專利名稱:具有色彩的殼體及其加工方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種具有色彩的殼體及其表面處理方法,尤涉及一種可具有特定色彩 與金屬質(zhì)感的具有色彩的殼體及其加工方法。
背景技術(shù):
隨著科技的迅速演進(jìn),行動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理(PDA,Personal Digital Assistant)、個(gè)人計(jì)算機(jī)與筆記型計(jì)算機(jī)等各式電子裝置發(fā)展迅速,其功能亦愈來(lái)愈豐富。 為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩,傳統(tǒng)上可利用彩色塑料形成彩色塑料外殼,或藉由 噴漆方式在電子裝置的殼體表面形成色料層。惟,塑料外殼與噴漆外殼不能呈現(xiàn)良好的金 屬質(zhì)感。另一方面,由于金屬鍍膜本身技術(shù)較為復(fù)雜而不易精密操控,因此習(xí)知技術(shù)始終只 能于殼體表面形成少數(shù)幾種傳統(tǒng)金屬色彩,未能于豐富色彩質(zhì)感方面有所突破。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種具有特定色彩的具有色彩的殼體及其表面處理方法, 以解決習(xí)知問(wèn)題。一種具有色彩的殼體包含基材與色彩層?;牡谋砻姘辽僖黄交瑓^(qū)域,而色 彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域,其中色彩層于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于國(guó)際照明委員會(huì) (Commission Internationale de 1,6clairag,CIE) LAB 表色系統(tǒng)的 L* 坐標(biāo)介于 81. 43 至 83. 43,a*坐標(biāo)介于0. 30至1. 30,而b*坐標(biāo)介于2. 11至3. 11。一種具有色彩的殼體的表面處理方法包括以下步驟提供一基材;以及形成一色 彩層,覆蓋基材的表面,其中色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于 81. 43至83. 43,a*坐標(biāo)介于0. 30至1.30,而13*坐標(biāo)介于2. 11至3. 11。與習(xí)知技術(shù)相比,所述具有色彩的殼體藉由其色彩層提供特定色彩的金屬質(zhì)感。
第1圖為本發(fā)明較佳實(shí)施例的具有色彩的殼體的結(jié)構(gòu)示意圖。第2圖為第一圖的具有色彩的殼體部分結(jié)構(gòu)剖面示意圖。第3圖為本發(fā)明較佳實(shí)施例的色彩層于CIE LAB表色系統(tǒng)L*坐標(biāo)的范圍的示意 圖。第4圖為本發(fā)明較佳實(shí)施例的色彩層于CIE LAB表色系統(tǒng)a*坐標(biāo)與b*坐標(biāo)的范 圍的示意圖。第5圖為本發(fā)明較佳實(shí)施例對(duì)具有色彩的殼體進(jìn)行表面處理的流程示意圖。
具體實(shí)施例方式下面將結(jié)合附圖,以較佳實(shí)施例并配合圖式詳細(xì)描述如下。請(qǐng)參閱第一圖及第二圖,本發(fā)明具有色彩的殼體的較佳實(shí)施例例如可為一行動(dòng)電話的外殼,其包括一基材1、一色彩層3及選擇性的覆蓋層4。其中色彩層3設(shè)于基材1的 表面,而覆蓋層4可設(shè)置于色彩層3的表面?;?可包含不銹鋼等金屬材料或是玻璃等陶瓷材料,基材1可具有至少一待鍍 膜處理的表面,而待鍍膜處理的表面可以包含具有不同表面結(jié)構(gòu)的區(qū)域,例如包含至少一 平滑區(qū)域、至少一霧化區(qū)域、或具有多數(shù)個(gè)拉絲狀微結(jié)構(gòu)的區(qū)域,或前述區(qū)域的組合。色彩 層3的材料可包含氮化鉻(CrN)或其它可提供附著效果的材料。另外,色彩層3可包含一層 或多數(shù)層金屬材料,例如鉻合金。覆蓋層4可包含任何適當(dāng)?shù)慕^緣材料,以提供保護(hù)效果。 據(jù)此,所形成的具有色彩的殼體的維氏硬度(Vickers hardness)可大于等于500HV。請(qǐng)參閱第三圖及第四圖,當(dāng)基材1的待鍍膜表面包含平滑區(qū)域時(shí),本發(fā)明所提供 的色彩層3于平滑區(qū)域中呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)可介于81. 43至 83. 43,a*坐標(biāo)可介于0. 30至1. 30,而b*坐標(biāo)可介于2. 11至3. 11。