專利名稱：陰圖制版可成像元件的疊層的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及被提供用于運(yùn)輸、貯存或使用的陰圖制版平版印版前驅(qū)體疊層，在所述前驅(qū)體之間無襯紙。
背景技術(shù)：
輻射敏感組合物常規(guī)用于制備包括平版印版前驅(qū)體在內(nèi)的可成像材料。此類組合物通常包含輻射敏感組分、引發(fā)劑體系和粘合劑(binder)，其中的每一個(gè)一直是研究的焦點(diǎn)，以提供在物理性質(zhì)、成像性能以及圖像特征方面的各種改進(jìn)。印版前驅(qū)體領(lǐng)域中的最近開發(fā)涉及使用輻射敏感組合物，其可以借助激光器或激光二極管來成像，更尤其，其可以在印刷機(jī)上(on-press)成像和/或顯影。激光曝光不需要常規(guī)的鹵化銀制版軟片作為中間信息載體(或“掩模(masks)”)，因?yàn)榭赏ㄟ^計(jì)算機(jī)來直接控制激光器。商業(yè)上可得的圖文影排機(jī)中使用的高性能激光器或激光二極管通常發(fā)射波長為至少700nm的輻射，因此要求輻射敏感組合物在電磁波譜的近紅外或紅外區(qū)敏感。然而，將其他有用的輻射敏感組合物設(shè)計(jì)用于用紫外線或可見光輻射成像。存在兩種可能的使用輻射敏感組合物來制備印版的方式。對(duì)于陰圖制版印版而言，輻射敏感組合物中的曝光區(qū)被硬化，且未曝光區(qū)在顯影過程中被沖洗掉。對(duì)于陽圖制版印版而言，曝光區(qū)溶解在顯影劑中，且未曝光區(qū)變成圖像。各種陰圖制版輻射組合物和可成像元件描述在美國專利6，309，792 (Hauck等)、 6，569，603 (Furukawa)、6，893，797 (Munnelly 等)、6，787，281 (Tao 等)和 6，899，994 (Huang 等)；美國專利申請(qǐng)公布 2003/0118939 (West 等),2005/0008971 (Mitsumoto 等)和 2005/0204943 (Makino 等)；以及 EP 1，079，276A (Lifka 等)、EP 1，182，033A (Fujimaki 等) 和 EP 1，449，650A (Goto)中。通常，以多個(gè)元件(通常數(shù)百個(gè)元件)的疊層將平版印版前驅(qū)體供應(yīng)給消費(fèi)者，其中襯紙(interleaf paper)(或薄襯紙(slip sheet))位于相鄰的前驅(qū)體之間以防止彼此粘附以及在可成像面(side)上的劃擦。沒有此類襯紙，在工廠加工作業(yè)、運(yùn)輸、貯存期間或者在印版記錄機(jī)裝置中使用期間，可能發(fā)生對(duì)可成像面的損害。對(duì)消除使用襯紙以減少浪費(fèi)以及簡化進(jìn)入成像裝置中的裝載過程存在需求。進(jìn)行此工作的一種方法描述在EP 1,865, 380 (Endo)中，其中將涂布二氧化硅的聚合物顆粒加入到外涂層中。有機(jī)填料顆粒以類似的方式用于EP 1，839，853 (Yanaka等)的材料中。發(fā)明概述本發(fā)明提供包含多個(gè)陰圖制版平版印版前驅(qū)體的疊層，其中每個(gè)前驅(qū)體包含其上具有單一可成像層和最外外涂層的含鋁襯底，該最外外涂層具有等于或小于lg/m2的涂布干重(dry coating weight)，其中所述襯底的非成像背面不含聚合物涂層，并且在縱向和寬度方向均具有大于 0. 15 μ m的平均表面粗糙度(Ra)，其中每個(gè)下面的(underlying)前驅(qū)體的可成像面被設(shè)置為與其上面的前驅(qū)體的含鋁襯底直接接觸，而在前驅(qū)體之間不使用襯紙。我們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)消除使用襯紙并避免在最外外涂層中使用微粒材料的方法。