觸孔。像素電極形成于鈍化層上方的像素區(qū)域中。像素電極通過漏極接觸孔 連接到漏極。
像素電極由透明導(dǎo)電材料形成，例如，銦錫氧化物(ITO)、銦鋅氧化物 (IZO)等。
將在以下描述形成包括濾色片圖案的陣列基板的工藝。 光阻擋層形成在對應(yīng)于像素區(qū)域和TFT區(qū)域的周界的區(qū)域處。該光阻擋
層的實(shí)施例可包括吸收或阻擋光的黑矩陣。
如果顯示器件需要濾色片，則紅、綠和藍(lán)濾色片圖案形成于與在光阻擋層
形成處的基板上的像素區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域處。這樣，顯示元件210形成于母基板200的單元顯示面板(P)區(qū)域中。 在形成顯示元件的工藝S220之后，在非顯示區(qū)域中形成凹槽S230。在實(shí) 施方式中，劃線(S)形成于非顯示區(qū)域中，并且凹槽形成于劃線(S)中?？?通過形成光刻膠圖案形成劃線S231。可通過蝕刻母基板形成該凹槽S232，并 且去除該光刻膠圖案S233。
形成劃線可利用光刻工藝執(zhí)行。
圖6A是示出形成劃線工藝的透視圖，而圖6B是示出形成圖6A中的劃線 的工藝的橫截面視圖。
參照圖3、圖6A和圖6B，光刻膠圖案220形成于其中顯示元件210形成 處的母基板200之上。
保護(hù)層可形成于母基板200上的非顯示區(qū)域中。
光刻膠圖案220可形成于母基板200上或上方。光刻膠圖案220可形成于
母基板200上方的保護(hù)層上。
光刻膠圖案220覆蓋單元顯示面板P。
光刻膠圖案220暴露單元顯示面板P周圍的劃線(S)。
圖7A是示出在劃線中形成凹槽的工藝的透視圖，而圖7B是示出形成圖
7A中凹槽的工藝的橫截面視圖。
參照圖3、圖7A和圖7B，母基板200的暴露的劃線(S)利用光刻膠圖
案220作為蝕刻掩模蝕刻，從而形成凹槽211 (S232)。
暴露的劃線(S)可通過濕刻工藝進(jìn)行蝕刻。用于濕刻工藝中的蝕刻劑可
包括鹵素元素，諸如氯(Cl)、溴(Br)和碘(I)。蝕刻劑可包括鐵氯化物。
在暴露的母基板200上的保護(hù)層可進(jìn)一步使用光刻膠圖案220作為蝕刻掩模進(jìn)
行蝕刻。
凹槽211使其易于切割母基板200，以將單元顯示面板P從母基板200分離。
凹槽211的深度"a"小于母基板200的第一厚度"dl"。 圖8A是示出在劃線中形成凹槽的工藝的透視圖，而圖8B是示出形成圖 8A中的凹槽的工藝的橫截面視圖。
參照圖3、圖8A和圖8B，去除母基板200上的光刻膠圖案220 (S233)。 圖9A是示出切割母基板的工藝的透視圖，而圖9B是示出切割圖9A中的母基板的工藝的橫截圖視圖。
參照圖3、圖9A和圖9B，沿著非顯示區(qū)域中的凹槽211切割母基板200 (S240)。單元顯示面板P與母基板200分離。
凹槽211具有較小的厚度"dl-a"，使得母基板200易于切割。 切割工藝可使用劃線輪、沖床、等離子體、氣體、激光和液壓的其中之一 進(jìn)行。
更特別地，劃線輪由強(qiáng)度高于母基板200的材料形成。例如，劃線輪可包 括金剛石。
沖床具有對應(yīng)于劃線的切割工具。母基板200可通過利用沖床的切割工藝 沖壓而進(jìn)行切割。沖床的曲柄將旋轉(zhuǎn)運(yùn)動改變?yōu)榇怪边\(yùn)動，使得母基板200 被切割工具切割。
這樣，顯示單元面板P與母基板200分離。單元顯示面板P包括在基板 201的一個表面上的顯示元件210?；?01具有第一厚度dl。
單元顯示面板通過利用激光束切割母基板而與母基板分離。激光束可照射 到不形成顯示元件和凹槽處的母基板200的其他表面上，
母基板200可通過沿著凹槽211照射激光束而進(jìn)行切割。當(dāng)激光束照射到 母基板200的另一表面上時(shí)，顯示元件可能被激光束破壞。
激光束可照射到形成顯示元件的母基板的一個表面上。在該情形下，激光 束沿著凹槽211切割母基板200。同時(shí)，可進(jìn)一步形成鈍化膜以覆蓋顯示元件。
可提供多個激光頭。激光頭產(chǎn)生激光束到各個單元顯示面板，從而改善顯 示器件的產(chǎn)量。
在切割母基板之后，可研磨分離的單元顯示面板的基板的邊緣。
圖IO是示出通過蝕刻削薄單元顯示面板的基板的工藝的橫截面視圖，而 圖11是圖10中的單元顯示面板的橫截面視圖。
參照圖3、圖10和圖11，基板201可通過蝕刻不形成顯示元件210處的 基板201的另一表面而變薄，以為單元顯示面板P提供柔性屬性(S250)。
變薄的基板201'具有小于第一厚度dl的第二厚度d2。第二厚度d2小于 第一厚度dl的約70%。
通過蝕刻削薄基板201的工藝可通過將基板201的另一表面浸到包含于槽 (tank)250中的蝕刻劑255中而執(zhí)行。蝕刻劑255包含鹵素元素，諸如氯(C1)、溴(Br)和碘(I)。蝕刻劑包括鐵氯化物。蝕刻基板201的另一表面，其包 含蝕刻劑255，使得變薄的基板201'具有第二厚度d2。因此，變薄的基板201' 具有柔性屬性。
保護(hù)膜可進(jìn)一步形成于單元顯示面板P的顯示元件210上，以防止顯示元
件被蝕刻劑破壞。在蝕刻之后去除保護(hù)膜。
然后，清洗單元顯示面板P以去除殘留的蝕刻劑255。
除了浸漬工藝，基板201可通過噴嘴旋涂蝕刻劑而進(jìn)行蝕刻。削薄基板還
可包括其他類型的蝕刻。除了蝕刻工藝，基板201可通過研磨而變薄。 圖12是根據(jù)實(shí)施方式的柔性電泳顯示器件的橫截面視圖。 參照圖12,電泳顯示器件可包括變薄的基板20r、顯示元件210和電泳
墨水膜300 (諸如通過E-INK合成的E-INK膜)。電泳墨水膜300可包括為
微囊層320、公共電極310和保護(hù)膜301。在一個實(shí)施方式中，電泳墨水膜可
通過層壓形成。
根據(jù)實(shí)施方式，可防止在較高工藝溫度處基板的彎曲，原因在于顯示元件 形成于足夠厚的母基板200上。因此，可確保制造柔性顯示基板的工藝的穩(wěn)定 性并改善柔性顯示器件的可靠性。
另外，在足夠厚的母基板上形成顯示元件之后，柔性基板可通過蝕刻不形 成顯示元件處的母基板的一個表面而支撐。因此，不必要發(fā)展分離的構(gòu)件或設(shè) 備，從而節(jié)省了發(fā)展費(fèi)用并簡化了制造工藝。
