度來形成圖像。
[0124] 圖16是說明上述第六區(qū)域35的一例的第六區(qū)域35a的截面圖。
[0125] 第六區(qū)域35a由于需要將至少一部分波長區(qū)域的電磁波吸收的功能，因此在第六 區(qū)域35a中形成有凹凸結構37、且在該凹凸結構37的凹部中埋入有電磁波吸收性粒子38。
[0126] 作為電磁波吸收性粒子38,為了電磁波的吸收，適當地選擇吸收所希望的波長區(qū) 域的顏料或染料、金屬粒子等即可。
[0127] 圖17是說明上述第六區(qū)域35的另一個例子的第六區(qū)域35b的截面圖。第六區(qū)域 35b由于需要將至少一部分波長區(qū)域的電磁波吸收的功能，因此具備具有電磁波吸收性的 凹凸結構39、換而言之為低反射性結構或無反射性結構、和層疊在該凹凸結構39的表面上 的電磁波反射層3Y。
[0128] 圖18A~圖18D是表示本發(fā)明的多個圖像顯示體的觀察形態(tài)的示意圖。
[0129] 首先，如圖18A所示，將多個圖像顯示體1、20、30設定在與相對于觀察者81的水 平視線正交的方向更稍向觀察側傾倒的觀察條件82a。在該觀察條件82a下，觀察者81自 平行線阻擋層3側進行觀察時，觀察到圖示右側所示的第一圖像83a。
[0130] 接著，如圖18B所示，將多個圖像顯示體1、20、30設定在設于相對于觀察者81的 水平視線正交的方向上的觀察條件82b。在該觀察條件82b下，觀察者81同樣地自平行線 阻擋層3側進行觀察時，觀察到圖示右側所示的第二圖像83b。
[0131] 進而，如圖18C所示，將多個圖像顯示體1、20、30設定在與相對于觀察者81的水 平視線正交的方向相比稍向觀察側的相反側傾倒的觀察條件82c。在該觀察條件82c下，觀 察者81自平行線阻擋層3側進行觀察時，觀察到圖示右側所示的第三圖像83c。
[0132] 進而，如圖18D所示，將多個圖像顯示體1、20、30設定在與相對于觀察者81的水 平視線正交的方向相比向觀察側的相反側傾倒至略放平的觀察條件82d。在該觀察條件 82d下，觀察者81自平行線阻擋層3側進行觀察時，觀察到圖示右側所示的第一圖像83a。
[0133] 即，通過改變多個圖像顯示體1、20、30的觀察角度，圖像發(fā)生變化，因此可以觀察 到具有連續(xù)動態(tài)的圖像變化。
[0134] (關于多個圖像顯示體1、20、30的層結構、使用材料、制法）
[0135] <用于埋入電磁波散射性粒子或電磁波吸收性粒子的凹凸結構的制法的詳細情 況>
[0136] "熱壓花法"、"流延法"及"光聚合物法"等是將具有成為用于埋入粒子的凹凸結構 12、16、27、37(以下為了說明上的方便以凹凸結構12進行說明）的凹凸圖案的樹脂成型物 連續(xù)地且大量地進行復制的代表性手法。
[0137] 其中，"光聚合物法"(2P法、感光性樹脂法）是將放射線固化性樹脂流入至浮雕型 (微細凹凸圖案的復制用模具）和平坦基材（塑料膜等）之間并用放射線使其固化后、將 該固化膜與基板一起從復制用模具上剝離的方法。由此，可以獲得高精細的微細凹凸圖案。 另外，通過這種方法獲得的光學元件與使用熱塑樹脂的"壓制法"或"流延法"相比、凹凸圖 案的成型精度更為良好、耐熱性或耐藥品性更優(yōu)異。另外，作為更新的制造方法，還有使用 在常溫下為固體狀或高粘度狀的光固化性樹脂進行成型的方法或者添加脫模材料的方法。
[0138] 在凹凸結構12的形成中使用的材料的例子包括丙烯酸系樹脂、環(huán)氧系樹脂、纖維 素系樹脂及乙烯基系樹脂等熱塑性樹脂、在具有反應性羥基的丙烯酸多元醇或聚酯多元醇 等中添加聚異氰酸酯作為交聯劑并進行交聯而得到的聚氨酯樹脂、三聚氰胺系樹脂、環(huán)氧 樹脂及苯酚系樹脂等熱固化樹脂的單獨1種或者將它們復合而成的材料。另外，即便是前 述以外的材料，只要是可用于所述凹凸結構12的形成則也可適當使用。
[0139] 作為光聚合物法中使用的凹凸結構12的材料，可舉出具有烯鍵式不飽和鍵或烯 鍵式不飽和基團的單體、低聚物及聚合物等。作為單體，例如可舉出1，6-己二醇、新戊二醇 二丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季 戊四醇五丙烯酸酯及二季戊四醇六丙烯酸酯等。作為低聚物，可舉出環(huán)氧丙烯酸酯、氨基甲 酸酯丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯等。作為聚合物，可舉出氨基甲酸酯改性丙烯酸樹脂及環(huán)氧 改性丙烯酸樹脂，但并無限制。