我們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，如果每個(gè)前驅(qū)體具有涂布干重為lg/m2或更小的外涂層，則在平版印版前驅(qū)體的疊層中可以避免襯紙。本發(fā)明還避免在含鋁襯底的背面上使用聚合物涂層。發(fā)明詳述除非上下文另外指出，當(dāng)在本文使用時(shí)，術(shù)語“陰圖制版平版印版前驅(qū)體”和“印版前驅(qū)體”意在參考有用于本發(fā)明的疊層中的實(shí)施方式。另外，除非上下文另外指出，本文描述的各組分，例如“聚合物粘合劑”、“可自由基聚合組分”、“吸收輻射的化合物”及類似術(shù)語也指此類組分的混合物。因此，冠詞“一個(gè) (a)”、“一種(an)”和“該(the) ”的使用不必需意味著僅指單一組分。此外，除非另外指出，百分比指干重百分比。對(duì)于與聚合物相關(guān)的任何術(shù)語的定義說明，應(yīng)當(dāng)參考如由國際純粹與應(yīng)用化學(xué)聯(lián)合會(huì) international Union of Pure and Applied Chemistry) ( “ IUPAC “) 出版的“Glossary of Basic Terms in Polymer Science " (Pure App1. Chem. 68, 2287-2311 (1996))。然而，在本文明確闡述的任何定義應(yīng)當(dāng)視為是支配性的。術(shù)語"聚合物"指高分子量和低分子量聚合物，包括低聚物、均聚物和共聚物。術(shù)語"共聚物"指衍生自兩種或更多種不同單體的聚合物。術(shù)語"主鏈"指聚合物中的原子(碳或雜原子)鏈，其與多個(gè)側(cè)基連接。此類主鏈的一個(gè)實(shí)例是從一種或更多種烯鍵式不飽和可聚合單體的聚合獲得的“全碳”主鏈。然而，其他主鏈可包括雜原子，其中通過縮合反應(yīng)或一些其他方法來形成聚合物。在本發(fā)明的實(shí)踐中使用的陰圖制版平版印版前驅(qū)體可以是任何所需的構(gòu)造、組成、襯底和層結(jié)構(gòu)，只要最外外涂層具有本文所述的所需干覆蓋量(drycoverage)。例如， 這些前驅(qū)體可對(duì)250至HOOnm的寬范圍內(nèi)的成像輻射敏感，但是它們更有可能對(duì)250至 450nm或700至1400nm的成像輻射敏感。另外，每個(gè)平版印版前驅(qū)體可以是可在印刷機(jī)上(on-press)顯影的，或者被設(shè)計(jì)用于脫離印刷機(jī)(off-press)顯影?？稍谟∷C(jī)上顯影前驅(qū)體中的一些具有包含聚合物粘合劑的可成像層，所述聚合物粘合劑具有與側(cè)掛的聚環(huán)氧烷側(cè)鏈和/或氰基連接的主鏈， 并且任選以離散顆粒的形式存在。在平版印版前驅(qū)體中，存在含鋁襯底，其上布置有單一可成像層和最外外涂層，其中所述單一可成像層包含可自由基聚合組分；弓丨發(fā)劑組合物，其一經(jīng)暴露于成像紅外輻射就能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基；聚合物粘合劑；和吸收輻射的化合物，其可以是吸收紅外輻射的染料。有用的可成像層組合物及其制備和用途的細(xì)節(jié)在下述專利、公布和共同未決的專利申請(qǐng)中提供美國專利7，妨2，638 (Yu等)，美國專利申請(qǐng)公布2008/0254387 (Yu等)，美國序列號(hào)11/756,036，由忉等于2007年5月31日提出，美國序列號(hào)11/762，沘8，由忉等于2007年6月13日提出，
