專利名稱：：用于改進顯微蝕刻的對齊和覆蓋的系統(tǒng)和方法用于改進顯微蝕刻的對齊和覆蓋的系統(tǒng)和方法
背景技術(shù)：
：本發(fā)明一般涉及顯微蝕刻，尤其涉及改進襯底圖形化過程中的對齊和覆蓋。顯微蝕刻在形成需要將多層圖案彼此重疊地轉(zhuǎn)移到襯底上的集成電路時使用。結(jié)果，圖案向襯底的轉(zhuǎn)移是集成電路的制造中的重要工藝。圖案轉(zhuǎn)移技術(shù)也用于光學(xué)技術(shù)、生物技術(shù)等。襯底圖形化的通用技術(shù)是稱為光刻的光學(xué)蝕刻。稱為母圖案的原始圖案存儲在光掩模上。光掩模通常是使用高精度激光或電子束將圖案記錄其中的熔融石英片。將光掩模圖案轉(zhuǎn)移到涂敷于正在處理的襯底頂部的光致抗蝕劑材料上。然后對襯底進行蝕刻、并將所轉(zhuǎn)移的圖案用于控制蝕刻工藝從而可在襯底上建立期望圖案。另一圖形化工藝稱為壓印蝕刻，其中模子的形貌限定了轉(zhuǎn)移到襯底上的圖案。在上述圖形化工藝的任一個中，稱為臨界尺寸(CD)的圖案中最小特征尺寸可保持在10nm內(nèi)。結(jié)果，圖案向襯底的成功轉(zhuǎn)移要求相對于襯底上現(xiàn)有圖案特征的精確定位。一般成功規(guī)則是對于要起作用的圖案層，該圖案上的每一點必須以該圖案中CD的1/3內(nèi)的精度與下層圖案的每一點對齊。各種技術(shù)節(jié)點的覆蓋要求可從http://public.itrs.net站點的半導(dǎo)體國際技術(shù)向?qū)Й@得。適當定位所轉(zhuǎn)移圖案的工藝稱為對齊。通過實現(xiàn)適當?shù)膶R，可獲得期望的圖案覆蓋。具體地，對齊準確度可在一些對齊標記的位置處測量。該準確度是圖形化工具的對齊系統(tǒng)中精度的量度。作為圖案中各個點對齊的量度的覆蓋準確度可在除對齊標記位置外的要圖形化區(qū)域中的任何位置進行測量。結(jié)果，覆蓋信息可包括除了關(guān)聯(lián)于對齊信息的誤差信息外的誤差信息。例如，覆蓋誤差可因透鏡畸變、夾盤導(dǎo)致的晶片畸變、以及總稱為圖案器件的掩模/模子上的圖像位置誤差產(chǎn)生，這在即使精確對齊的情況下也可導(dǎo)致顯著的覆蓋誤差。這些誤差可在所轉(zhuǎn)移圖案中導(dǎo)致可大大減小生產(chǎn)率的畸變。圖案至圖案覆蓋誤差一般通過測量區(qū)域中點格的對齊來量化?，F(xiàn)有技術(shù)曾嘗試減小對齊標記處的對齊誤差。White等人的美國專利No.6,847,433公開了可變形支架、系統(tǒng)、和工藝，其中來自許多勢源的掩模圖像和晶片上已有圖案之間的長程誤差(蝕刻、度量、或覆蓋誤差的任一個)得到校正。長程誤差使用貫穿透鏡對齊度量系統(tǒng)或透鏡周圍度量系統(tǒng)來確定。變形值被確定以補償長程誤差。該變形值通過解聯(lián)立方程或有限元線性應(yīng)力分析(FEA)來確定。然后，使用諸如壓電陶瓷的致動器推或拉掩模或晶片以實質(zhì)上將掩模的投影圖像和晶片上已有圖案重新對齊，來使掩?；蚓谄矫嬷凶冃蜗嚓P(guān)于所確定變形值的量。該方法確保對齊標記處的對齊，卻不必在整個區(qū)域上覆蓋。該技術(shù)的另一缺點和其它現(xiàn)有技術(shù)對最小化圖案畸變的嘗試涉及確定變形值的計算要求，特別是如果這種類型的校正要在時間約束下實時進行時。通常，變形值的確定需要可能會增加系統(tǒng)成本的大量計算能力，且常常不精確。因此所需要的是經(jīng)改進的校正對齊和覆蓋誤差以及計算變形值的系統(tǒng)或技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明涉及一種用于確定布圖器件最小化其上所記錄的圖案和參考圖案之間的尺寸變化所用的變形參數(shù)的方法和系統(tǒng)。為此，該方法包括比較所述記錄圖案的特征與所述參考圖案的相應(yīng)特征之間的空間變化；以及確定施加于所述布圖器件以減小所述尺寸變化的變形力，且所述變形力具有預(yù)定的約束。該系統(tǒng)執(zhí)行該方法的功能。這些和其它實施方式在下文中更加全面地討論。圖1是根據(jù)本發(fā)明的蝕刻系統(tǒng)的簡化視圖2是根據(jù)本發(fā)明在圖1中示出的布圖器件的支架的簡化平面圖；以及圖3是示出根據(jù)本發(fā)明確定的畸變矢量的簡化平面圖。