[0140] 另外，在利用光陽離子聚合時，可以使用具有環(huán)氧基的單體、低聚物及聚合物、含 氧雜環(huán)丁烷骨架的化合物以及乙烯基醚類。另外，當利用紫外線等的光使上述電離放射線 固化性樹脂固化時，可以添加光聚合引發(fā)劑。還可根據樹脂來選擇光自由基聚合引發(fā)劑、光 陽離子聚合引發(fā)劑或其并用型（混合型）。
[0141] 進而，還可將具有烯鍵式不飽和鍵或烯鍵式不飽和基團的單體、低聚物及聚合物 等混合后使用，或者在其中預先設置反應基團、利用異氰酸酯化合物、硅烷偶聯劑、有機鈦 酸酯交聯材料、有機鋯交聯劑及有機鋁酸鹽等相互間進行交聯，或者在它們中預先設置反 應基團、利用異氰酸酯化合物、硅烷偶聯劑、有機鈦酸酯交聯材料、有機鋯交聯劑及有機鋁 酸鹽等與其他樹脂骨架進行交聯。為這種方法時，由于具有烯鍵式不飽和鍵或烯鍵式不飽 和基團的聚合物在常溫以固形存在、粘附很少，因此還可獲得成型性良好、底版污染少的聚 合物。
[0142] 作為光自由基聚合引發(fā)劑，例如可舉出苯偶姻、苯偶姻甲基醚及苯偶姻乙基醚等 苯偶姻系化合物，蒽醌及甲基蒽醌等蒽醌系化合物，乙酰苯、二乙氧基乙酰苯、二苯甲酮、羥 基乙酰苯、1-羥基環(huán)己基苯基酮、α-氨基乙酰苯及2-甲基-1-(4-甲基硫代苯基）-2_嗎 啉代丙烷-1-酮等苯基酮系化合物，芐基二甲基縮酮、噻噸酮、?；趸⒁约懊资贤?。
[0143] 作為使用可發(fā)生光陽離子聚合的化合物時的光陽離子聚合引發(fā)劑，可以使用芳香 族重氮鑰鹽、芳香族碘鑰鹽、芳香族锍鹽、芳香族鱗鹽及混合配位基金屬鹽等。當為并用光 自由基聚合和光陽離子聚合的所謂混合型材料時，可以將各個聚合引發(fā)劑混合后使用，另 外還可以使用具有用一種引發(fā)劑引發(fā)這兩種聚合的功能的芳香族碘鑰鹽及芳香族锍鹽等。
[0144] 放射線固化樹脂與光聚合引發(fā)劑的配合一般通過配合0. 1~15質量％來獲得，但 根據材料適當配比即可。樹脂組合物中還可進一步與光聚合引發(fā)劑組合并用增感色素。另 外，還可根據需要含有染料、顏料、各種添加劑（阻聚劑、流平劑、消泡劑、防垂劑、附著提高 劑、涂面改性劑、增塑劑、含氮化合物等）及交聯劑（例如環(huán)氧樹脂等）等，另外為了提高成 型性還可添加非反應性的樹脂（包括前述的熱塑性樹脂或熱固化性樹脂）。
[0145] 另外，在所應用的制造方法中，考慮能夠成型、具有一定程度的流動性以及成型后 的涂膜可獲得所希望的耐熱性或耐藥品性來對材料進行選擇即可。
[0146] 在設置形成凹凸結構12的層（以下稱作凹凸結構形成層）時，也可以利用涂布 法，此時將"凹凸結構形成層"的材料涂布在支撐基材上即可。特別是為濕式涂布時，能夠 以低成本進行涂飾。另外。為了調整涂飾膜厚，可以對利用溶劑進行了稀釋者進行涂布干 燥。
[0147] 作為上述支撐基材，優(yōu)選膜基材。例如可以使用PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯）、 PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯）及PP(聚丙烯）等塑料膜。優(yōu)選使用因在微細凹凸圖案的成型 時所施加的熱或壓力、電磁波所導致的變形或變質少的材料。另外，根據需要也可以使用紙 張或合成紙、以及塑料復層紙或樹脂含浸紙等作為支撐基材。
[0148] "凹凸結構形成層"的厚度優(yōu)選是凹凸結構12的凹部的深度的1. 5~10倍的厚 度、更優(yōu)選是2~5倍的厚度。雖然取決于制造方法，但當涂膜過厚時，會導致因加工時的 加壓導致的樹脂的滲出或者產生皺褶，當厚度極薄時，流動性缺乏、無法充分的成型。
[0149] 另外，"凹凸結構12的凹部的深度"根據所希望的填充粒子的粒徑進行選擇即可。 優(yōu)選具有與所填充的粒子的最大粒子徑相比為1~10倍的深度的凹部，優(yōu)選形成凹凸結構 12之前的"凹凸結構形成層"膜厚是"凹部深度"的1. 5~10倍的厚度、更優(yōu)選是2~5倍 的厚度。