美國序列號(hào)12/104，544，由Ray等于2008年4月17日提出，和美國序列號(hào)12/177,208，由Yu等于2008年7月22日提出。一般而言，所述陰圖制版平版印版前驅(qū)體具有設(shè)置(disposite)在合適的襯底上的輻射敏感組合物，以形成可成像層。在很多實(shí)施方式中，輻射敏感組合物是紅外輻射敏感的。輻射敏感組合物(和可成像層)包含一種或更多種可自由基聚合組分，其中的每一種含有一種或更多種可利用自由基引發(fā)而聚合的可自由基聚合基團(tuán)。例如，此類可自由基聚合組分可含有一種或更多種可自由基聚合單體或低聚物，所述單體或低聚物具有一種或更多種可加成聚合的烯鍵式不飽和基團(tuán)、可交聯(lián)烯鍵式不飽和基團(tuán)、可開環(huán)聚合基團(tuán)、疊氮基團(tuán)、芳基重氮鹽基團(tuán)、芳基重氮磺酸鹽/酯(aryldiazosulfonate)基團(tuán)或其組合。類似地，也可以使用具有此類可自由基聚合基團(tuán)的可交聯(lián)聚合物?？梢跃酆匣蚪宦?lián)的合適的烯鍵式不飽和組分包括具有一種或更多種可聚合基團(tuán)的烯鍵式不飽和可聚合單體，包括醇的不飽和酯，例如多元醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。 也可以使用低聚物或預(yù)聚物，例如氨基甲酸酯丙烯酸酯和氨基甲酸酯甲基丙烯酸酯、環(huán)氧化物丙烯酸酯和環(huán)氧化物甲基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯和聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯和聚醚甲基丙烯酸酯、以及不飽和聚酯樹脂。在一些實(shí)施方式中，可自由基聚合組分包含羧基。有用的可自由基聚合組分包括可自由基聚合的單體或低聚物、或者可自由基交聯(lián)的聚合物，所述可自由基聚合的單體或低聚物包含可加成聚合的烯鍵式不飽和基團(tuán)(其包括多個(gè)丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯基團(tuán)及其組合)?？勺杂苫酆匣衔锇ㄑ苌跃哂卸鄠€(gè)可聚合基團(tuán)的脲氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯的那些。 例如，可通過使基于六亞甲基二異氰酸酯的DESM0DUR m00脂族聚異氰酸酯樹脂(Bayer Corp.，Milford, Conn.)與丙烯酸羥乙酯和三丙烯酸季戊四醇酯反應(yīng)來制備可自由基聚合組分。有用的可自由基聚合化合物包括可得自Kowa American的NK Ester A_DPH(六丙烯酸二季戊四醇酯)；以及Sartomer 399 (五丙烯酸二季戊四醇酯)、Sartomer ；355 ( 二-三羥甲基丙烷四丙烯酸酯)、Sart0mer四5 (四丙烯酸季戊四醇酯)和Sartomer 415 [乙氧基化00)三羥甲基丙烷三丙烯酸酯]，它們可得自Sartomer Company, Inc.。很多其他的可自由基聚合組分是本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的，并且被描述在相當(dāng)多的文獻(xiàn)中，包括Photoreact ive Polymers :The Science and TechnoloRY of Resists, A Reiser, Wiley, New York,1989, pp. 102-177, B.M.Monroe 的 Radiation CurinR :Science and Technology, S. P. Pappas 編，Plenum, New York, 1992，pp. 399—440，禾口 k. B. Cohen 禾口 P. Walker 的"Polymer Imaging " (ImaRinR Processes and Material. J. M. Sturge 等編，Van Nostrand Reinhold, New York，1989，pp. 226-262)。