具體實施例方式圖1示出根據(jù)本發(fā)明一實施方式的蝕刻系統(tǒng)10,它包括具有支架16的平臺12。襯底14設(shè)置在支架16上，例如底座或者卡盤。支架16可與平臺18通過已知機構(gòu)可移動地耦合或者固定地連接。相對于支架12設(shè)置的是圖像生成系統(tǒng)18。圖像生成系統(tǒng)18可以是本領(lǐng)域中任何已知技術(shù)，包括諸如可從德國慕尼黑的SussMicrotec購得的MA300Plus的分檔器中包含的光刻，或諸如在由得克薩斯州奧斯丁的MolecularImprints,Inc.出售的Imprio250中包含的壓印蝕刻圖形化系統(tǒng)。圖像生成系統(tǒng)包括布圖器件20，具有形成其上的作為要在襯底14上形成的圖案的基礎(chǔ)的原始圖案；以及光化學(xué)能量源，和需要將光化學(xué)能量通過布圖器件20傳輸并入射在襯底14上的光學(xué)子系統(tǒng)，它們通常示為光學(xué)部件22。在光刻系統(tǒng)中，布圖器件20通常是掩模。在壓印蝕刻系統(tǒng)中，布圖器件20是模板的圖形化區(qū)域，通常稱為模子。參看圖1和2，圍繞器件20的是便于對齊和覆蓋對準的驅(qū)動器系統(tǒng)24。為此，系統(tǒng)10包括多個耦合于幀28和布圖器件20之間的多個驅(qū)動器26，在本實施方式中，布圖器件20是具有通常與壓印蝕刻相關(guān)聯(lián)的、整體形成其中的模子30的熔融石英模板。模子30在其上可具有特征，例如凹陷和凸起，或者基本上無特征以定義基本上平坦的(如果不是平面的)表面。各個驅(qū)動器26被配置成便于在布圖器件20的四邊32、34、36、和38之一上產(chǎn)生力。多個驅(qū)動器26被配置成在相對兩邊出現(xiàn)相等數(shù)目的驅(qū)動器。具體地，期望驅(qū)動器26在布圖器件20的相對兩邊上成對配置，且一對的每個驅(qū)動器26與該對驅(qū)動器的剩余另一個驅(qū)動器26相對設(shè)置。驅(qū)動器26以及圖案生成系統(tǒng)18、底座16和平臺12的操作通過與其電通信的處理器40的控制來實現(xiàn)。為此，控制程序存儲于存儲器42中作為計算機可讀編碼。存儲器42與處理器40進行數(shù)據(jù)通信，從而控制程序可由處理器40執(zhí)行以產(chǎn)生傳輸至驅(qū)動器26的控制信號。參看圖1和2，通過選擇性地使布圖器件20變形，系統(tǒng)24便于對齊和覆蓋對準。這便于校正圖案形狀的各個參數(shù)，即放大特征、偏斜/正交特征以及梯形特征。放大特征可以是放大誤差，例如其中整個圖案從正方形變成矩形。偏斜/正交特征可以是偏斜/正交誤差，其中相鄰邊彼此形成銳角或直角而非直角。梯形特征可以是梯形誤差，其中正方形/矩形呈現(xiàn)不等邊四邊形形狀，其中不等邊四邊形根據(jù)美國/美洲的定義來定義且包括梯形。為了控制圖案形狀，布圖器件20可選擇性地由驅(qū)動器26變形，從而如果不能抵消則最小化所出現(xiàn)的畸變，由此減小覆蓋誤差。為此，使用已知圖像放置或圖像對準系統(tǒng)，例如可從伊利諾斯州Bannockburn的LeicaMicrosystems購得的LMSIPR03，對布圖器件20進行檢查。涉及布圖器件20上特征的位置的所測信息44可被映射到存儲器42中。所測信息44表示的特征是布圖器件20上出現(xiàn)的、便于覆蓋和對齊技術(shù)的參考標記。這些特征可包括任何已知的對齊標記，例如框中框、叉中叉和/或游標刻度標記，稱為覆蓋特征。該覆蓋特征在如果空間允許的情況下通常位于布圖器件20的不同區(qū)域，并且排列在多邊形(如果不是矩形)柵格中。載入存儲器42的將是會與所測信息44作比較的參考信息46。參考信息46可包括有關(guān)覆蓋特征的最佳或期望位置的、以及因此布圖器件20上圖案的信息。該信息可從可用作測量布圖器件20的標準的現(xiàn)有參考布圖器件(未示出)中獲得?；蛘?，參考信息46可從用于在布圖器件20上形成圖案的GDS文件中獲得?？紤]到布圖器件20上圖案中的誤差或畸變可有助于用來形成布圖器件20的寫入和蝕刻工藝，用于計算機輔助設(shè)計軟件的這類計算機數(shù)據(jù)可提供具有最佳圖案的最準確反映的參考信息。示例性計算機數(shù)據(jù)通過由加利福尼亞州MountainView的Synopsis,Inc.