請(qǐng)參閱第五圖,且一并參閱第一圖與第二圖,本發(fā)明具有色彩的殼體的表面處理 方法包括以下步驟首先,形成一行動(dòng)電話外殼的基材1,基材1系由不銹鋼等金屬材料或 是玻璃等陶瓷材料制成。形成基材1后可進(jìn)一步對(duì)基材1進(jìn)行表面處理,以滿足外殼的外 觀色質(zhì)需要,或可進(jìn)一步調(diào)整基材1的平整度使后續(xù)形成于其表面上的色彩層3具有高附 著性。其次,于基材1表面上的預(yù)定位置形成色彩層3,例如色彩層3的材料較佳包含氮 化鉻。實(shí)際生產(chǎn)中可以采用物理氣相沉積制程濺鍍的方法于基材1的表面上形成色彩層3, 以基材1為基材,利用一鉻靶材濺鍍,采用射頻(RF)能量源激發(fā)氬氣電漿以27至33標(biāo)準(zhǔn) 立方公分每分鐘(standard cubic centimeter per minute, sccm)的流量沖擊革巴材,使革巴 材表面的材質(zhì)噴濺出來(lái),沉積至基材1表面。于本發(fā)明的較佳實(shí)施例中,形成色彩層3的物理氣相沉積制程轟擊鉻靶材的功率 介于18至22千瓦,物理氣相沉積制程的偏壓介于180至220伏特,物理氣相沉積制程的制 程溫度介于攝氏180至220度,物理氣相沉積制程的制程時(shí)間介于M至66分鐘,物理氣相 沉積制程的制程壓力介于3. 663至4. 477毫托耳,基材于物理氣相沉積制程中的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速 介于2. 7至3. 3轉(zhuǎn)速每分鐘(revolution per minute, rpm),基材于物理氣相沉積制程中 的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于-3. 3至-2. 7rpm,其中自轉(zhuǎn)的負(fù)值代表與公轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)向相反。針對(duì)制程氣體 流量部份,物理氣相沉積制程包括提供氬氣與氮?dú)?,其中氬氣的流量介于M至66sCCm,氮 氣的流量介于450至550sccm。根據(jù)上述流程步驟,本發(fā)明可于基材1上形成所需的特定色彩與金屬質(zhì)感。如前所 述,前述流程步驟所形成的色彩層3的色度坐標(biāo)(L*,a*,b*)為(81.43、3. 43,-0. 3(Tl. 30, 2. 1Γ3. 11),此為習(xí)知具有色彩的殼體所無(wú)法提供的色彩范圍。其后,可選擇性于色彩層3的表面形成一覆蓋層4。覆蓋層4可包含任何適當(dāng)?shù)慕^ 緣材料,以提供保護(hù)效果??梢岳斫猓景l(fā)明具有色彩的殼體的較佳實(shí)施例同樣適用于筆記型計(jì)算機(jī)、個(gè)人 數(shù)字助理等其它種類的電子裝置,或是任何需具有特定色彩與金屬質(zhì)感的裝置。使用裝配 有本發(fā)明具有色彩的殼體的較佳實(shí)施例的行動(dòng)電話時(shí),覆蓋于結(jié)合層表面的色彩層可提供 特定色彩的金屬質(zhì)感,以滿足外殼的外觀色質(zhì)需要,從而形成具有豐富色彩與良好金屬質(zhì) 感的裝置。
綜上所述,本發(fā)明符合發(fā)明專利的要件,爰依法提出專利申請(qǐng)。惟,以上所述者僅 為本發(fā)明的較佳實(shí)施例,自不能以此限制本案的權(quán)利要求范圍。舉凡熟悉本案技藝的人士, 于援依本案發(fā)明精神所作的等效修飾或變化,皆應(yīng)包括于權(quán)利要求范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種具有色彩的殼體,其特征在于一基材,所述基材的表面包含至少一平滑區(qū)域;以及一色彩層,覆蓋所述基材的所述平滑區(qū)域,其中于所述平滑區(qū)域所呈現(xiàn)的色度區(qū)域于 CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于81. 43至83. 43,a*坐標(biāo)介于0. 30至1. 30,而b*坐標(biāo)介 于 2. 11 至 3. 11。
2.如權(quán)利要求1所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述基材為金屬材料或陶瓷材料。
3.如權(quán)利要求1所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述色彩層包含氮化鉻。
4.如權(quán)利要求3所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述色彩層于一物理氣相沉積制 程中利用一鉻靶材所形成。
5.如權(quán)利要求1所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述色彩層包含氮化鉻。