例如，有用的可自由基聚合組分也描述在EP 1，182，033A1 (上述)中，開始于第W170]段；以及描述在美國專利 6，309，792 (Hauck 等)、6，569，603 (Furukawa)和 6，893，797 (Munnelly 等)中。其他有用的可自由基聚合組分包括描述在共同未決以及共同轉(zhuǎn)讓的美國專利公布No. 2009/0142695 (Bauman等)中的那些，其包括IH-四唑基團(tuán)。除了上述可自由基聚合組分之外，或代替上述可自由基聚合組分，輻射敏感組合物可包含聚合物材料，其包含與主鏈連接的側(cè)鏈，所述側(cè)鏈包含可響應(yīng)由引發(fā)劑組合物(下面描述)產(chǎn)生的自由基而聚合(交聯(lián))的一種或更多種可自由基聚合基團(tuán)(例如烯鍵式不飽和基團(tuán))。每分子中可存在這些側(cè)鏈中的至少兩種?？勺杂苫酆匣鶊F(tuán)(或烯鍵式不飽和基團(tuán))可以是與聚合物主鏈連接的一部分脂族或芳族丙烯酸酯側(cè)鏈。一般而言，每分子存在至少2個(gè)且至多20個(gè)此類基團(tuán)，或通常每分子存在2-10個(gè)此類基團(tuán)。此類可自由基聚合聚合物還可包含親水基團(tuán)，其包括但不限于羧基、磺基或二氧磷基(phospho groups)，它們或者直接與主鏈連接或者作為除可自由基聚合的側(cè)鏈之外的側(cè)鏈的一部分而連接。包含可以以這種方式使用的聚合物的有用商業(yè)產(chǎn)品包括Bayhydrol UV VP LS 2280、Bayhydro 1 UV VP LS 2282、Bayhydro 1 UV VP LS 2317,Bayhydro 1 UV VP LS 2348 和 Bayhydrol UV XP 2420 (它們都可得自 Bayer MaterialScience)、以及 Laromer LR 8949、Laromer LR 8983 和 Laromer LR 9005 (它們都可得自 BASF)?；诳沙上駥拥目偢芍赜?jì)，所述一種或更多種可自由基聚合組分(單體的、低聚的或聚合的)可以以至少IOwt%且至多80wt% (通常為20至50wt%)的量存在于可成像層中?？勺杂苫酆辖M分與總聚合物粘合劑(下面描述)的重量比通常為5 95至95 5， 典型為10 90至90 10，或者甚至為30 70至70 30。輻射敏感組合物還包含引發(fā)劑組合物，其包含一種或更多種引發(fā)劑，一經(jīng)將組合物暴露于成像輻射，所述引發(fā)劑就能夠產(chǎn)生足以引發(fā)所有各種可自由基聚合組分的聚合的自由基。引發(fā)劑組合物通常響應(yīng)對(duì)應(yīng)于250至450nm或至少700nm且至多并包括1400nm (典型為750至1250nm)的光譜范圍的成像輻射。使用適合于一種或更多種所需成像波長的引發(fā)劑組合物。例如，引發(fā)劑組合物可響應(yīng)對(duì)應(yīng)于至少250nm且至多并包括450nm(典型為300至 475nm)的光譜范圍的UV(或紫色(violet))成像輻射。使用適合于一種或更多種所需成像波長的引發(fā)劑組合物。有用的引發(fā)劑組合物包括但不限于選自下面描述的下述種類化合物(A)至(H)中任何種的一種或更多種化合物，或者一種或更多種來自多種化合物的化合物(A)茂金屬是具有一個(gè)或更多個(gè)環(huán)戊二烯基配體的有機(jī)金屬化合物，其任選在一個(gè)或所有環(huán)碳上被取代。五元配體環(huán)中的每個(gè)碳與過渡金屬中心配位。已知茂金屬具有各種各樣過渡金屬，包括鐵、鈦、鎢、鉬、鎳、鈷、鉻、鋯和錳。(B)吖嗪，例如，如在例如美國專利6，936，384 (Murmelly等)中所描述。這些化合物是含有由碳和氮原子形成的6元環(huán)的有機(jī)雜環(huán)化合物。