出售的CATS軟件采用。同時參看圖2和3，便于所測信息44與參考信息46作比較的例程48也存儲在存儲器42中。例程48包括所測信息44中的特征相對于參考信息46中的相應(yīng)特征之間的X和Y的位置變化，并產(chǎn)生下表中示出的圖像位置變化數(shù)據(jù)<table>complextableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>圖像位置變化表根據(jù)圖像位置誤差表中的數(shù)據(jù)可產(chǎn)生畸變矢量50?；兪噶?0是關(guān)聯(lián)于所測信息44的覆蓋特征相對于關(guān)聯(lián)于參考信息46的相應(yīng)覆蓋特征的空間位置差異的矢量化表示。結(jié)果，畸變矢量50包括映射到存儲器42的、有關(guān)布圖器件50上圖案特征的空間位置集54的數(shù)據(jù)52。根據(jù)圖像位置變化數(shù)據(jù)所產(chǎn)生的示例性畸變矢量50可映射到存儲器中，作為以特征1開始并以特征36結(jié)束的數(shù)列，將各個特征的x和y變化識別如下{0.01,-0.012,0,-0.003,...0.019，和-0.006}?？臻g位置54表示布圖器件20上覆蓋特征的空間位置。數(shù)據(jù)52包括所測信息44與參考信息46之間差異的方向和幅度的特征。具體地，數(shù)據(jù)52包括有關(guān)沿兩個正交軸、在圖像化器件20上各個覆蓋特征的空間位置54相對于最佳/期望圖案的相應(yīng)覆蓋特征的空間位置之間的距離的信息。處理器40基于例程48操作，以處理有關(guān)畸變矢量50的數(shù)據(jù)并產(chǎn)生信號，這些信號由驅(qū)動器26感測，以選擇性將布圖器件20變形、并且減小(如果不能消除)所測信息44與參考信息46之間的差異，由此最小化布圖器件上的圖案相對于最佳/期望圖案之間的覆蓋變化。關(guān)聯(lián)于所測信息44的覆蓋特征與關(guān)聯(lián)于參考信息46的相應(yīng)覆蓋特征之間的距離可通過產(chǎn)生空間位置54的平移移動來最小化。為此，通過解如下的逆轉(zhuǎn)換函數(shù)，例程48確定由驅(qū)動器26施加以便于選擇性變形布圖器件20的負載(1)[A]{f}={u}其中[A]表示對布圖器件20指定的順應(yīng)性矩陣(ComplianceMatrix),{0是稱為力矢量的元素fi的一維矩陣，其中i從l至m變化，m是力對的數(shù)目。力矢量{1}的元素fi是從中確定期望負載的加權(quán)系數(shù)。{11}表示關(guān)聯(lián)于所測信息44的特征的空間平移必須進行，以便于與參考信息46中相應(yīng)特征的空間位置匹配，即{11}表示畸變矢量50的加性逆元。一旦順應(yīng)性矩陣[A]被確定，力矢量(f)就可根據(jù)方程(1)確定。信號由處理器40產(chǎn)生用來使驅(qū)動器26將必需的負載施加于布圖器件20，該負載是力矢量(f)的函數(shù)。這樣，布圖器件20中的畸變得以最小化(如果沒有消除的話)。順應(yīng)性矩陣[A]相關(guān)于制作布圖器件20的材料。具體地，順應(yīng)性矩陣[A]部分地由與形成布圖器件20的材料相關(guān)聯(lián)的楊氏模量和泊松比限定。在該示例中，布圖器件20由熔融石英形成，但也可由石英、蘭寶石、硅、金屬等形成。確定順應(yīng)性矩陣[A]的一種方法使用有限元分析(FEA)。為此，使用任何已知的建模技術(shù)，諸如以商標為Pro/Engineer2001出售的軟件和商標為Pro/MechanicaTM2001出售的有限元解算器軟件，可產(chǎn)生稱為建模器件56的布圖器件20的FEA模型、并將其存儲在存儲器42中。采用FEA，可響應(yīng)于由驅(qū)動器26的模擬加載獲得建模器件56的多個數(shù)據(jù)點58的每一個的空間位移的測量。數(shù)據(jù)點58表示建模器件56上圖案的覆蓋特征的空間位置。為了獲得有用信息，與數(shù)據(jù)點58相關(guān)聯(lián)的覆蓋特征對應(yīng)于與空間位置54相關(guān)聯(lián)的布圖器件20的相同特征相關(guān)聯(lián)。