[0150] 使所得"凹凸結構形成層"與形成了所希望的凹凸結構的浮雕形狀的"浮雕底版" 相接觸后，如果需要利用熱、壓力及電磁波將浮雕底版的形狀轉印至微細凹凸結構形成層 的單側。另外，還可在"凹凸結構形成層"的正反面形成浮雕形狀。
[0151] 另外，對于浮雕底版的制作方法，可以利用公知的方法，只要是卷狀的底版，則可 進行連續(xù)成型。
[0152] <在凹凸結構12中埋入粒子的制法的詳細情況>
[0153] 在凹凸結構形成層的單側制作用于填充粒子的凹凸結構12之后，在凹凸結構12 的整個面上涂布所填充的微粒的稀釋溶液。此時，若有固定粒子的必要性，則也可添加能夠 溶解在稀釋溶液中的粘合劑。所使用的粘合劑可以是熱塑性樹脂、熱固化性樹脂及電磁波 固化性樹脂中的任一種，也可是其混合物。
[0154] 之后，可以通過利用氣刀、刮棒及刮刀等的摩擦，使粒子僅填充在凹凸結構12的 凹部中。還可以使粒子的稀釋溶液中使用的溶劑揮發(fā)、為了使粘合劑固化而施加熱量或者 照射電磁波。
[0155] <具有電磁波散射功能的凹凸結構14的制法的詳細情況>
[0156] 具有電磁波散射功能的凹凸結構14具有使電磁波散射的特征。由凹凸結構14帶 來的電磁波的散射依賴于其凹凸周期。凹凸周期為一定的凹凸結構具有在為衍射散射時、 對特定方向的散射強度增強而對特定方向的散射強度顯著減弱的指向性，因而不適于本發(fā) 明的多個圖像顯示體。
[0157] 以所散射的電磁波的波長的I. 0~10倍程度范圍的無規(guī)周期且在平面上具有無 規(guī)方向性的周期的凹凸結構由于具有任何入射角的電磁波（任意波長范圍的電磁波）對平 面的散射均為各向同性（相對于入射點、以大致半球狀散射）的特性，因此優(yōu)選制成這種凹 凸結構14。
[0158] 其中，具有電磁波散射功能的凹凸結構14的制法與用于埋入電磁波散射性粒子 或電磁波吸收性粒子的凹凸結構12的制法的詳細情況相同。即，通過對具有有上述散射特 性的凹凸結構的底版進行壓模的方法，可以制造具有電磁波散射功能的凹凸結構14。
[0159] <具有電磁波吸收功能的凹凸結構（例如凹凸結構18)的制法的詳細情況>
[0160] 具有電磁波吸收功能的凹凸結構具有吸收電磁波的特征。一般來說，通過以短于 想要吸收的電磁波波長的周期制作的衍射光柵，可以達成具有電磁波吸收功能的凹凸結 構。作為亞波長光柵已知的結構由于具有封閉電磁波的效果，因此可作為本發(fā)明的具有電 磁波吸收性的凹凸結構進行利用。
[0161] 另外，高長寬比的蠅眼狀的無反射結構等也可作為本發(fā)明的電磁波吸收性的凹凸 結構進行利用。
[0162] 此外，具有電磁波吸收功能的凹凸結構的制法與用于埋入電磁波散射性粒子及電 磁波吸收性粒子的凹凸結構的制法的詳細情況相同。即，通過對前述具有電磁波吸收特性 的凹凸結構的底版進行壓模的方法，可以制造具有電磁波吸收功能的凹凸結構。
[0163] <關于電磁波散射性粒子13 >
[0164] 在粒子中添加粘合劑時或者在特定樹脂層中含有粒子時，當粒子的折射率與粘合 劑的折射率之間、或者粒子的折射率與保持該粒子的樹脂層的折射率之間有差時，可獲得 粒子與粘合劑或與樹脂的界面處的散射特性，由此發(fā)生電磁波的散射。此時的折射率之差 優(yōu)選為0.2以上。通過使折射率之差為0.2以上，發(fā)生散射。另外，粒子也可以是空氣或氣 體。當樹脂中具有微小的氣泡或氣體泡時，由于與樹脂的折射率之差而發(fā)生散射。
[0165] 由粒子帶來的電磁波的散射根據尺寸參數而分類為瑞利散射、米氏散射及衍射散 射。采用使所希望的波長區(qū)域發(fā)生所希望的散射的尺寸參數分布即可。
[0166] <關于電磁波反射層15、19、29'、39' >
[0167] 沿著電磁波散射性凹凸結構14、29或電磁波吸收性凹凸結構18、39的凹凸表面設 置的反射層15、19、29'、39'具有使電磁波反射的特征。使光反射時，使用具有比形成凹凸 結構的樹脂層的折射率更高的折射率的材料即可。此時，兩層的折射率之差優(yōu)選為0.2以 上。通過使折射率之差為0.2以上，在"凹凸結構形成層"與"反射層15、19、29'、39' "的 界面上引起折射及反射。
[0168] 作為反射膜的材料，可舉出Al、Sn、Cr、Ni、Cu、Au及Ag等金屬材料的單體或者它 們的化