另外，凹槽可在單元顯示面板周圍形成并且沿著凹槽切割母基板。因此， 單元顯示面板易于從母基板分離。
在說明書中的任何引用"一個實(shí)施方式"、"實(shí)施方式"、"示例性實(shí)施 方式"等意指與實(shí)施方式有關(guān)的所述特定的特征、結(jié)構(gòu)或特點(diǎn)包括在本發(fā)明的 至少一個實(shí)施方式中。在說明書中的不同位置出現(xiàn)的所述短語不必都參照同一 實(shí)施方式。而且，當(dāng)描述任意實(shí)施方式有關(guān)的特定特征、結(jié)構(gòu)或特點(diǎn)時(shí)， 一般 認(rèn)為實(shí)現(xiàn)其他實(shí)施方式有關(guān)的所述特征、結(jié)構(gòu)或特點(diǎn)在本領(lǐng)域的技術(shù)人員的理 解范圍內(nèi)。
顯然本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以在不脫離本發(fā)明的精神和范圍下在本發(fā) 明中進(jìn)行各種變型和修改。因此，本發(fā)明意欲覆蓋落入本發(fā)明附屬權(quán)利要求及 其等效物范圍內(nèi)的本發(fā)明的各種變型和修改。
權(quán)利要求
1.一種制造柔性電泳顯示器件的方法，包括提供具有第一厚度的金屬母基板，其包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件；在所述母基板的所述非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板；以及在所述單元顯示面板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一厚度大于約0.3mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，削薄所述基板包括削薄至 小于所述第一厚度的約70%。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，削薄所述基板包括蝕刻所 述基板。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，蝕刻所述基板包括利用包 括鹵素元素的蝕刻劑進(jìn)行濕蝕刻。
6. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，蝕刻所述基板包括浸漬所 述基板或旋涂所述基板。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，進(jìn)一步包含研磨所分離的 單元顯示面板區(qū)域的基板邊緣。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述電泳墨水膜包括: 形成公共電極；形成微囊層；以及 形成保護(hù)層。
9. 一種制造柔性電泳顯示器件的方法，包括提供具有使得所述母基板基本不彎曲的第一厚度的金屬母基板，包括單元 顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域； 在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件；在所述母基板的所述非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板，使得所變薄的基板具有柔性 屬性；以及在所述單元顯示面板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，形成所述電泳墨水膜包括: 形成公共電極；形成微囊層；以及 形成保護(hù)層。
11. 一種制造柔性電泳顯示器件的方法，包括提供具有第一厚度的金屬母基板，其包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單 元顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件； 構(gòu)圖所述母基板以在所述非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板；以及 在所述單元顯示面板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
12. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，構(gòu)圖所述母基板包括 形成暴露部分所述非顯示區(qū)域的光刻膠圖案；以及根據(jù)所述非顯示區(qū)域的暴露 部分蝕刻所述母基板以形成凹槽。
13. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其特征在于，形成所述電泳墨水膜包括形成公共電極； 形成微囊層；以及 形成保護(hù)層。
14. 一種制造柔性顯示器件的方法，包括提供具有第一厚度的金屬母基板，包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元 顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件； 在所述母基板的非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板。
全文摘要
一種用于制造柔性電泳顯示器件的方法，包括提供具有第一厚度的金屬母基板，其包括單元顯示面板區(qū)域和鄰近所述單元顯示面板區(qū)域的非顯示區(qū)域；在所述單元顯示面板區(qū)域中形成顯示元件；在所述母基板的所述非顯示區(qū)域中形成凹槽；沿著所述凹槽切割所述母基板，以從所述母基板分離所述單元顯示面板區(qū)域；削薄所分離的單元顯示面板區(qū)域的所述基板；以及在所述單元顯示面板區(qū)域上形成電泳墨水膜。
文檔編號G02F1/01GK101303504SQ20071016069
公開日2008年11月12日 申請日期2007年12月29日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月9日
發(fā)明者李坰默, 白承漢, 金成煥, 金首豪 申請人:Lg.菲利浦Lcd株式會社