在本示例中，各個數(shù)據(jù)點58與空間位置54之一相關(guān)聯(lián)，從而各個數(shù)據(jù)點58對應(yīng)于不同于與剩余數(shù)據(jù)點58相關(guān)聯(lián)的空間位置54的多個空間位置54之一。當確定順應(yīng)性矩陣[A]時，假設(shè)力由一對驅(qū)動器施加以使其相等且相反，從而保持力和力矩的平衡，進而滿足以下條件(2)I:Fx=0;(3)SFy=0;以及(4)2MZ=0其中Fx是在X方向的力，F(xiàn)y是在Y方向的力且Mz是圍繞Z軸的力矩。對于每個數(shù)據(jù)點58，沿X和Y軸的位移可以定義如下(5)Xn=fX!n+f2X2n+…+fmX加(6)Yn=&yln+f2y2n+...+fmymn其中f'是來自驅(qū)動器對i的力的幅度，n標示數(shù)據(jù)點且Xin、yin表示數(shù)據(jù)點n沿X、Y方向響應(yīng)于來自驅(qū)動器對i的單位力的以毫米/牛頓為單位的移動。在本示例中，n是從1至4的整數(shù)且i是從1至8的整數(shù)?；谝陨显诜匠?-4列出的條件，對于4個覆蓋特征的示例順應(yīng)性矩陣[A]如下-0.0350-0.3316-0.6845-0.49550-49240.25500.2025-0.53870.49230.25510.2028-0.5388-0.0349-0.3316-0.6845-0.49570.03110.33130.68480.49650.5387-0.2034-0.2557-0.49260.49300.25500.2026-0.5389-0.4989-0.6846-0.3310-0.0323-0.4992-0.6846-0.331D-0.03290.49310.25490.2025-D.53380.5385-0.2033-0.2556-0.49250.03130.33130.68480.49730.49380.68470.33180.03330.5393-0.2036-0.2560-0.49250.5393-0.2034-0.2559-0.49270.49410.68460.33190.0338已知順應(yīng)性矩陣[A]，例程48可確定由驅(qū)動器26產(chǎn)生用來最小化覆蓋誤差作為力矢量m的力的幅度。具體地，例程48從方程(i)中解得力矢量m如下(7)(f),"(u〉，其中[A]是方矩陣。如果[A]不是方矩陣，即順應(yīng)性矩陣[A]行的數(shù)目(行數(shù)目=2*數(shù)據(jù)點數(shù)目)大于力對的數(shù)目(列的數(shù)目=力對的數(shù)目)，則方程(7)表示如下(8){f)=(aTa"aT(u》其中at是順應(yīng)性矩陣[a]的轉(zhuǎn)置矩陣。然而，可期望例程48確定滿足諸如幅度和方向的某些預(yù)定義限制的力矢量{f}。例如，可期望避免張力，因為這可能需要用非預(yù)期機械耦合來實現(xiàn)覆蓋調(diào)節(jié)，例如通過將驅(qū)動器26之一接合到布圖器件20來施加張力。此外，可期望最小化可能削弱布圖器件的結(jié)構(gòu)完整性的剩余力，而無關(guān)于是使用張力還是壓縮力。為此，期望例程48使用以下限制確定力矢量(f):(9)fi>0;以及(10)fj《f應(yīng)其中如上所述，fi是(f)矢量的元素。通常正元素fi表示圖像化器件20上的壓縮負載。例程48可根據(jù)布圖器件20的^"料的已知機械性質(zhì)計算最大力限值fm^。通過(9)和(10)示出的限制，方程(1)可變形如下(11)[A〗{fHu}={e}因此問題變成找出力矢量m以使誤差矢量W最小化。如上所述[A]是順應(yīng)性矩陣。例程48在如下給出的無窮范數(shù)下可最小化誤差矢量(e〉(12)max(l[聰-{,選擇最小化無窮范數(shù)的原因是相信覆蓋誤差絕對值的幅度確定圖案層的有效性。如上所述，對于要起作用的圖案層，認為最大覆蓋誤差應(yīng)小于圖案的最小特征尺寸的1/3。因此，對于由方程(9)和(10)示出的限制，需要使例程48最小化該最大絕對誤差，即無窮范數(shù)如下(13)Min(max|[A]{f}-{u}|)目標函數(shù)(i3)是根據(jù)決策變量即力f;分段線性凸函數(shù)。根據(jù)定義分段線性凸函數(shù)是非線性的。因此，集中差值的域可包括若干局部最小值。