1.一種納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽，其特征在于，所述納米顆粒雙層防偽標(biāo)簽從上至下依次包括標(biāo)簽面層、揭開(kāi)層和標(biāo)簽底層，揭開(kāi)層涂覆于標(biāo)簽面層背面，并通過(guò)帶膠粘附于標(biāo)簽底層正面，所述標(biāo)簽面層正面設(shè)有防偽圖文、第一彩色可變二維碼和納米顆粒，揭開(kāi)層的背面設(shè)有圖文、第二彩色可變二維碼和納米顆粒，所述第一彩色可變二維碼和第二彩色可變二維碼相同，所述納米顆粒表面有防偽信息；
所述揭開(kāi)層為透明的上光油涂層。
2.如權(quán)利要求1所述的納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽，其特征在于，所述標(biāo)簽面層材質(zhì)為銅塑紙或PET。
3.如權(quán)利要求1所述的納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽，其特征在于，所述標(biāo)簽底層材質(zhì)為格拉辛底紙。
4.如權(quán)利要求1所述的納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽，其特征在于，所述防偽圖文為紐索團(tuán)花、冷燙團(tuán)花、浮雕和圖文中的至少一種。
5.制備權(quán)利要求1-4任意一項(xiàng)所述納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽的方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：
(1) 在涂布機(jī)上對(duì)標(biāo)簽面層正面進(jìn)行涂布處理，再于羅鐵機(jī)上印刷防偽圖文，數(shù)碼機(jī)上打印第一彩色可變二維碼；
(2) 采用上光機(jī)在標(biāo)簽面層背面上光油，再采用涂布機(jī)進(jìn)行涂布處理，數(shù)碼機(jī)打印圖文和第二彩色可變二維碼，形成揭開(kāi)層；
(3) 將直徑為0.3-0.5毫米的納米顆粒與膠水按1：2000的重量比混合均勻，并加入帶膠機(jī)中，通過(guò)帶膠機(jī)將揭開(kāi)層與標(biāo)簽底層復(fù)合；
(4) 將直徑為0.2-0.3毫米的納米顆粒與水晶光油按1：288的重量比混合均勻，并加入絲網(wǎng)印刷機(jī)中，于標(biāo)簽面層正面特定部位進(jìn)行絲網(wǎng)印刷，從而使得該部位附著納米顆粒；
(5) 模切成型，并在標(biāo)簽面層正面進(jìn)行防揭刀花處理，再經(jīng)成品檢驗(yàn)，包裝即可。
6.如權(quán)利要求5所述納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽的制備方法，其特征在于，步驟(2)中所述上光油時(shí)的溫度為120℃，上光機(jī)的轉(zhuǎn)速為21米/分鐘。
7.如權(quán)利要求5所述納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽的制備方法，其特征在于，步驟(1)和步驟(2)中所述的涂布溫度依次為60℃、70℃、100℃、100℃、70℃和60℃，涂布速度為22米/分鐘。
8.如權(quán)利要求5所述納米顆粒揭開(kāi)留底防偽標(biāo)簽的制備方法，其特征在于，步驟(3)中所述帶膠機(jī)采用四組烘干，烘干溫度依次為60℃、100℃、100℃和60℃，涂膠厚度為0.03毫米。