吖嗪化合物包括雜環(huán)基團(tuán)，例如吡啶、二嗪和三嗪基團(tuán)；以及具有與一個(gè)或更多個(gè)芳環(huán)(例如碳環(huán)芳環(huán))稠合的吡啶、二嗪或三嗪取代基的多環(huán)化合物。因此，吖嗪化合物包括例如具有喹啉、異喹啉、苯并二嗪或萘并二氮苯(napthodiazine)取代基的化合物。單環(huán)和多環(huán)吖嗪化合物都是有用的。鹵代甲基取代的三嗪(例如三鹵代甲基三嗪)在引發(fā)劑組合物中是有用的。此種類型的代表性化合物包括但不限于1，3，5_三嗪衍生物，例如具有1至3個(gè)-QC3基團(tuán)的那些，其中X獨(dú)立地表示氯或溴原子，包括多鹵代甲基取代的三嗪和其他三嗪，例如2， 4-三氯甲基-6-甲氧苯基三嗪、2-苯基-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪、2-甲基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(苯乙烯基-4，6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對(duì)甲氧基苯乙烯基)-4，6_雙(三氯甲基)-s_三嗪、2-(4-甲氧基-萘-1-基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪、2-(4-乙氧基萘-1-基)_4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪和2- (4- (2-乙氧乙基)-萘-1-基)-4，6-雙(三氯甲基)-S-三嗪]、2- (4-甲基噻吩基)-4，6-雙(三氯甲基)-2-三嗪、2-(4-氯苯基-4，6-雙(三氯甲基)_2_三嗪、2， 4，6-三(三氯甲基)-2-三嗪和2，4，6-三(三溴甲基)-2-三嗪。(C)過氧化物(例如過氧化苯甲酰)和氫過氧化物(例如枯基過氧氫)以及其他在例如EP 1，035, 435 (Sorori等)中描述的有機(jī)過氧化物。(D)2，4，5_三芳基咪唑基二聚體(也稱為六芳基聯(lián)咪唑或〃 ΗΑΒΓ s〃)，如例如在美國專利4，565，769 (Dueber等)中所描述。此類化合物的實(shí)例包括但不限于2， 2'-雙(鄰氯苯基)_4，4' ,5,5'-四苯基聯(lián)咪唑和2，2'-雙(鄰氯苯基)_4，4‘ 5， 5'-四(間甲氧基苯基)聯(lián)咪唑。其他有用的"HABI' s"由式(V)描述并且為在WO 07/090550 (Strehmel等)第25-27頁上列舉的實(shí)例，本文引用WO 07/090550，用于公開這些化合物。(E)翰鹽，例如銨、碘鎮(zhèn)、锍鹽、磷翰、oxylsulfoxonium、氧锍(oxysulfonium)、 重氮鹽(diazoniunOJBft" (selenonium)、砷(arsenonium)和吡啶鐺鹽。有用的碘錯(cuò)鹽在本領(lǐng)域中是眾所周知的并且包括但不限于美國專利申請(qǐng)公布2002/0068241 (Oohashi 等)、WO 2004/101280 (Munnelly 等)、以及美國專利 5，086, 086 (Brown-Wensley 等)、 5，965，319 (Kobayashi)和6，051，366 (Baumann等)。例如，合適的磷績鹽包括具有四個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的超價(jià)(hypervalent)磷原子。合適的锍鹽(如三苯基锍鹽)包括具有三個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的超價(jià)硫。合適的重氮鹽具有帶正電的偶氮基(即-N = N+)。合適的銨鹽包括具有四個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的氮原子(如取代的季銨鹽)、以及季氮雜環(huán) (如N-烷氧基吡啶鐺鹽)。