技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及光學(xué)防偽領(lǐng)域,公開(kāi)了一種光學(xué)防偽元件及其制備方法,該方法包括:在基材的同一表面上形成具有第一區(qū)域和第二區(qū)域的起伏結(jié)構(gòu)層,其中所述第一區(qū)域中的起伏結(jié)構(gòu)表面的比體積小于所述第二區(qū)域中的起伏結(jié)構(gòu)表面的比體積;在所述起伏結(jié)構(gòu)層上形成鍍層;在所述鍍層上形成保護(hù)層,且所述保護(hù)層在所述第一區(qū)域中的最小厚度大于所述保護(hù)層在所述第二區(qū)域中的最小厚度;以及將所述光學(xué)防偽元件置于能與所述鍍層反應(yīng)的氛圍中,直到所述第二區(qū)域中的鍍層被完全或者部分腐蝕但所述第一區(qū)域中的鍍層得以保留為止。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單,生產(chǎn)高效,成本低廉,且能夠?qū)崿F(xiàn)鍍層的精準(zhǔn)鏤空并提高防偽效果。
技術(shù)研發(fā)人員:胡春華;吳遠(yuǎn)啟;李欣毅;朱軍;張巍巍;張昊宇
受保護(hù)的技術(shù)使用者:中鈔特種防偽科技有限公司;中國(guó)印鈔造幣總公司
文檔號(hào)碼:201510954137
技術(shù)研發(fā)日:2015.12.17
技術(shù)公布日:2017.06.27