期望使例程48識別全局最小值，即通過解方程13獲得的符合方程(9)和(10)的限制的最小值。為此，例程48需要用一范圍的試驗/猜想開始矢量進行若干次迭代，并實現(xiàn)定向?qū)ふ依?。根?jù)本發(fā)明的典型迭代過程從計算了函數(shù)值的初始點開始。該過程進行到函數(shù)具有較低值的解。這使例程48計算有關(guān)函數(shù)的信息直至識別到收斂。在公差范圍內(nèi)沒有發(fā)現(xiàn)函數(shù)值的進一步減小的最小值處，例程48結(jié)束該過程。諸如牛頓-拉富生(Newton-Raphson)方法、共軛梯度法、準牛頓法的任何已知迭代定向搜索技術(shù)都可用于獲得最佳力矢量(f)。實現(xiàn)這些技術(shù)的一種方法是使用存儲在存儲器42中、并由使用諸如可從Microsoft公司購得的WINDOWS⑧的標準操作系統(tǒng)的處理器40運行的MicrosoftEXCEL。如上所述根據(jù)有限元分析獲得的數(shù)據(jù)以矩陣形式進行核對并輸入，且例如根據(jù)方程(1)在矩陣之間建立適當?shù)年P(guān)系。一種改進計算力矢量(f)的方法是通過將非線性公式(13)轉(zhuǎn)化成線性問題。為此，將方程(11)代入方程(13)。這允許例程48將方程(13)如下表示成數(shù)據(jù)52的數(shù)列(14)Minimize(Maximum(|e|,|e2|...|en|))其中，ej是誤差矢量(e)的元素。通過例程48展開方程(14)，可得到如下(15)Minimize(Maximume!，-e!，e2,-e2,...en,-en)通過例程48用變量w代替(Maximumel5-el5e2，-e2,...en，-en)，方程(15)可如下定義(16)Minimize(w)提供以下限制(17)w》ej(18)w》即，除了方程(1)、(9)和(10)的限制，例程48可使用如下限制求解表示為方程(16)的非線性方程(13):(19)w》[A](f)—{u};以及(20)w》{u}-[A]{f}將方程(13)重新表示成線性問題的一個優(yōu)點是使用諸如單形法的偽多項式算法，線性問題有可能在有限數(shù)量的步驟內(nèi)收斂到全局最小值。這使例程48確定全局最小值所需的計算能力得到最小化。然而，仍可使用迭代搜索技術(shù)。而且，最常用的非線性編程技術(shù)收斂于局部最佳值，除非進行了仔細檢驗。當EXCEL嘗試求解非線性問題時這將會發(fā)生。結(jié)果，將方程(B)重新表示為線性問題便于獲得數(shù)據(jù)52的集中的最小值，同時最小化所需的計算能力。上述本發(fā)明的實施方式是示例性的?？蓪ι鲜龉_進行許多改變和更改，同時保持在本發(fā)明的范圍內(nèi)。例如，如果未消除因圖像放置和諸如放大的其它特征引起的覆蓋誤差、壓印蝕刻情形中的正交和梯形誤差，則上述方法是針對衰減討論的。例如在光刻情形中，如果放大、正交和/或梯形誤差未出現(xiàn)或未通過其它方法校正，則上述的本發(fā)明可用于最小化未校正的覆蓋誤差。因此，本發(fā)明的范圍應(yīng)未受到以上描述限制，而相反應(yīng)由所附權(quán)利要求書及其等效方案的全部范圍所確定。權(quán)利要求1.一種用于確定布圖器件最小化其上所記錄的圖案與參考圖案之間的尺寸變化所用的變形參數(shù)的方法，所述方法包括比較所述記錄圖案的特征相對于所述參考圖案的相應(yīng)特征之間的空間變化；以及確定施加于所述布圖器件以減小所述尺寸變化的變形力，其中所述力具有預(yù)定的限制。2.如權(quán)利要求所述的方法，其特征在于，所述限制包括在所述變形力中略去張力。3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述限制包括略去會減弱所述布圖器件的結(jié)構(gòu)完整性的高幅度力。4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定還包括確定受限力矢量，且所述變形力根據(jù)所述受限力矢量來確定。5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定還包括最小化覆蓋誤差的最大絕對值的幅度。