合適的鹵翰鹽(halonium salts)包括具有兩個(gè)有機(jī)取代基的帶正電的超價(jià)鹵原子。錯(cuò)鹽通常包括合適數(shù)目的帶負(fù)電的抗衡離子，例如鹵根、六氟磷酸根、硫代硫酸根、六氟銻酸根、四氟硼酸根、磺酸根、氫氧根(hydroxide)、高氯酸根、正丁基三苯基硼酸根、四苯基硼酸根以及對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員容易顯而易見的其他抗衡離子。鹵翰鹽是有用的翰鹽。(F)肟酯或肟醚，例如衍生自苯偶姻的那些。(G)N-苯基甘氨酸及其衍生物，包括具有另外的羧基并且被認(rèn)為多元羧酸或苯胺基二乙酸的化合物。此類化合物的實(shí)例包括但不限于描述在WO 03/066338 (Timpe等)的
中的N-苯基甘氨酸及甘氨酸衍生物。(H)硫醇化合物，例如雜環(huán)巰基化合物，包括巰基三唑、巰基苯并咪唑、巰基〃惡二唑、巰基四嗪、巰基咪唑、巰基吡啶、巰基〃惡唑、巰基苯并〃惡唑、巰基苯并噻唑、巰基苯并噴二唑、巰基四唑，例如在例如美國專利6，884，568 (Timpe等)中描述的那些。在一些實(shí)施方式中，有用的引發(fā)劑組合物包括2，4，5-三芳基咪唑基二聚體和硫醇化合物的組合，例如2，2'-雙(鄰氯苯基)_4，4' ,5,5'-四苯基聯(lián)咪唑或2，2'-雙 (鄰氯苯基)-4，4' 5,5'-四(間-甲氧基苯基)聯(lián)咪唑與硫醇化合物(如巰基三唑)組合。其他有用的引發(fā)劑組合物可包括鎮(zhèn)鹽(例如如上所述的碘錯(cuò)鹽)與如在例如美國專利6，936，384(上述)中所述的茂金屬(例如二茂鈦或二茂鐵)的組合。還有其他的引發(fā)劑組合物響應(yīng)近紅外和紅外區(qū)(例如從700至1400nm)中的輻射。例如，有用的碘錯(cuò)陽離子在本領(lǐng)域是眾所周知的，包括但不限于美國專利申請(qǐng)公布 2002/0068241 (Oohashi 等)、WO 2004/101280 (Munnelly 等)以及美國專利 5，086，086 (Brown-Wensley 等)、5，965，319(Kobayashi)和 6，051，366(Baumann 等)。例
如，有用的碘錯(cuò)陽離子包括帶正電的碘鎮(zhèn)、(4-甲基苯基K4-(2-甲基丙基)苯基]-部分和合適的帶負(fù)電的抗衡離子。此類碘翰鹽的代表性實(shí)例作為Irgacure 250可得自Ciki Specialty Chemicals (Tarrytown，NY)，其為(4_ 甲基苯基)[4-(2-甲基丙基)苯基]碘錯(cuò)六氟磷酸鹽，并且以75%的碳酸丙烯酯溶液供應(yīng)。因此，碘翰陽離子可以作為一種或更多種碘輸鹽的一部分供應(yīng)，并且如下所述， 碘輸陽離子可以作為還含有合適的含硼陰離子的硼酸碘鏡(iodonium borates)供應(yīng)。例如，碘馀陽離子和含硼陰離子可以作為屬于下述結(jié)構(gòu)(IB)和(IBz)組合的鹽的一部分供應(yīng)，或者碘輸陽離子和含硼陰離子都可以從不同的來源供應(yīng)。然而，如果它們至少從硼酸碘翰鹽供應(yīng)，因?yàn)榇祟慃}通常供應(yīng)1 1的碘翰陽離子與含硼陰離子的摩爾比，因此另外的碘錯(cuò)陽離子必須從其他來源供應(yīng)，例如，從上述碘翰鹽供應(yīng)。一類有用的碘翰陽離子包括由下述結(jié)構(gòu)(IB)表示的二芳基碘餘陽離子
權(quán)利要求
1.疊層，其包含多個(gè)陰圖制版平版印版前驅(qū)體，其中每個(gè)前驅(qū)體包含其上具有單一可成像層和最外外涂層的含鋁襯底，所述最外外涂層具有等于或小于lg/rn2的涂布干重，其中所述襯底的非成像背面不含聚合物涂層并且在縱向和寬度方向均具有大于 0. 15 μ m的平均表面粗糙度(Ra)，并且其中每個(gè)下面的前驅(qū)體的可成像面被布置為與其上面的前驅(qū)體的含鋁襯底直接接觸，而在所述前驅(qū)體之間不使用襯紙。