6.如權(quán)利要求1所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述具有色彩的殼體的維氏硬度 (Vickers hardness)大于等于 500HV。
7.如權(quán)利要求1所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述基材的表面更包含一霧狀區(qū) 域,所述色彩層覆蓋所述霧狀區(qū)域。
8.如權(quán)利要求1所述的具有色彩的殼體,其特征在于所述基材的表面更包含多數(shù)個(gè)拉 絲狀微結(jié)構(gòu),所述色彩層覆蓋所述拉絲狀微結(jié)構(gòu)。
9.一種具有色彩的殼體的表面處理方法,其特征在于提供一基材;以及形成一色彩層,覆蓋所述基材的表面,其中所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表 色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于81. 43至83. 43,a*坐標(biāo)介于0. 30至1. 30,而b*坐標(biāo)介于2. 11至 3. 11。
10.如權(quán)利要求9所述的表面處理方法,其特征在于所述基材為金屬材料與陶瓷材料。
11.如權(quán)利要求9所述的表面處理方法,其特征在于形成所述色彩層的步驟包含一物 理氣相沉積制程。
12.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程包含利用 一鉻靶材進(jìn)行濺鍍,而所述色彩層包含氮化鉻。
13.如權(quán)利要求12所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程轟擊所述 鉻靶材的功率介于18至22千瓦。
14.如權(quán)利要求12所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程轟擊所述 鋁靶材的功率介于27至33千瓦。
15.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程的偏壓介 于180至220伏特。
16.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程溫 度介于攝氏180至220度。
17.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程時(shí) 間介于54至66分鐘。
18.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程的制程壓 力介于3. 663至4. 477毫托耳。
19.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程包括提供 氬氣,且氬氣的流量介于M至66標(biāo)準(zhǔn)立方公分每分鐘(standard cubiccentimeter per minute, sccm)。
20.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述物理氣相沉積制程包括提供 氮?dú)猓业獨(dú)獾牧髁拷橛?50至550sccm。
21.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述基材于所述物理氣相沉積制 程中的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于2. 7至3. 3轉(zhuǎn)速每分鐘(revolution per minute, rpm)
22.如權(quán)利要求11所述的表面處理方法,其特征在于所述基材于所述物理氣相沉積制 程中的自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速介于-3. 3至-2. 7rpm。
全文摘要
一種具有色彩的殼體及其表面處理方法,包含基材與色彩層?;牡谋砻姘辽僖黄交瑓^(qū)域,而色彩層覆蓋基材的平滑區(qū)域,其中色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于81.43至83.43,a*坐標(biāo)介于0.30至1.30,而b*坐標(biāo)介于2.11至3.11。
文檔編號(hào)B44C1/04GK102137568SQ20101030080
公開日2011年7月27日 申請(qǐng)日期2010年1月27日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月27日
發(fā)明者凌維成, 吳佳穎, 廖名揚(yáng), 張慶州, 洪新欽, 王仲培, 簡(jiǎn)士哲, 蔡泰生, 陳杰良, 魏朝滄, 黃建豪 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司