6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定還包括確定施加于所述布圖器件以減小所述尺寸變化的壓縮變形力。7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定還包括確定施加于所述布圖器件的多對所述變形力，還包括將所述多對變形力施加于所述布圖器件，且所述多對變形力的各個力具有相同的幅度和方向，且所述一對力之一的方向與關(guān)聯(lián)于所述—對力的另一個力的方向相反。8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，比較還包括將所述布圖器件上的覆蓋特征與關(guān)聯(lián)于將所述圖案寫在所述布圖器件上的計算機數(shù)據(jù)的相應(yīng)覆蓋特征作比較。9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確定還包括最小化覆蓋誤差的最大絕對值的幅度，并識別全局最小值。10.—種用于確定布圖器件最小化其上所記錄的圖案與參考圖案之間的尺寸變化所用的變形參數(shù)的方法，所述方法包括比較所述記錄圖案的特征相對于所述參考圖案的相應(yīng)特征之間的空間變化；以及確定施加于所述布圖器件以減小所述尺寸變化的變形力，且全部所述變形力是施加于所述布圖器件的壓縮力。11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，確定還包括確定所述變形力使全部所述變形力具有與其相關(guān)聯(lián)的、低于預(yù)定閾值的幅度。12.如權(quán)利要求IO所述的方法，其特征在于，確定還包括最小化覆蓋誤差的最大絕對值的幅度。13.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，確定還包括確定施加于所述布圖器件的多對所述變形力，還包括將多對所述變形力對施加于所述布圖器件，所述多對變形力的各個力具有相同的幅度和方向，且所述一對力之一的方向與關(guān)聯(lián)于所述一對力的另一個力的方向相反。14.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，比較還包括將所述布圖器件上的覆蓋特征相對于關(guān)聯(lián)于用于將所述圖案寫在所述布圖器件上的計算機數(shù)據(jù)的相應(yīng)覆蓋特征作比較。15.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，確定還包括最小化覆蓋誤差的最大絕對值的幅度，并識別全局最小值。16.—種用于確定布圖器件最小化其上所記錄的圖案與參考圖案之間尺寸變化所用的變形參數(shù)的系統(tǒng)，所述方法包括用于比較所述記錄圖案的特征相對于所述參考圖案的相應(yīng)特征之間的空間變化的裝置；以及'用于確定施加于所述布圖器件以減小所述尺寸變化的變形力、且全部所述變形力是施加于所述布圖器件的壓縮力的裝置。17.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其特征在于，用于確定的裝置還包括用于確定所述變形力使全部所述變形力具有小于預(yù)定閾值的與其相關(guān)聯(lián)的幅度的裝置。18.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其特征在于，用于確定的裝置還包括用于最小化覆蓋誤差的最大絕對值的幅度的裝置。19.如權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其特征在于，確定還包括用于確定施加于所述布圖器件的多對所述變形力的裝置，還包括用于將多對所述變形力對施加于所述布圖器件，所述多對變形力的各個力具有相同幅度和方向，且所述一對力之一的方向與關(guān)聯(lián)于所述一對力的另一個力的方向相反的裝置。全文摘要本發(fā)明提供一種用于確定要施加于襯底的力以使襯底變形、并校正覆蓋未對齊的方法。文檔編號G03F7/20GK101379435SQ200580018208公開日2009年3月4日申請日期2005年6月2日優(yōu)先權(quán)日2004年6月3日發(fā)明者A·謝爾拉,K·阿杜斯米利,S·V·斯利尼瓦森申請人:得克薩斯州大學(xué)系統(tǒng)董事會