2.權(quán)利要求1所述的疊層，其包含至少100個(gè)陰圖制版平版印版前驅(qū)體。
3.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述最外外涂層的涂布干重等于或小于0.8g/m2。
4.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述最外外涂層的涂布干重等于或小于0.5g/m2。
5.權(quán)利要求1所述的疊層，其中基于外涂層干重計(jì)，所述最外外涂層包含至少50wt% 的量的一種或更多種親水聚合物。
6.權(quán)利要求1所述的疊層，其中基于外涂層干重計(jì)，所述最外外涂層包含至少90wt% 的量的一種或更多種親水聚合物。
7.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述最外外涂層包含聚乙烯醇作為其主要的聚合物粘合劑。
8.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述平版印版前驅(qū)體中的每一個(gè)對(duì)250至450nm的成像輻射敏感。
9.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述平版印版前驅(qū)體中的每一個(gè)對(duì)700至1400nm的成像輻射敏感。
10.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述平版印版前驅(qū)體中的每一個(gè)是可在印刷機(jī)上顯影的。
11.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述最外外涂層包含平均直徑為1至6μ m的顆粒。
12.權(quán)利要求11所述的疊層，其中所述最外外涂層顆粒包含二氧化硅。
13.權(quán)利要求1所述的疊層，其中所述單一可成像層包含 可自由基聚合組分，引發(fā)劑組合物，其一經(jīng)暴露于成像紅外輻射就能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基，聚合物粘合劑，和吸收輻射的化合物。
14.權(quán)利要求13所述的疊層，其中所述吸收輻射的化合物是吸收紅外輻射的染料。
15.權(quán)利要求13所述的疊層，其中所述聚合物粘合劑具有與側(cè)掛的聚環(huán)氧烷側(cè)鏈和/ 或氰基連接的主鏈，并且任選以離散顆粒的形式存在。
16.權(quán)利要求1所述的疊層，其包含20至800個(gè)所述前驅(qū)體，其中每個(gè)前驅(qū)體的所述單一可成像層包含可自由基聚合組分，引發(fā)劑組合物，其一經(jīng)暴露于成像紅外輻射就能夠產(chǎn)生足以引發(fā)可自由基聚合基團(tuán)的聚合的自由基，聚合物粘合劑，和吸收紅外輻射的染料，和外涂層，其具有小于0. 8g/m2的涂布干重，并且其包含聚乙烯醇。
全文摘要
以疊層提供多個(gè)陰圖制版平版印版前驅(qū)體。每個(gè)前驅(qū)體包含含鋁襯底，其上具有單一可成像層和最外外涂層，該最外外涂層具有等于或小于1g/m2的涂布干重。所述襯底的非成像背面不含聚合物涂層并且在縱向和寬度方向均具有大于0.15μm的平均表面粗糙度(Ra)。另外，每個(gè)下面的前驅(qū)體的可成像面被布置為與其上面的前驅(qū)體的含鋁襯底直接接觸，而在前驅(qū)體之間不使用襯紙。
文檔編號(hào)B41N1/08GK102257433SQ200980151874
公開日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2009年12月7日 優(yōu)先權(quán)日2008年12月17日
發(fā)明者J·L·穆利岡, K·B·雷, S·A·貝克利 申請(qǐng)人:伊斯曼柯達(dá)公司